一种悬空贴复式铁皮石斛林下种植结构及种植方法与流程

本发明涉及一种悬空贴复式铁皮石斛林下种植结构，还涉及一种根据悬空贴复式铁皮石斛林下种植结构进行种植的种植方法。

背景技术：

石斛是兰科多年生草生植物，喜半阴半阳、凉爽、湿润、空气畅通的环境。野生植株一般生长于背阴的悬崖或高大乔木的树干上，是一种对生态环境要求非常严格的多年生草本植物，生长缓慢，自然繁殖率低，自然产量不高。

石斛具有极高的中药价值，其中铁皮石斛是石斛中的上品。石斛中所含的水溶性多糖、生物碱、氨基酸、微量元素等化学物质成分，在增强免疫力、抗肿瘤、降血糖、保护肝损伤、镇痛抗炎、抗衰老等方面有一定的功效功能。由于所有野生兰科植物都为受保护植物，因此，目前市场上所销售的铁皮石斛制品均为人工栽植。

目前，人工栽培铁皮石斛中多使用农业温室设施，但在温室大棚中种植铁皮石斛，容易造成铁皮石斛制成品品质下降的问题。相关研究发现，在温室大棚中种植的铁皮石斛，与在野生环境下自然生长的铁皮石斛植株相比较，人工种植环境下生产的铁皮石斛在有效成分上并没有表现出明显的差别，但由于生长环境的差异，其有效干物质积累和口感却是具有不足的。因此，为获取类似于野生铁皮石斛品质的产品，许多地区在林地内，模拟铁皮石斛自然生长环境进行铁皮石斛的种植。主要采取的是在适合的乔木树干上直接覆盖绑扎种植基质后定植铁皮石斛苗、或在树干上直接绑扎填充种植基质的种植袋的方法。

这些林地乔木树干外皮种植铁皮石斛的方法，在一定程度上模拟了铁皮石斛的自然生长环境，使在这种种植条件下生长的铁皮石斛具有近似于野生铁皮石斛的品质。但也存在较多的问题：

1、树种选择余地小，林地应用程度受限

由于铁皮石斛为兰科植物，这类植物的根系均为肉质根系，独根，无须根，根据形态可分为较粗的直立根状茎和纤细的横走根状茎。在根系生长过程中，需要攀附在基质上。因此，在选择树种进行定植时，必须选择树皮粗糙的乔木品种，这就限制了在某些表皮光滑的乔木品种上进行林下铁皮石斛种植的可能性。导致林地应用程度不高。

2、病虫害管理难度大

由于这类铁皮石斛林下种植方式是直接将铁皮石斛生长袋固定于乔木株干上，直接与树皮接触，为细菌、病毒、害虫等的传播提供了通道。且林下病虫害管理的可控性较于大棚环境来说，存在太多的不可预估性。因此，这对于保持铁皮石斛适宜的林下拟自然最优环境有极高的要求。

3、对铁皮石斛自然生长最优环境模拟不足

林下种植铁皮石斛，最关键的地方在于创造一种持续的最优生长环境。兰科植物最适的生长环境为半阴半阳、凉爽、湿润、空气畅通的环境，这种条件最适合兰科植物的根系。在林下种植铁皮石斛，半阴半凉的条件易于实现，但由于基质袋紧贴乔木株干，要保持基质中保持凉爽、湿润、空气畅通就存在较大难度了。

技术实现要素：

本发明所要解决的第一个技术问题，就是提供一种悬空贴复式铁皮石斛林下种植结构。

本发明所要解决的第二个技术问题，就是提供一种根据悬空贴复式铁皮石斛林下种植结构进行种植的种植方法。

本发明更好的模拟了铁皮石斛的自然生长环境，且能充分利用现有林地，在种植过程中还能减少病虫害的发生。

解决上述第一个技术问题，本发明采用如下的技术方案：

一种悬空贴复式铁皮石斛林下种植结构，其包括生长在林中的林木和至少一组种植组件，种植组件包括隔离层、种植层、生长基质层和覆盖网；隔离层包括多条围绕林木的树干分布的竖向的隔离层树枝，隔离层树枝通过隔离层绑扎绳捆绑在树干上，且相邻的隔离层树枝之间留有间隙；种植层包括多条围绕隔离层外围分布的竖向的种植层树枝，种植层树枝通过种植层绑扎绳捆绑在隔离层的外围，且相邻的种植层树枝相互紧靠；生长基质层设置在种植层的外围，覆盖网包裹或覆盖在生长基质层的外表；生长基质层包括位于内围的苔藓层和位于外围的由泥炭土和松树皮混合而成的混合层。

进一步的，覆盖网由麻绳编织而成。

进一步的，苔藓层为一层高山苔藓。

进一步的，林木为乔木。

解决上述第二个技术问题，本发明所采用的技术方案如下：

一种根据悬空贴复式铁皮石斛林下种植结构进行种植的种植方法，其包括以下步骤：

步骤一，选择生长在常绿阔叶林或针阔混交林中的林木；

步骤二，采取先水煮后暴晒的方法对隔离层树枝进行消毒处理，然后将隔离层树枝烘干，接着将隔离层树枝浸泡于草木灰溶液内，待其吸收完毕后，取出隔离层树枝并晾干；

步骤三，经步骤二处理后的隔离层树枝围绕林木的树干分布，并通过隔离层绑扎绳进行捆绑，相邻的隔离层树枝之间留有间隙，形成隔离层；

步骤四，采取先水煮后暴晒的方法对种植层树枝进行消毒处理，然后将种植层树枝烘干，接着将种植层树枝浸泡于铁皮石斛肥料液中，待其吸收完毕后，取出种植层树枝并晾干；

步骤五，经步骤四处理后的种植层树枝围绕隔离层外围分布，并通过种植层绑扎绳捆绑在隔离层的外围，且相邻的种植层树枝相互紧靠，形成种植层；

步骤六，采用暴晒的方法将苔藓层的苔藓晒干，然后经清水浸泡；

步骤七，将泥炭土和沤熟的松树皮按1:1的比例混合；

步骤八，将经步骤六处理后的苔藓在平面上展开平铺，将步骤七中由泥炭土和松树皮混合成的混合物覆盖在平铺的苔藓的上面，制备成生长基质层；

步骤九，用覆盖网将在步骤八中制备出的生长基质层包裹住，然后围绕固定在种植层的外围；

步骤十，将铁皮石斛苗的根部穿过覆盖网的网孔，并扎入生长基质层内。

进一步的，步骤一中的常绿阔叶林或针阔混交林的空气湿度为60％-80％，郁闭度为0.7。

进一步的，步骤一中的林木的高度为5米以上、胸径为10cm以上、最低分枝高度为2米以上。

进一步的，步骤二中将隔离层树枝烘干至其含水率降至5％以下，才接着将隔离层树枝浸泡于草木灰溶液内；步骤四中将种植层树枝烘干至其含水率降至5％以下，才接着将种植层树枝浸泡于铁皮石斛肥料液中。

进一步的，种植方法还包括：

步骤十一，当铁皮石斛苗扎入种植结构中进行种植后的两周内，如果是在春季和夏季，那么除下雨天不喷水外，每天喷水一次，如果是在秋季和冬季，那么两至三天淋水一次；当铁皮石斛苗扎入种植结构中进行种植一个月后，保持种植层树枝处于湿润状态即可。

进一步的，铁皮石斛苗为驯化时间超过8个月、茎长超过10cm、每丛多于5枝的铁皮石斛苗。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

1、在林下种植铁皮石斛的最终目标，就是生产品质类似于自然环境生长的铁皮石斛产品。铁皮石斛在自然状态下最佳生长环境为半阴半阳、凉爽、湿润、空气畅通。本发明的种植结构为直接设置在生长在林中的林木上的，本发明设置的隔离层树枝使得生长基质层不再直接贴紧在树干上，在树干表面与铁皮石斛生长基质层之间形成了一个通风空间，由于空气热效应的存在，下部空气会穿过通风空间向上流通，可避免过分潮湿，又可降温，保持凉爽，保持空气畅通。同时，由于种植层由相互紧靠捆绑在隔离层外围的种植层树枝制成，其种植层树枝直接始终会形成有微小空隙，但又相对密闭，可以进一步的对生长基质层的水分、温度和空气进行调节(如图10所示，箭头为空气流动方向示意)。并且，由于制成种植层的材料为树枝，具有良好的吸水和保水性能，在天气干燥、空气湿度低的时候可释放水分，此时随浸泡进入种植层树枝中的肥料会随水分释放，可长时间缓慢的供铁皮石斛苗吸收，保证铁皮石斛苗根系的生长区域始终处于湿润且有肥料供应的状态。可见，本发明更好的模拟了铁皮石斛的自然生长环境。

2、本发明能够使以往受到限制的表皮光滑的乔木品种也可有效进行林下铁皮石斛种植，减少了林地铁皮石斛在林下种植应用中的限制条件，使铁皮石斛林下种植的可选择范围大面积扩大。

3、本发明的种植方法中，隔离层树枝在制作时会经过草木灰溶液的浸泡，草木灰溶液是一种天然的非内吸性广谱杀菌剂，在铁皮石斛种植过程中，草木灰溶液会缓慢的随水分流动释放到表面，能够有效减少铁皮石斛在生长过程中的病害发生概率。同时，由于草木灰自带的天然驱虫效果，能够一定程度上减少铁皮石斛生长过程中的虫害。

4、本发明的苔藓层中的苔藓选用高山苔藓，与一般苔藓相比，高山苔藓的自然含水率更低，也更加疏松，更加适合铁皮石斛这类兰科植物的生长。

附图说明

图1是本发明的树干的主视结构示意图；

图2是本发明的隔离层树枝捆绑在树干上后的主视结构示意图；

图3是本发明的隔离层树枝捆绑在树干上后的剖视示意图；

图4是本发明的隔离层树枝捆绑在树干上后的俯视示意图；

图5是本发明的种植层树枝捆绑在隔离层外围后的主视示意图；

图6是本发明的种植层树枝捆绑在隔离层外围后的剖视示意图；

图7是本发明的种植层树枝捆绑在隔离层外围后的俯视示意图；

图8是在本发明的种植结构上种植铁皮石斛苗后的剖视示意图之一；

图9是在本发明的种植结构上种植铁皮石斛苗后的俯视示意图；

图10是在本发明的种植结构上种植铁皮石斛苗后的剖视示意图之二，使用箭头显示了空气流动方向。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明进一步描述。

如图1至图9所示为本实施例的悬空贴复式铁皮石斛林下种植结构，其包括生长在林中的林木和至少一组种植组件，即种植组件可以为一组、两组、三组、甚至更多，可根据林木大小而定，当设置有两组以上的种植组件时，种植组件竖向依次设置在林木的树干上。

种植组件包括隔离层2、种植层3、生长基质层41和覆盖网42。如图2至图4所示，隔离层2包括多条围绕林木的树干1分布的竖向的隔离层树枝21，隔离层树枝21通过隔离层绑扎绳22捆绑在树干1上，且相邻的隔离层树枝21之间留有间隙，使得隔离层2即起到隔离作用，也起到通风作用。如图10所示，由于空气热效应的存在，下部空气会穿过通风空间向上流通，箭头显示了空气的流动方向。如图5至图7所示，种植层3包括多条围绕隔离层2外围分布的竖向的种植层树枝31，种植层树枝31通过种植层绑扎绳32捆绑在隔离层2的外围，且相邻的种植层树枝31相互紧靠，不管如何紧靠捆绑，种植层树枝之间始终会有微小的缝隙，但又相对密闭，这样可更好的对生长基质层41的水分、温度和空气进行调节。如图8和图9所示，生长基质层41设置在种植层3的外围，覆盖网42包裹或覆盖在生长基质层的外表，即将生长基质层41整体包裹在覆盖网42围成的空间内然后固定在种植层3的外围，或者覆盖网42覆盖在生长基质层41的外面，将生长基质层41固定在种植层3表面与覆盖网42之间。生长基质层41包括位于内围的苔藓层和位于外围的由泥炭土和松树皮混合而成的混合层。需种植的铁皮石斛苗43的根部穿过覆盖网42的网孔后完全扎入生长基质层内进行种植，一组种植组件上可种植若干只铁皮石斛苗43，根据实际种植情况而定。

为了更好的模拟和适用在铁皮石斛的生长环境中，本实施例的覆盖网42由麻绳编织而成。

优选的，苔藓层为一层高山苔藓，即用于制作苔藓层的苔藓选用了高山苔藓。

优选的，林木为乔木。

种植结构的优选方案为：优选的隔离层树枝21的直径为3cm、长度为30cm，且为生长健康和形状匀称的树枝，围绕树干1分布后，每条隔离层树枝21之间的距离为10cm。如图2至图4所示，围绕树干捆绑有八条隔离层树枝21，通过三条隔离层绑扎绳22对其进行捆绑。优选的种植层树枝31的直径为2cm、长度为40cm。如图5至图7所示，若干条种植层树枝31围绕隔离层外围进行紧密捆绑，使用五条种植层绑扎绳32对其进行捆绑。优选的覆盖网42的网孔的直径为2cm、宽度为45cm、长度以最终能够包裹住种植层外围为准。

本实施例的根据悬空贴复式铁皮石斛林下种植结构进行种植的种植方法包括以下步骤：

步骤一，选择生长在常绿阔叶林或针阔混交林中的林木，为了创造更好的环境，可先对地面上的杂灌草进行清除，对树体上的枯枝进行清除和修剪；

步骤二，采取先水煮后暴晒的方法对隔离层树枝21进行消毒处理，然后将隔离层树枝21烘干，接着将隔离层树枝21浸泡于草木灰溶液内，待其吸收完毕后，取出隔离层树枝21并晾干；

步骤三，经步骤二处理后的隔离层树枝21围绕林木的树干1分布，并通过隔离层绑扎绳22进行捆绑，相邻的隔离层树枝21之间留有间隙，形成隔离层2；

步骤四，采取先水煮后暴晒的方法对种植层树枝31进行消毒处理，然后将种植层树枝31烘干，接着将种植层树枝31浸泡于铁皮石斛肥料液中，待其吸收完毕后，取出种植层树枝31并晾干；

步骤五，经步骤四处理后的种植层树枝31围绕隔离层2外围分布，并通过种植层绑扎绳32捆绑在隔离层2的外围，相邻的种植层树枝31相互紧靠，形成种植层3；

步骤六，采用暴晒的方法将苔藓层的苔藓晒干，然后经清水浸泡，优选的，苔藓浸泡于清水中的时间为24小时，浸泡完成后取出使用；

步骤七，将泥炭土和沤熟的松树皮按1:1的比例混合，松树皮为充分沤熟的；

步骤八，将经步骤六处理后的苔藓在平面上展开平铺，将步骤七中由泥炭土和松树皮混合成的混合物覆盖在平铺的苔藓的上面，制备成生长基质层；

步骤九，用覆盖网42将在步骤八中制备出的生长基质层包裹住，然后围绕固定在种植层3的外围；包裹的具体方式可以为：将覆盖网42展开在平面上，将在步骤八中制备出的生长基质层置于覆盖网42上面，然后再将覆盖网的侧边向生长基质层的上面中部折起，从而将生长基质层41整体包裹；

步骤十，将铁皮石斛苗43的根部穿过覆盖网42的网孔，并扎入生长基质层41内，以铁皮石斛苗43的根部被生长基质充分包裹为准；

本实施例的方法还包括了步骤十一，当铁皮石斛苗43扎入种植结构中进行种植后的两周内，如果是在春季和夏季，那么除下雨天不喷水外，每天喷水一次，如果是在秋季和冬季，那么两至三天淋水一次；当铁皮石斛苗43扎入种植结构中进行种植一个月后，保持种植层树枝处于湿润状态即可。步骤十一为对铁皮石斛苗的日常养护，是为了使得铁皮石斛苗更好的生长。

优选的，步骤一中的常绿阔叶林或针阔混交林的空气湿度为60％-80％，郁闭度为0.7左右。

对于步骤一中的林木，优选的高度为5米以上、胸径为10cm以上、最低分枝高度为2米以上。且对树龄不限，树种不限。

对于烘干的优选的要求为：步骤二中将隔离层树枝烘干至其含水率降至5％以下，才接着将隔离层树枝21浸泡于草木灰溶液内；步骤四中将种植层树枝烘干至其含水率降至5％以下，才接着将种植层树枝31浸泡于铁皮石斛肥料液中。

优选的，铁皮石斛苗43为驯化时间超过8个月、茎长超过10cm、每丛多于5枝的铁皮石斛苗。

优选的，铁皮石斛苗43以矩阵排列的分布方式种植在本种植结构上，且上下丛的铁皮石斛苗之间垂直距离约20cm，左右丛的铁皮石斛苗之间水平距离约10cm的标准。

本发明的上述实施例并不是对本发明保护范围的限定，本发明的实施方式不限于此，凡此种种根据本发明的上述内容，按照本领域的普通技术知识和惯用手段，在不脱离本发明上述基本技术思想前提下，对本发明上述结构做出的其它多种形式的修改、替换或变更，均应落在本发明的保护范围之内。