1.一种抗菌膜，其特征在于，包括依次层叠的基材层和点阵纳米结构层，所述点阵纳米结构层的材料为纳米金属药丸；
所述纳米金属药丸包括金属颗粒内核以及包覆所述金属颗粒内核的多孔氧化物外壳，所述金属颗粒内核为具有抗菌性能的金属纳米颗粒。
2.根据权利要求1所述的抗菌膜，其特征在于，所述金属颗粒内核的直径为10nm～50nm，所述多孔氧化物外壳的厚度为10nm～100nm。
3.根据权利要求2所述的抗菌膜，其特征在于，所述金属纳米颗粒的材料为金、银、锌或铜，所述多孔氧化物外壳的材料为二氧化硅或二氧化钛。
4.根据权利要求2所述的抗菌膜，其特征在于，所述多孔氧化物外壳的孔隙率为40％～90％，所述多孔氧化物外壳的孔隙大小为2nm～50nm。
5.根据权利要求1所述的抗菌膜，其特征在于，所述抗菌膜还包括位于所述基材层和所述点阵纳米结构层之间的过渡层；
所述过渡层为亲水表面，所述过渡层的材料为al2o3、sio2或tio2，所述多孔氧化物外壳具有疏水基团，所述疏水基团选自烃基、卤原子和硝基中的至少一种；
或者，所述过渡层为疏水表面，所述过渡层的材料为af药丸，所述多孔氧化物外壳具有亲水基团，所述亲水基团选自羟基、醛基、羧基和氨基中的至少一种。
6.根据权利要求5所述的抗菌膜，其特征在于，所述过渡层的厚度为10nm～50nm；
所述过渡层通过真空镀膜的方式形成。
7.根据权利要求1～6中任意一项所述的抗菌膜，其特征在于，所述基材层的材料为玻璃或塑料，所述基材层的厚度为0.05mm～2mm，所述点阵纳米结构层的厚度为40nm～250nm。
8.根据权利要求7所述的抗菌膜，其特征在于，所述点阵纳米结构层通过热蒸镀、电子束蒸镀、离子辅助、离子束溅射或磁控溅射的方式形成。
9.根据权利要求1所述的抗菌膜，其特征在于，所述基材层远离所述点阵纳米结构层的表面设有粘胶层。
10.权利要求1～9中任意一项所述的抗菌膜，在触摸开关、按键和触摸屏领域的应用。