盆栽自动浇灌装置制造方法
【专利摘要】一种盆栽自动浇灌装置，它包括搁置在盆栽边沿的进水管和营养液管，还包括控制终端，在盆栽的底部设置有与控制终端的输入端相连的湿度传感器和PH传感器，所述的进水管上设置有与进水电磁阀，在营养液管上设置有进液电磁阀，进水电磁阀与进液电磁阀与控制终端的输出端相连。所述盆栽底部安装有小转盘，湿度传感器和PH传感器位于盆栽的底部中心。本实用新型控制终端通过从湿度传感器和PH传感器获知的数值，对盆栽的土壤进行自动浇水以及喷洒营养液，使植物能健康地成长。
【专利说明】盆栽自动浇灌装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种对植物进行浇水施肥的装置，具体的说是一种能实现盆栽自动浇灌的装置。
【背景技术】
[0002]植物的生长离不开浇水、施肥，目前浇水施肥大都是靠人工操作，不仅浪费大量的劳力，还无法准确把握浇水施肥的量，因此植物的死亡率很高。中国专利局于2009年12月2日公开的，专利号为“2008201250606”的“一种转动式可自动渗灌浇水、分层施肥的果树栽培盆”，它涉及果树、蔬菜栽培盆领域，解决了在城市居民的阳台、小庭院种植果树，因采光不均匀，水分供应不及时，水量分布不均衡，盆体太小，无法向果树追施肥料，而使果树营养缺乏，水果产量低，品质差的难题。本实用新型是由转盘，栽培盆，供水系统经组合安装而成。它无法获知土壤中是否缺水或缺营养液，只能通过经验进行浇水，施肥，因此容易造成过量或少量。
实用新型内容
[0003]本实用新型的目的在于针对上述现有技术的缺陷和不足，为人们提供一种能自动检测盆栽的土壤中是否缺水或缺营养液，并自动浇灌的装置。
[0004]为实现上述目的本实用新型所采取的技术方案是:该盆栽自动浇灌装置，它包括搁置在盆栽边沿的进水管和营养液管，还包括控制终端，在盆栽的底部设置有与控制终端的输入端相连的湿度传感器和PH传感器，所述的进水管上设置有进水电磁阀，在营养液管上设置有进液电磁阀，进水电磁阀与进液电磁阀与控制终端的输出端相连。
[0005]所述盆栽底部安装有小转盘，湿度传感器和PH传感器位于盆栽的底部中心。
[0006]本实用新型控制终端通过从湿度传感器和PH传感器获知的数值，对盆栽的土壤进行自动浇水以及喷洒营养液，使植物能健康地成长。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0008]如图1示，本实用新型为一种盆栽自动浇灌装置，它包括搁置在盆栽5边沿的进水管2和营养液管3，还包括控制终端8，在盆栽5的底部设置有与控制终端的输入端相连的湿度传感器6和PH传感器7，所述的进水管2上设置有进水电磁阀1，在营养液管3上设置有进液电磁阀4，进水电磁阀I与进液电磁阀4与控制终端8的输出端相连。控制终端8通过从湿度传感器6和PH传感器7获知的数值，对盆栽5的土壤进行自动浇水以及喷洒营养液，使植物能健康地成长。所述盆栽5底部安装有小转盘，使盆栽能光照均匀。湿度传感器6和PH传感器7位于盆栽5的底部中心，不会影响盆栽5转动。
【权利要求】
1.一种盆栽自动浇灌装置，它包括搁置在盆栽(5)边沿的进水管(2)和营养液管(3)，其特征在于还包括控制终端(8)，在盆栽(5)的底部设置有与控制终端(8)的输入端相连的湿度传感器(6)和PH传感器(7)，所述的进水管(2)上设置有进水电磁阀(1)，在营养液管(3)上设置有进液电磁阀(4)，进水电磁阀(1)与进液电磁阀(4)与控制终端(8)的输出端相连。
2.根据权利要求1所述的盆栽自动浇灌装置，其特征在于所述盆栽(5)底部安装有小转盘(9)，湿度传感器(6)和PH传感器(7)位于盆栽(5)的底部中心。
【文档编号】A01G27/00GK203467345SQ201320493683
【公开日】2014年3月12日 申请日期:2013年8月14日 优先权日:2013年8月14日
【发明者】胡国形 申请人:胡国形