方 式来配置适用本发明的玻璃罩（光学部件），从而能够更可靠地防止上述结露的问题。
[0099] [第2实施方式]
[0100] 图2是示意性地示出本发明的光学部件的第2实施方式的截面图。在以下说明中， 主要对与上述实施方式不同的地方进行说明，省略对相同事项的说明。
[0101] 如图2所示，本实施方式的光学部件P10具备基材P1和防反射膜P2,但防反射膜 P2的构成与上述第1实施方式不同。即，本实施方式中，防反射膜P2具有多个钛氧化物层 P21和多个氧化硅层P22,具有这些层交替配置的结构。
[0102] 这样，在本发明中，防反射膜可以具有2层以上的、钛氧化物层、氧化硅层中的至 少一者。
[0103] 由此，可以使防反射功能特别优异。
[0104] 特别是，如本实施方式这样，在分别具有多层钛氧化物层P21和氧化硅层P22的情 况下，这样的效果被更显著地发挥。
[0105] 对构成防反射膜P2的多个钛氧化物层P21来说，厚度、组成等条件可以相同，也可 以相互不同。同样地，对构成防反射膜P2的多个氧化硅层P22来说，厚度、组成等条件可以 相同，也可以相互不同。
[0106] 在图2所示的构成中，防反射膜P2具有2层钛氧化物层P21、3层氧化硅层P22,但 对构成防反射膜P2的钛氧化物层P21、氧化硅层P22的层数没有特别限定。
[0107] 构成防反射膜P2的钛氧化物层P21的层数、氧化硅层P22的层数分别为2以上9 以下的情况下，可更显著地发挥上述效果，同时能够以更优异的生产率制造光学部件P10。 另外，可以使光学部件P10的耐久性、透光性等特别优异。
[0108] 另外，如本实施方式这样，防反射膜P2在具有2层以上的、钛氧化物层P21、氧化硅 层P22中的至少一者的情况下，防反射膜P2的厚度优选为20nm以上500nm以下、更优选为 27nm以上380nm以下。
[0109] 由此，可以使防反射功能特别优异。另外，可以使光学部件P10的耐久性、抗静电 功能等特别优异。
[0110] 〈〈光学部件的制造方法》
[0111] 接着，对光学部件的制造方法进行说明。
[0112] 光学部件P10可以利用任意的方法进行制造，本实施方式的制造方法具有以下工 序：准备基材P1的基材准备工序（la);通过气相成膜法形成钛氧化物层P21的钛氧化物层 形成工序（lb);和形成氧化硅层P22的氧化硅层形成工序（lc)。
[0113] 〈基材准备工序〉
[0114] 本工序中，准备基材PI (la)。
[0115] 作为基材P1，可以使用上述基材，也可以使用实施了清洗处理、亲液化处理等预处 理的基材。另外，作为预处理，也可以在不希望形成防反射膜P2的部位进行掩模的形成。这 种情况下，可以具有掩模除去工序作为后处理工序。
[0116] 〈钛氧化物层形成工序〉
[0117] 本工序中，通过气相成膜法形成钛氧化物层P21 (lb)。
[0118] 作为本工序中能够采用的气相成膜法，例如可以举出热CVD、等离子体CVD、激光 CVD等化学蒸镀法（CVD)、真空蒸镀、溅射、离子束辅助蒸镀、离子镀等。通过使用这种气相 成膜法，可以使透光性特别优异。
[0119] 特别是，从成膜装置的构成比较简单、能够形成特性稳定的钛氧化物层P21的方 面考虑，优选离子束辅助蒸镀。
[0120] 另外，在通过离子束辅助蒸镀进行钛氧化物层P21的形成时，作为蒸镀源，例如可 以使用包含钛与上述元素（作为副成分的选自由Nb、Si、Zr、Ta、A1和Hf组成的组中的1 种或2种以上的元素）的复合氧化物的物质，也可以使用包含二氧化钛和上述元素的氧化 物的物质。
[0121] 由此，能够以比较廉价的方式准备钛氧化物层P21的形成用材料（蒸镀源）。另 外，可以容易且可靠地进行钛（Ti)与上述元素的比例的调整等，可以容易且可靠地形成所 期望的组成的钛氧化物层P21。
[0122] 需要说明的是，上述元素也可以在蒸镀源中形成氧化物以外的形态。
[0123] 另外，在通过离子束辅助蒸镀进行本工序的情况下，可以使用两种以上的蒸镀源 来进行。例如，可以将包含钛氧化物的蒸镀源（第1蒸镀源）、与包含上述元素的蒸镀源（与 第1蒸镀源相比，上述元素的含量更高的第2的蒸镀源）合用。
[0124] 由此，可以更可靠地防止下述情况：由于在钛氧化物层P21的形成中所用的两种 以上的成分的蒸发容易性的不同，在所形成的钛氧化物层P21中会产生非本意的组成偏 差，或者在制造多个光学部件P10的情况下，个体间的特性会产生非本意的偏差。另外，通 过调整本工序中的加热条件等（例如，使至少1个蒸镀源的加热温度随时间变化等），可以 使所形成的钛氧化物层P21的组成沿着厚度方向发生变化（例如，倾斜地变化）等。
[0125] 需要说明的是，例如在通过溅射进行本工序的情况下，使用多种靶材时也可得到 与上述同样的效果。
[0126] 〈氧化硅层形成工序〉
[0127] 本工序中，在基材P1上形成氧化硅层P22 (lc)。
[0128] 本工序可以通过任意方法进行，在以致密的层的方式形成氧化硅层P22的情况 下，例如可以适当地使用热CVD、等离子体CVD、激光CVD等化学蒸镀法（CVD)、真空蒸镀、溅 射、离子束辅助蒸镀、离子镀等气相成膜法。通过使用这样的气相成膜法，可以使透光性特 别优异。
[0129] 特别是，从成膜装置的构成比较简单、能够形成特性稳定的氧化硅层P22的方面 考虑，优选离子束辅助蒸镀。
[0130] 另外，在以包含二氧化硅颗粒的方式形成氧化硅层P22的情况下，本工序中，可以 适当地使用包含二氧化硅颗粒和分散二氧化硅颗粒的分散介质的氧化硅层形成用组合物。
[0131] 需要说明的是，在具有2层以上的、钛氧化物层P21、氧化硅层P22中的至少一者的 情况下，可以反复进行上述工序（钛氧化物层形成工序、氧化硅层形成工序）。例如，如图2 所示，防反射膜P2具有氧化硅层P22和钛氧化物层P21交替层积而成的结构时，可以反复 交替地进行氧化硅层形成工序和钛氧化物层形成工序。
[0132] 若利用以上说明的制造方法，则可以高效地制造具备具有优异的防反射功能的防 反射膜的光学部件。
[0133] 〈〈钟表》
[0134] 接着，对本发明的钟表进行说明。
[0135] 本发明的钟表具备上述的本发明的光学部件。
[0136] 由此，可以提供能够适当地目视确认光学部件的背面侧情况的钟表，可以使作为 钟表整体的美丽外观（审美性）优异，可以提高作为装饰品的价值。另外，例如可以提高时 间等的可见性，因此作为实用品的功能（实用性）也优异。另外，可以提供一种钟表，其具 备在具有充分的透光性的同时还具有优异的抗静电功能的光学部件，例如，可以提供可有 效防止静电导致的不良影响的发生的钟表，可以提高作为钟表整体的可靠性。
[0137] 需要说明的是，本发明的钟表只要具备本发明的光学部件作为至少1个光学部件 即可，作为其以外的部件，可以使用公知的部件，下面，代表性地说明将本发明的光学部件 适用于玻璃罩时的钟表的构成的一例。
[0138] 图3是示出本发明的钟表（便携式钟表）的优选实施方式的部分截面图。
[0139] 如图3所不，本实施方式的手表（便携式钟表）P100具备壳体（case)P82、背盖 P83、表框（边）P84、和玻璃罩（钟表用玻璃罩）P85。另外，在壳体P82内收纳有钟表用表 盘（表盘）P7、太阳能电池 P94、和机芯P81，进一步收纳有未图不的针（指针）等。
[0140] 玻璃罩P85由上述的本发明的光学部件构成。
[0141] 由此，可以提高表盘P7、针（指针）等的可见性。另外，表盘P7等是不会对钟表整 体的外观带来大幅影响的部件，但由于在目视确认表盘P7等时可防止不受欢迎的光的反 射，因此可以使作为钟表整体的美丽外观（审美性）特别优异。
[0142] 机芯P81利用太阳能电池 P94的电动势来驱动指针。
[0143] 虽然图3中进行了省略，但在机芯P81内例如具备有：储藏太阳能电池 P94的电动 势的双电层电容器、锂离子二次电池、作为时间基准源的晶体振荡器、基于晶体振荡器的振 荡频率而产生驱动钟表的驱动脉冲的半导体集成电路、接受该驱动脉冲而每一秒驱动指针 的步进电机、将步进电机的运动传递至指针的轮系机构等。
[0144] 另外，机芯P81具备未图示的无线电接收用的天线。并且，具有利用接收的电波进 行时刻调整等的功能。
[0145] 太阳能电池 P94具有将光能转换为电能的功能。并且，利用太阳能电池 P94所转 换的电能被用于机芯P81的驱动等中。
[0146] 太阳能电池 P94例如具有下述pin结构：在非单晶硅薄膜中选择性地导入有p型 杂质和η型杂质，进而在p型非单晶娃薄膜与η型非单晶娃薄膜之间具备杂质浓度低的i 型非单晶硅薄膜。