本发明涉及水稻育苗领域，具体是一种水稻种子的育苗方法。
背景技术：
种苗的培育对于种植业来说,都是一个极为重要的环节,培育出商品率高整齐粗壮的种苗是获取优质高产的关健,它可以直接影响到瓜果蔬菜的产量与质量,，传统的育苗大多采用温室育苗,这在当前来说也是较为先进与普及的技术了,但美中不足的因素还是很多,比如夏日高温与冬日严寒常成为育苗的限制,阴雨光照的不足成为影响生长速度的主要原因,二氧化碳浓度过低又直接影响光合作用,叶片失绿或过薄.凡是影响植物生长的各项因子,在温室内还是很难达到最优化之要求,因为我国当前的温室大棚大多数太阳光利用型的简易温室,对于生长因子的控制没有实现自动化与智能化,既使采用了温室调控技术,其能量的损耗也是惊人的,它成为种苗培育成本中的主要成本，因此如何快速催芽提高生长率是尤为重要的问题。
技术实现要素：
为了解决上述问题，本发明提出一种水稻种子的育苗方法。
一种水稻种子的育苗方法,其具体步骤如下：
(1)择田：选择具有棚架且向阳的育苗田并在棚架上准备放置遮光布；
(2)暴晒：将育苗田内的水放干，撤掉遮光布撒生石灰并经太阳暴晒；
(3)撒灰：将稻秆粉碎并与准备好的基肥混合再利用翻耕机与田土混合；
(4)选种处理：选择饱满无害的水稻种子并用清水洗去杂质；
(5)准备密封箱：准备一个密封箱提高水稻种子的活性；
(6)垫纸：在密封箱的底端放置数张湿纸巾，将水稻种子放置在湿纸巾上；
(7)配置溶液：配置营养水溶液对水稻种子进行喷洒；
(8)喷营养水：在密封箱内插入一个细喷头用于喷射营养水；
(9)调节温度：按照每天上升0.5℃进行升温；
(10)破芽：待发现破芽后，拿起湿纸巾转移至育苗田中；
(11)遮光：转移后，每天上午11点至下午3点之间使用遮光布遮挡；
(12)喷水：使用滴灌进行浇水；
(13)种植：待长出一心一叶后即可栽种。
所述的步骤(1)中的棚架为框架式结构且与育苗田的外轮廓相同。
所述的步骤(3)中的基肥为腐殖土、腐熟的动物粪便、紫云英茎叶粉末、稻壳、黄泥土、蛭石混合制成。
所述的步骤(5)密封箱的含氧量在20％，二氧化碳量在10％，湿度在40％-50％，温度在20-22℃。
所述的步骤(8)的营养水为腐熟的豆浆和光合杆菌的混合水溶液。
本发明的有益效果是：在密封箱中保持适于水稻种子发芽的温度、湿度、含氧量及二氧化碳量，提高水稻种子的发芽率，增强了种子的活力；转移破芽的水稻种子时直接带着湿纸巾走，方便快捷，防止手动转移导致种子芽受到伤害，生长率高；利用密封箱的集中催芽，相对于传统温室大棚育苗，降低了成本支出，提高了养殖户的收入。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面对本发明进一步阐述。
一种水稻种子的育苗方法,其具体步骤如下：
(1)择田：选择具有棚架且向阳的育苗田并在棚架上准备放置遮光布；
(2)暴晒：将育苗田内的水放干，撤掉遮光布撒生石灰并经太阳暴晒；
(3)撒灰：将稻秆粉碎并与准备好的基肥混合再利用翻耕机与田土混合；
(4)选种处理：选择饱满无害的水稻种子并用清水洗去杂质；
(5)准备密封箱：准备一个密封箱提高水稻种子的活性；
(6)垫纸：在密封箱的底端放置数张湿纸巾，将水稻种子放置在湿纸巾上；
(7)配置溶液：配置营养水溶液对水稻种子进行喷洒；
(8)喷营养水：在密封箱内插入一个细喷头用于喷射营养水；
(9)调节温度：按照每天上升0.5℃进行升温；
(10)破芽：待发现破芽后，拿起湿纸巾转移至育苗田中；
(11)遮光：转移后，每天上午11点至下午3点之间使用遮光布遮挡；
(12)喷水：使用滴灌进行浇水；
(13)种植：待长出一心一叶后即可栽种。
所述的步骤(1)中的棚架为框架式结构且与育苗田的外轮廓相同。
所述的步骤(3)中的基肥为腐殖土、腐熟的动物粪便、紫云英茎叶粉末、稻壳、黄泥土、蛭石混合制成。
利用紫云英种子为土壤提供丰富的养分，还能固定空气中的氮，茎叶在土壤中腐解后能大量地增加土壤中的有机质和氮、磷、钾、钙、镁和各种微量元素，为水稻的种植提供养分。
利用密封箱的集中催芽，相对于传统温室大棚育苗，降低了成本支出，提高了养殖户的收入。
在密封箱中保持适于水稻种子发芽的温度、湿度、含氧量及二氧化碳量，提高水稻种子的发芽率，增强了种子的活力。
转移破芽的水稻种子时直接带着湿纸巾走，方便快捷，防止手动转移导致种子芽受到伤害，生长率高。
所述的步骤(5)密封箱的含氧量在20％，二氧化碳量在10％，湿度在40％-50％，温度在20-22℃。
所述的步骤(8)的营养水为腐熟的豆浆和光合杆菌的混合水溶液。
均利用自制的营养土及溶液，有机性高，减少使用化肥对水稻带来的弊端。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。