草坪培育装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种草坪培育装置。
【背景技术】
[0002]现在的建筑物顶一般直接暴露在外面，在太阳的暴晒下，温度的变化会引起建筑物的膨胀和收缩从而使建筑物出现裂缝，缩短了建筑物的使用寿命，而且会使建筑物内的温度升高，尤其是在夏天。在屋顶上铺设绿色植物是现在设置屋顶绿化层的一种主要的方式，传统的屋顶绿化层是直接将培育好的草苗移植到屋顶上，移植过来的草苗的根系与屋顶泥土连接不牢，易造成泥土因受到水的冲刷而流失，另外，光照强烈时容易晒伤刚移植过来的草苗，使草苗的成活率非常低，而且若发生屋顶漏水情况，修补时需要破坏草坪。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种草坪培育装置，以解决上述技术问题中的至少一个。
[0004]根据本实用新型的一个方面，提供了草坪培育装置，包括固根层、基质层和遮阳架，基质层设在固根层上方，遮阳架设在基质层上方，遮阳架外围设有遮阳层。
[0005]本实用新型中，直接将草苗种植在基质层中，基质层为草苗生长提供养分，无需在别处培育好草苗后再移植过来，节省了工序，草苗生长后根系会紧紧缠绕在固根层上，增强了草苗根系与固根层之间的附着力，而且固根层可以避免基质层中的营养成分因水的冲刷而流失，若发生屋顶漏水情况，将固根层掀起进行修补屋顶即可，且遮阳架外围铺设有遮阳层，可以遮挡猛烈的阳光，防止晒伤草苗，即使在夏天，也可以进行草坪的培育，提高了草苗的成活率。
[0006]在一些实施方式中，遮阳架的四个支脚为升降杆。由此，可以根据种植在基质层中的草苗高度调节升降杆的高度，避免遮阳层阻碍草苗的生长。
[0007]在一些实施方式中，固根层为遮阳网、无纺布、鱼网或过滤网。由此，草苗根系可以紧紧缠绕在固根层上，增强了草苗根系与固根层之间的附着力，而且固根层可以避免基质层中的营养成分因水的冲刷而流失，并且，在需要移动草坪(移植或修补房屋)时，可以通过拉扯该固根层，从而将整块草坪拿起。
[0008]在一些实施方式中，基质层由田泥、有机肥和椰丝中的一种或两种以上组成。由此，田泥可以用于储存营养成分，有机肥(动物粪便或塘泥)的肥效时间长，可以在数年内不需要对草坪进行施肥，而椰丝等丝状物的加入可以更好的保持基质层中的水土不流失，三者结合，可以给草苗提供充分的营养，利于草苗的生长。
[0009]在一些实施方式中，基质层的厚度为I?3cm。由此，当基质层的厚度小于Icm时，基质层的保水性大大降低，造成草苗的成活率降低，当基质层的厚度大于3cm时，草苗根系不易缠绕在固根层上，所以基质层的厚度为I?3cm时，既可以保证草苗生长所需要的水分，还可以使草苗根系缠绕在固根层上。
[0010]在一些实施方式中，遮阳层为遮阳网。由此，在阳光较为强烈情况下，遮阳网可以有效防止阳光直射在基质层中的草苗上，提高草苗的成活率。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型一种实施方式的草坪培育装置的结构示意图。
[0012]图2为图1所示草坪培育装置中隐藏遮阳层的结构示意图。
[0013]图3为图1所示草坪培育装置中固根层的结构示意图。
[0014]图4为图1所示草坪培育装置培育草苗的状态图。
【具体实施方式】
[0015]下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。
[0016]如图1?图3示意性地显示了本实用新型一种实施方式的草坪培育装置的结构。
[0017]如图1?图3所示，草坪培育装置，包括固根层1、基质层2和遮阳架3。
[0018]在屋顶上铺设遮阳网形成固根层1，在固根层I的上方铺设基质层2，在基质层2上可以种植草苗，随着草苗的生长，草苗的根系可以紧紧缠绕在固根层I上，增强了草苗根系与固根层I之间的附着力，而且固根层I可以避免基质层2中的营养成分因水的冲刷而流失；而且，在需要移动草坪(移植或修补房屋)时，通过拉扯该遮阳网构成的固根层1，可以将整块草坪拿起。
[0019]本实施例中，草坪培育装置应用于屋顶。在其他实施例中，草坪培育装置也可以应用于地面或者其它可以放置草坪培育装置的平面上。
[0020]本实施例中，固根层I由遮阳网构成(如图3所示)。在其他实施例中，固根层I也可以根据实际情况选择由无纺布、鱼网或过滤网构成，只要保证草苗的根系可以紧紧缠绕在固根层I上即可。
[0021]由田泥、有机肥(动物粪便或塘泥)和椰丝三者结合构成的基质层2铺设在固根层I的上方，其中，田泥可以用于储存营养成分，有机肥(动物粪便或塘泥)的肥效时间长，可以在数年内不需要对草坪进行施肥，而椰丝等丝状物的加入可以更好的保持基质层2中的水土不流失，三者结合，可以给草苗提供充分的营养，利于草苗的生长，将草苗培育成观景怡人的草坪。
[0022]本实施例中，基质层2厚度为2cm。在其他实施例中，基质层2厚度可以根据实际情况选择为I?3cm中的任一数值。因为当基质层2的厚度小于Icm时，基质层2的保水性大大降低，会造成草苗的成活率降低，当基质层2的厚度大于3cm时，草苗根系不易缠绕在固根层I上，所以基质层2厚度为2cm时，既可以保证草苗生长所需要的水分，还可以使草苗根系缠绕在固根层I上。
[0023]本实施例中，基质层2由田泥、有机肥(动物粪便或塘泥)和椰丝三者结合构成。在其他实施例中，基质层2的材质可以根据实际情况选择田泥、有机肥(动物粪便或塘泥)或椰丝，还可以选择由田泥、有机肥(动物粪便或塘泥)和椰丝的其中两种构成。
[0024]在基质层2中可以植入铺地锦竹草的草苗，由于铺地锦竹草的根系比较发达，在草苗生长的过程中，基质层2底铺设的固根层I可以使铺地锦竹草的根系紧紧缠绕在固根层I上°
[0025]如图1所示，遮阳架3安装在基质层2上，遮阳架3的外围铺设由遮阳网形成的遮阳层31，遮阳层31可以有效防止阳光直射在基质层2中的草苗上，提高草苗的成活率。
[0026]本实施例中，遮阳层4为遮阳网。在其他实施例中，遮阳层4可以为网布，只要遮阳层4能有效防止阳光直射在基质层2中的草苗上即可。
[0027]如图1和图2所示，遮阳架3安装有四个支脚，四个支脚均为升降杆32，其中升降杆32的下端安装在基质层2上，当种植在基质层2中的草苗高度过矮时，可以适当降低升降杆32的高度，随着种植在基质层2中的草苗的生长，可以适时调节升高升降杆32的高度，避免遮阳层32阻碍草苗的生长，当将草苗培育成草坪时，可以将遮阳架3撤走。
[0028]本实用新型中，用遮阳网构成固定层1，在固定层I的上方铺设由田泥、有机肥和椰丝三者结合的基质层2，将草苗植入基质层2中，培育成草坪，无需在别处培育好草苗后再移植过来，节省了工序，在基质层2的上方安装着遮阳架3，遮阳架3上的遮阳层31可以有效防止阳光直射在基质层2中的草苗上，提高草苗的成活率，遮阳架3安装有可以升降的升降杆32，可以根据种植在基质层2中的草苗的高度调节升降杆32的高度。
[0029]图4示意性地显示了草坪培育装置培育草苗的一种状态。
[0030]如图4所示，将铺地锦竹草的草苗插入基质层2中，铺地锦竹草为喜阴性植物，夏秋季间时在华南地区，阳光较为强烈，遮阳架3上的遮阳层31可以有效防止阳光直射在基质层2中的铺地锦竹草上，提高铺地锦竹草的成活率，相邻两棵草苗之间的距离为2cm时，铺地锦竹草生长迅速，容易将草苗培育成景观怡人的草坪。
[0031]本实施例中，相邻两棵草苗之间的距离为2cm。在其它实施例中，相邻两棵草苗之间的距离可以根据实际情况选择为I?1cm中的任意一数值，因为当相邻两棵草苗的间隔小于Icm时，会浪费草苗，当相邻两棵草苗的间隔大于1cm时，将草苗培育成草坪的时间过长，影响景观效果。
[0032]本实施例中，基质层2上种植的是铺地锦竹草。在其他实施例中，基质层2上种植的可以是铺地锦竹草、鸭紫趾草、蚌花或佛甲草中的一种或两种以上。
[0033]以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于实用新型的保护范围。
【主权项】
1.草坪培育装置，其特征在于，包括固根层(1)、基质层(2)和遮阳架(3)，所述基质层(2)设在固根层(I)上方，所述遮阳架(3)设在基质层(2)上方，所述遮阳架(3)外围设有遮阳层(31)。
2.根据权利要求1所述的草坪培育装置，其特征在于，所述遮阳架(3)的四个支脚为升降杆(32) ο
3.根据权利要求2所述的草坪培育装置，其特征在于，所述固根层(I)为遮阳网、无纺布、鱼网或过滤网。
4.根据权利要求3所述的草坪培育装置，其特征在于，所述基质层(2)由田泥、有机肥和椰丝中的一种或两种以上组成。
5.根据权利要求4所述的草坪培育装置，其特征在于，所述基质层(2)的厚度为I?3cm0
6.根据权利要求1?5中任一项所述的草坪培育装置，其特征在于，所述遮阳层(31)为遮阳网。
【专利摘要】本实用新型公开了一种草坪培育装置，包括固根层、基质层和遮阳架，基质层设在固根层上方，遮阳架设在基质层上方，遮阳架外围设有遮阳层。本实用新型中，直接将草苗种植在基质层中，基质层为草苗生长提供养分，无需在别处培育好草苗后再移植过来，节省了工序，草苗生长后根系会紧紧缠绕在固根层上，增强了草苗根系与固根层之间的附着力，而且固根层可以避免基质层中的营养成分因水的冲刷而流失，若发生屋顶漏水情况，将固根层掀起进行修补屋顶即可，且遮阳架外围铺设有遮阳层，可以遮挡猛烈的阳光，防止晒伤草苗，即使在夏天，也可以进行草坪的培育，提高了草苗的成活率。
【IPC分类】A01G9-10
【公开号】CN204518647
【申请号】CN201520076906
【发明人】杨建坤, 张进军, 江向阳, 史旭, 何训华, 汤文健, 谢叔银, 张楠, 林臻哲
【申请人】广州市建筑科学研究院有限公司, 东莞市绿屋环保工程有限公司, 广州华森建筑与工程设计顾问有限公司
【公开日】2015年8月5日
【申请日】2015年2月3日