此限制本实用新型之范围，基板110可以是双侧弯曲、三侧弯曲或四侧弯曲的，且在各个弯曲部分可以采用本实用新型之多个实施方式中光学膜120与遮光层130的配置。
[0046]于本实施方式中，光学膜120可以是抗反射层、抗眩光层、抗指纹层以及防雾层。以抗反射层为例，其可以由高低折射率交错的多个层体所形成，其材料可以是氮化硅、氮氧化硅、氧化硅、氟化镁等，或者，抗反射层亦可以由多个折射率渐变的层体所组成。以抗眩光层为例，材料可以是树脂，例如聚氨酯树脂、丙烯酸环氧树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、醇酸树脂或聚酯树脂。光学膜120可以是该领域各种常见的材料，在此不一一赘述。
[0047]于本实施方式中，遮光层130的材料可为油墨、光阻或油墨和光阻组成的叠层结构，例如白色油墨、光阻或黑色油墨、光阻。遮光层130具有较低的穿透率，以遮蔽与保护盖板100搭配的其他组件的周边电路，可避免周边线路的反光影响视觉效果。遮光层130的制造过程可以包含涂布油墨(例如网印)以及烘烤步骤。
[0048]图2为根据本实用新型的另一实施方式的保护盖板100的剖面图。本实施方式的保护盖板100与图1的保护盖板100相似，差别在于:本实施方式之光学膜120部分设置于弯折部114上，且光学膜120所覆盖的子部114c的夹角A等于或小于前述的预定夹角，例如15度，但光学膜120仍会露出弯曲度较大的部分弯折部114，例如光学膜120露出夹角A大于15度子部114c。
[0049]相似地，本实施方式中，遮光层130的开口 132于平坦部112的上表面112a之延伸平面上的正投影形状与光学膜120于平坦部112的上表面112a之延伸平面上的正投影形状大致相同。同样地，光线通过遮光层130的开口 132势必受到光学膜120的调整，而可以带来较好的影像质量。本实施方式的其他细节大致上如图1的实施方式所述，在此不再赘述。
[0050]图3为根据本实用新型的另一实施方式的保护盖板100的剖面图。本实施方式的保护盖板100与图1的保护盖板100相似，差别在于:本实施方式之保护盖板100之开口 132于光学膜120上的正投影形状与光学膜120的形状不同。换句话说，遮光层130a于光学膜120上的正投影不必配置与光学膜120刚好相接，而是有部分重叠的，但光学膜120仍会露出弯曲度较大的部分弯折部114。同样地，通过遮光层130的开口 132的光线势必受到光学膜120的调整，而可以带来较好的影响质量。本实施方式的其他细节大致上如图1的实施方式所述，在此不再赘述。
[0051]图4A至图4F根据本实用新型的一实施方式的保护盖板100于多个制造阶段的剖面图。下面以对应图1的保护盖板100的制造方法来说明。
[0052]首先，参照图4A，形成遮光层130至少于基板110之弯折部114上。遮光层130包含开口 132，开口 132对应于基板110之平坦部112，以露出部分之平坦部112。于本实施方式中，如图所示，靠近弯折部114的遮光层130(即遮光层130a)同时形成于平坦部112与弯折部114上，远离弯折部114的遮光层130(即遮光层130b)仅形成于平坦部112上，且遮光层130之开口 132仅对应于平坦部112而不对应于弯折部114。于其他实施方式中，虽然在此并未以图式说明，遮光层130a可以仅形成于弯折部114上，而开口 132正好地对应于基板110之平坦部112。更甚者，于部份实施方式中，开口 132还可对应于部份弯折部114(参考图2)，其设置规则大致上如前所述，在此不再赘述。
[0053]参照图4B，形成光阻层200于基板110相对遮光层130的一侧，光阻层200覆盖弯折部114和至少部分平坦部112，本实施例中光阻层200全面覆盖基板110相对设置有遮蔽层130的表面。光阻层200的材料为正型光阻。于此，光阻层可以透过沉积、涂布以及烘烤等步骤而形成。
[0054]参照图4C，经由光线通过遮光层130之开口 132对光阻层200进行曝光。应了解到，于步骤中，光线是从遮光层130往基板110的方向前进，而对基板另一侧的光阻层200曝光，使光阻层200对应遮光层130之开口 132的部分形成一曝光部200a。遮光层130可以作为此曝光过程的光罩，而使得光阻层200的曝光图案与遮光层130之开口 132相似。
[0055]参照图4D，移除光阻层200(参照图4C)之曝光部200a，其中光阻层200(参照图4C)之剩余部分形成覆膜200’，覆膜200’包含因移除曝光部200a而形成的镂空部202’，镂空部202 ’对应于平坦部112而露出部分之平坦部112。如前所述，于部份实施方式中，由于遮光层130作为光阻层200(参照图4C)曝光过程的光罩，镂空部202’与遮光层130之开口 132具有大致相同的图案，即遮光层130之开口 132与覆膜200’之镂空部202’在基板110上的正投影相同。如同前述的遮光层130的配置，于本实施方式中，部分覆膜200’可形成于该平坦部112上，覆膜200，之镂空部202，可仅对应于平坦部112而不对应于弯折部114。于其他实施方式中，虽然在此并未以图式说明，镂空部202’可对应于部份弯折部114。
[0056]接着，参照图4E，形成光学膜120于基板110上，且光学膜120覆盖覆膜200’并填入覆膜200’之镂空部202’。
[0057]参照图4F，移除覆膜200’(参照图4E)以及位于覆膜200’(参照图4E)上的光学膜120，使光学膜120之剩余部分可位于基板110之平坦部112上。此移除步骤可以透过手动剥除或者机械剥除进行。
[0058]如前所述，由于本实施方式藉由光刻的方式制作光学膜120，遮光层130之开口132于剩余的光学膜120上的正投影形状与剩余的光学膜120的形状大致相同。如此一来，通过遮光层130之开口 132的光线势必受到光学膜120的调整，而可以带来较好的影像质量。且，光学膜120不会因为设置于弯曲较大的曲面上而产生异色的问题。
[0059]以上图4B至图4D介绍藉由遮光层130以光刻方式形成覆膜200’的过程，但实际应用上，可以透过多种方式形成覆膜200’，并不需以此为限。举例而言，覆膜200’可以是具有黏着层的软性薄膜基板，软性薄膜基板可以提供后续剥除覆膜200’时一定的支撑力，可以透过将覆膜200 ’之黏着层与基板110直接接触，而将覆膜200 ’黏贴至弯折部114上，后续再移除覆膜的步骤中还包含将黏着层一并移除。在制作光学膜120时，光学膜120即可设置于覆膜200’的软性薄膜基板上。
[0060]或者，于其他实施方式中，可以透过涂布液态胶体于弯折部114上，再透过固化或烘烤等方式而使胶体形成覆膜200’。覆膜200’的材料可以是固化后能提供移除(剥除)步骤一定支撑力的材料，举例而言，覆膜200 ’可以是树脂。
[0061 ]于这些其他的覆膜200 ’形成方法中，并不一定要配置覆膜200 ’之镂空部202 ’与遮光层130之开口 132具有大致相同的图案。换句话说，遮光层130之开口 132于剩余的光学膜120上的正投影形状与剩余的光学膜120的形状不一定相同，可以存在其他多种变型。
[0062]综上所述，本实用新型提供一种保护盖板，设置光学膜位于保护盖板的平坦部，避免光学膜设计于保护盖板过于弯曲的部份，以免因制程因素导致光学膜不均匀或者因光学膜本身设计不适用于曲面而产生上述的异色问题。
[0063]虽然本实用新型已以多种实施方式揭露如上，然其并非用以限定本实用新型，任何本领域普通技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，应可作各种的变动与修改，因此本实用新型的保护范围当以权利要求书所界定的为准。
【主权项】
1.一种保护盖板，其特征在于，包含: 一基板，包含一平坦部以及设置于该平坦部之至少一侧的一弯折部； 一光学膜，设置于该平坦部上，且露出至少部分该弯折部；以及 一遮光层，设置在该基板相对该光学膜的一侧，该遮光层具有一开口以露出至少部分该光学膜。2.如权利要求1所述的保护盖板，其特征在于，露出的该弯折部具有一曲面以及与该曲面的相切的一切面，该切面与该平坦部设置有该光学膜的表面夹角大于15度。3.如权利要求1所述的保护盖板，其特征在于，该遮光层与该光学膜在垂直于该基板的方向上不重叠。4.如权利要求1所述的保护盖板，其特征在于，该开口于该光学膜上的正投影形状与该光学膜的形状相同。5.如权利要求1至4任意一项所述的保护盖板，其特征在于，该光学膜不设置于该弯折部上。6.如权利要求1至4任意一项所述的保护盖板，其特征在于，该遮光层仅设置于该弯折部，该光学膜覆盖部分或全部的该平坦部。7.如权利要求1至4任意一项所述的保护盖板，其特征在于，该遮光层设置于该弯折部，且该遮光层部分设置于该平坦部。8.如权利要求1所述的保护盖板，其特征在于，所述光学膜为高低折射率交错的多个层体所形成的抗反射膜。
【专利摘要】本实用新型提供一种保护盖板。保护盖板包含基板、光学膜以及遮光层。基板包含平坦部以及设置于平坦部之至少一侧的弯折部。光学膜设置于平坦部上，且露出至少部分弯折部。遮光层设置在基板相对光学膜的一侧，遮光层具有开口以露出至少部分光学膜。
【IPC分类】G02B1/115, G06F3/14, G06F3/041, G02B5/02
【公开号】CN205302234
【申请号】
【发明人】许毅中, 徐国书, 徐承宏, 徐俊, 杨婷婷
【申请人】宸鸿科技(厦门)有限公司
【公开日】2016年6月8日
【申请日】2015年12月22日