一种rf射频功率源的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种RF射频功率源，广泛地应用于科研、半导体工艺、真空镀膜、工业材料加工设备。
【背景技术】
[0002]射频功率源又称射频电源，是可以产生固定频率(13.56MHz，27.12MHz等频点)的正弦波、具有一定功率的电源。已广泛应用于半导体工艺设备;LED与太阳能光伏产业;科学实验中的等离子体发生器;射频感应加热;医疗美容;常压等离子体消毒清洗等。
[0003]目前，已有的射频功率源，其射频放大器采用功率模块和大功率场效应管放大器，体积大、功率低。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型主要的目的是针对现有技术的缺陷，提出了一种RF射频功率源，采用单片机技术，实现了多项智能控制，提高了效率，缩小了体积。
[0005]—种RF射频功率源包括:机体、单片机、匹配器与射频源，所述机体侧面设有液晶显示屏，所述液晶显示屏旁设有参数设定按钮，所述单片机通过匹配器与射频源连接设于机体内部，所述射频源包括:有源石英晶体稳频、它激机与金属陶瓷四极管，所述金属陶瓷四极管为末级，所述有源石英晶体稳频、它激机均由单片机控制。
[0006]其中，所述匹配器与射频源功效溶为一体。
[0007]其中，输出功率大于500W，且由0-500W可连续调节。
[0008]本实用新型的有益效果是:本实用新型提出一种RF射频功率源，效率高，工作稳定可靠，匹配器与射频源功效溶为一体，提高了效率，缩小了体积，增加了美感。采用液晶显示屏与单片机应用控制，使本机提高了档次，是目前国内电子管射频源最先进的机型。
[0009]为了能更进一步了解本实用新型的特征以及技术内容，请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本实用新型加以限制。
【附图说明】
[0010]下面结合附图，通过对本实用新型的【具体实施方式】详细描述，将使本实用新型的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0011 ]图1，是本实用新型一种RF射频功率源的结构示意图；
【具体实施方式】
[0012]为更进一步阐述本实用新型所采取的技术手段及其效果，以下结合本实用新型的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0013]请参阅图1，一种RF射频功率源包括:机体1、单片机、匹配器与射频源，所述机体I侧面设有液晶显示屏3，所述液晶显示屏3旁设有参数设定按钮2，所述单片机通过匹配器与射频源连接设于机体内部，所述射频源包括:有源石英晶体稳频、它激机与金属陶瓷四极管，所述金属陶瓷四极管为末级，所述有源石英晶体稳频、它激机均由单片机控制。
[0014]进一步，所述匹配器与射频源功效溶为一体。
[0015]进一步，输出功率大于500W，且由0-500W可连续调节。
[0016]本实用新型在大功率长时间工作，主变压器湿度超过70°C时会报警，文字提示，并停止功率输出。当风机出现故障时会峰呜器报警并文字提示。开机4分钟后本机在自检中，如有负载未接或接触不良会有文字提示。当Ua调节输出功率到你所设定功率时，两秒后峰呜声锁定所设功率并恒功率输出。本实用新型可连续工作时间24小时。
[0017]以上所述，仅为本实用新型的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种RF射频功率源，其特征在于:包括:机体、单片机、匹配器与射频源，所述机体侧面设有液晶显示屏，所述液晶显示屏旁设有参数设定按钮，所述单片机通过匹配器与射频源连接设于机体内部，所述射频源包括:有源石英晶体稳频、它激机与金属陶瓷四极管，所述金属陶瓷四极管为末级，所述有源石英晶体稳频、它激机均由单片机控制。2.根据权利要求1所述的一种RF射频功率源，其特征在于:所述匹配器与射频源功效溶为一体。3.根据权利要求1所述的一种RF射频功率源，其特征在于:输出功率大于500W，且由O-500W可连续调节。
【专利摘要】本实用新型涉及一种RF射频功率源，广泛地应用于科研、半导体工艺、真空镀膜、工业材料加工设备。本实用新型包括：机体、单片机、匹配器与射频源，所述机体侧面设有液晶显示屏，所述液晶显示屏旁设有参数设定按钮，所述单片机通过匹配器与射频源连接设于机体内部，所述射频源包括：有源石英晶体稳频、它激机与金属陶瓷四极管，所述金属陶瓷四极管为末级，所述有源石英晶体稳频、它激机均由单片机控制。本实用新型提出一种RF射频功率源，效率高，工作稳定可靠，匹配器与射频源功效溶为一体，提高了效率，缩小了体积，增加了美感。采用液晶显示屏与单片机应用控制，使本机提高了档次，是目前国内电子管射频源最先进的机型。
【IPC分类】H05H1/46
【公开号】CN205196065
【申请号】CN201521034476
【发明人】李璐
【申请人】沈阳科诚真空技术有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2015年12月15日