煎烤装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种煎烤装置，煎烤装置包括：下烤盘、上烤盘以及发热管，上烤盘可转动地连接至下烤盘，且上烤盘与下烤盘之间限定出煎烤腔室，上烤盘和下烤盘在闭合状态时煎烤腔室的高度为10-15mm，上烤盘和下烤盘均为方形烤盘，发热管设在上烤盘和下烤盘内且盘绕设置。根据本实用新型的煎烤装置，通过将煎烤腔室的高度限定在10mm-15mm之间，从而在煎烤的过程中，避免了煎烤装置中间温度高、边缘温度低的问题，使得放置在靠近煎烤装置边缘附近的食物仍然可以良好地受热，与位于煎烤装置中心处的食物可以同步受热、同步成熟，且可以确保食物的上表面均匀熟透、上色效果好、煎烤效果好。
【专利说明】煎烤装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及煎烤机设备领域，尤其是涉及一种煎烤装置。
【背景技术】
[0002]相关技术中指出，具有方形烤盘的煎烤机在煎烤的过程中，烤盘的温度场常常分布不均，致使位于烤盘不同位置处的食物产生成熟度不一致的问题，例如，烤盘中心的位置温度偏高，烤盘边缘的位置温度偏低，使得位于烤盘中心处的食物的熟透程度与位于烤盘边缘处的食物的熟透程度不一致，致使烤盘边缘位置处的食物常出现成熟较慢、成熟不均匀、或者不熟的问题，从而延长了煎烤时间，而且，食物的上表面也常常出现不熟或者成熟不均匀的现象，尤其是在烙制薄饼的过程中，薄饼的上表面容易发白，不易上色，煎烤效果不好。另外，在煎烤的过程中，常常出现水分损失较大的问题，导致煎烤出的食物发干、口感偏硬。综上所述，相关技术中的煎烤机存在食物受热不均、煎烤时间较长、煎烤效果不好等问题。
实用新型内容
[0003]本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型在于提出一种煎烤装置，所述煎烤装置的温度场分布均匀，煎烤效果好。
[0004]根据本实用新型的煎烤装置，包括:下烤盘；上烤盘，所述上烤盘可转动地连接至所述下烤盘，且所述上烤盘与所述下烤盘之间限定出煎烤腔室，所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述煎烤腔室的高度为10-15mm，所述上烤盘和所述下烤盘均为方形烤盘；发热管，所述发热管设在所述上烤盘和所述下烤盘内且盘绕设置。
[0005]根据本实用新型的煎烤装置，通过将煎烤腔室的高度限定在10mm-15mm之间，从而在煎烤的过程中，避免了煎烤装置中间温度高、边缘温度低的问题，使得放置在靠近煎烤装置边缘附近的食物仍然可以良好地受热，与位于煎烤装置中心处的食物可以同步受热、同步成熟，且可以确保食物的上表面均匀熟透、上色效果好、煎烤效果好。
[0006]具体地，所述发热管的中心线与其所在的所述上烤盘和/或下烤盘的内侧壁之间的最近距离不大于50mm。
[0007]具体地，所述上烤盘和所述下烤盘均为大体矩形烤盘，所述发热管在其所在的所述上烤盘和/或下烤盘内盘绕成外轮廓为大体矩形的形状。
[0008]具体地，所述上烤盘的内表面垂直地延伸出环形的锁水圈，所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述锁水圈的下端与所述下烤盘的内表面之间的距离小于等于7_。
[0009]具体地，所述发热管的中心线与其所在的所述上烤盘和/或下烤盘的四个内侧壁之间的距离均相等。
[0010]具体地，所述上烤盘和/或下烤盘的内表面上形成有弯曲的蒸汽通道。
[0011]具体地，所述蒸汽通道形成为方螺旋形状。
[0012]具体地，所述上烤盘和/或下烤盘的内表面上设有垂直延伸出的螺旋延伸的凸筋，所述蒸汽通道由所述凸筋之间限定出。
[0013]具体地，所述上烤盘和/或下烤盘的内表面上具有多个凸出部，所述多个凸出部之间限定出所述蒸汽通道。
[0014]具体地，所述多个凸出部呈多排多列排列、或呈环形阵列排列。
[0015]本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1是根据本实用新型实施例的煎烤装置的打开状态示意图；
[0017]图2是图1中所示的煎烤装置的关闭状态示意图；
[0018]图3是根据本实用新型一个实施例的下烤盘的示意图；
[0019]图4是沿图3中A-A线的剖面图；
[0020]图5是根据本实用新型一个实施例的下烤盘的示意图；
[0021]图6是沿图5中B-B线的剖面图；
[0022]图7是根据本实用新型一个实施例的下烤盘的示意图。
[0023]附图标记:
[0024]100:煎烤装置；101:煎烤腔室；
[0025]1:上烤盘；11:上煎烤壁面；12:上内侧壁；13:锁水圈；
[0026]2:下烤盘；21:下煎烤壁面；
[0027]22:下内侧壁；221:第一下内侧壁；222:第二下内侧壁；
[0028]223:第三下内侧壁；224:第四下内侧壁；
[0029]23:下固定槽；
[0030]24:凸筋；241:第一圈第一凸筋；242:第一圈第二凸筋；
[0031]243:第一圈第三凸筋；244:第一圈第四凸筋；
[0032]25:蒸汽通道；251:第一圈第一蒸汽通道段；
[0033]252:第一圈第二蒸汽通道段；253:第一圈第三蒸汽通道段；
[0034]254:第一圈第四蒸汽通道段；255:最后一圈第一蒸汽通道段；
[0035]256:蒸汽通道出口；
[0036]26:凸出部；
[0037]3:发热管；31:用于固定第一管段的下固定槽的中心线；
[0038]32:用于固定第二管段的下固定槽的中心线；
[0039]33:用于固定第三管段的下固定槽的中心线；
[0040]34:用于固定第四管段的下固定槽的中心线；
[0041]4:铰链结构；
[0042]200:食物。
【具体实施方式】
[0043]下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
[0044]下文的公开提供了许多不同的实施例或例子用来实现本实用新型的不同结构。为了简化本实用新型的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本实用新型。此外，本实用新型可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。此外，本实用新型提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的可应用于性和/或其他材料的使用。
[0045]下面参考图1-图7描述根据本实用新型实施例的煎烤装置100。
[0046]如图1所示，根据本实用新型实施例的煎烤装置，包括:下烤盘2、上烤盘I以及发热管3。其中，上烤盘I和下烤盘2均为方形烤盘。这里，需要说明的是，在本文的描述中，术语“方形”指的是长方形和正方形的总称。
[0047]具体地，上烤盘I可转动地连接至下烤盘2，且上烤盘I与下烤盘2之间限定出煎烤腔室101。如图1和图2所示，上烤盘I在打开煎烤腔室101的打开位置和关闭煎烤腔室101的关闭位置之间绕旋转轴线可转动地设在下烤盘2的上面，例如，上烤盘I的一端可通过铰链结构4与下烤盘2的一端构成可转动地连接，其中，上烤盘I与下烤盘2彼此相对的两个表面之间，也就是说，上烤盘I与下烤盘2彼此邻近的两个面之间限定出煎烤腔室101，当上烤盘I位于关闭位置时，上烤盘I与下烤盘2共同限定出封闭的煎烤腔室101，当上烤盘I位于打开位置时，煎烤腔室101敞开。
[0048]使用时，将下烤盘2放置在安装平面(例如水平桌面)上，当上烤盘I位于关闭位置时，如图2所示，上烤盘I与下烤盘2之间的夹角优选为0°，此时上烤盘I盖合在下烤盘2的上面，以与下烤盘2共同限定出封闭的煎烤腔室101 ;当上烤盘I位于打开位置时，如图1所示，上烤盘I与下烤盘2之间的夹角可以为钝角，例如上烤盘I和下烤盘2之间的夹角可以为100°，从而可以使煎烤腔室101敞开。另外，需要说明的是，在上烤盘I位于打开位置时，上烤盘I与下烤盘2之间的夹角也可为其它角度，具体角度可以根据实际情况来灵活设定。
[0049]这样，煎烤装置100在使用的过程中，当需要煎烤食物200时，首先将上烤盘I枢转至打开位置，使得煎烤腔室101敞开，以将食物200放入煎烤腔室101内，然后可以将上烤盘I枢转至关闭位置，使得煎烤腔室101封闭，以开始煎烤食物200，待食物200煎烤完成后，可以再将上烤盘I枢转至打开位置，将煎烤完成的食物200取出。当然，本实用新型不限于此，在煎烤的过程中，也可以不将上烤盘I枢转至关闭位置，也就是说，可以在煎烤腔室101敞开的情况下、仅利用下烤盘2对食物200进行煎烤。
[0050]在本实用新型的一个示例中，下烤盘2的上端面上可以形成有向下凹入的下煎烤壁面21，下煎烤壁面21用于对食物200的底部进行煎烤，上烤盘I的下端面上可以形成有向下凸出的上煎烤壁面11，上煎烤壁面11用于对食物200的顶部进行煎烤，当上烤盘I位于闭合位置时，上煎烤壁面11可以平行地设在下煎烤壁面21的上方，当上烤盘I位于关闭位置时，封闭的煎烤腔室101限定在上煎烤壁面11与下煎烤壁面21之间。这里，需要说明的是，上烤盘I的下端面指的是上烤盘I位于关闭位置时的下端面，也就是说，上烤盘I的与下烤盘2相邻近的一侧端面。
[0051]如图2所示，上烤盘I和下烤盘2在闭合状态时煎烤腔室101的高度H为10mm-15mm。也就是说，当上烤盘I位于闭合位置时，上煎烤壁面11与下煎烤壁面21之间的距离最大可以为15mm，上煎烤壁面11与下煎烤壁面21之间的距离最小可以为10mm。换言之，在生产煎烤装置100时，当上煎烤壁面11与下煎烤壁面21之间的垂直距离处处相等时，例如上煎烤壁面11和下煎烤壁面21均为平面，且上煎烤壁面11与下煎烤壁面21平行设置时，需确保上煎烤壁面11与下煎烤壁面21之间的距离为1mm到15mm其中任意的一个值；当上煎烤壁面11与下煎烤壁面21之间的垂直距离不处处相等时，例如上煎烤壁面11和下煎烤壁面21其中至少一个不形成为平面，或者上煎烤壁面11与下煎烤壁面21不平行设置时，需确保上煎烤壁面11与下煎烤壁面21之间处处的垂直距离都小于等于15mm、大于等于10mnin
[0052]由此,通过将煎烤腔室101的高度限定在10mm-15mm之间，从而在煎烤的过程中，可以确保食物200的上表面均匀地熟透，使得食物200的上色效果好，具有良好的煎烤效果，尤其是当采用煎烤装置100煎烤较薄的食物200、例如烙制薄饼的过程中，薄饼的上表面也可以接触到上煎烤壁面11，从而保证薄饼的上表面也可以均匀地熟透，且薄饼的上表面的上色效果好。另外，通过将煎烤腔室101的高度限定在10mm-15mm之间，从而使得煎烤装置100处处的温度场都可以均匀地分布，避免了煎烤装置100中间温度高、边缘温度低的问题，进而使得放置在靠近煎烤装置100边缘附近的食物200仍然可以良好地受热，与位于煎烤装置100中心处的食物200可以同步受热、同步成熟，保证食物200具有良好的煎烤效果，例如具有良好的成熟和上色效果。
[0053]参照图1和图2，发热管3设在上烤盘I和下烤盘2的至少一个内且盘绕设置。也就是说，上烤盘I内可以设有一个盘绕设置的发热管3，下烤盘2内也可以设有一个盘绕设置的发热管3，上烤盘I内和下烤盘2内还可以同时分别设有一个盘绕设置的发热管3。这里，需要说明的是，发热管3设在上烤盘I内可以理解为发热管3设在上煎烤壁面11的上侧，发热管3设在下烤盘2内可以理解为发热管3设在下煎烤壁面21的下侧。另外，盘绕设置指的是，发热管3在相应的烤盘上曲回延伸、蜿蜒盘绕，从而可以增加烤盘的受热面积，提高烤盘受热的均匀度。这里，需要说明的是，上煎烤壁面11的上侧指的是上烤盘I位于关闭位置时上煎烤壁面11的上侧。
[0054]根据本实用新型实施例的煎烤装置100，通过将煎烤腔室101的高度限定在10-15mm的范围内，从而可以提高食物200上表面的煎烤效果，使得食物200整体可以均匀地受热、成熟和上色。
[0055]进一步地，发热管3的中心线与其所在的上烤盘I和/或下烤盘2的内侧壁之间的最近距离不大于50mm。也就是说，当发热管3设在上烤盘I内时，盘绕在最外圈的发热管3的管段的中心线、与上烤盘I的与该管段最邻近的一个内侧壁之间的距离小于等于50mm，当发热管3设在下烤盘2内时，环绕在最外圈的发热管3的管段的中心线、与下烤盘2上的与该管段最邻近的一个内侧壁之间的最近距离小于等于50mm。
[0056]由此，有效地保证了设有发热管3的上烤盘I (或下烤盘2)的边缘处可以良好地受热，使得设在烤盘边缘处的食物200也能够熟透，且避免了烤盘中心温度偏高、边缘温度偏低的问题，确保烤盘中心与边缘的温差可以控制在40°以内，使得食物200可以均匀地受热、成熟和上色，具有良好地煎烤效果。
[0057]在本实用新型的一个实施例中，上烤盘I和下烤盘2均为大体矩形烤盘。如图3所示，下烤盘2大体形成为矩形，也就是说，下煎烤壁面21形成为大体矩形，优选为正方形，如图1和图2所示，上烤盘I和下烤盘2的形状、尺寸可以分别大体相同，从而上烤盘I可以大体形成为矩形，也就是说，上煎烤壁面11形成为大体矩形，优选为正方形。
[0058]优选地，参照图1和图2，在上烤盘I和下烤盘2内均设置有发热管3，且上烤盘I内的发热管3和下烤盘2内的发热管3位置对应，也就是说，当上烤盘I位于关闭位置时，上烤盘I内的发热管3和下烤盘2内的发热管3在下烤盘2内的投影可以完全重合，从而可以进一步提高食物200的煎烤效果。当然，本实用新型不限于此，上烤盘I内的发热管3和下烤盘2内的发热管3的设置位置还可以不对应，例如，当上烤盘I位于关闭位置时，上烤盘I内的发热管3和下烤盘2内的发热管3在下烤盘2内的投影可以交错布置。
[0059]由于上烤盘I内的发热管3的设置方法和设置位置均可以与下烤盘2内的发热管3的设置方法和设置位置相同，从而下面仅以下烤盘2内的发热管3的设置方法和设置位置为例进行说明，当然，本领域技术人员在阅读了下面的技术方案后，显然可以理解上烤盘I内的发热管3的设置方法和设置位置。
[0060]如图4和图3所示，下烤盘2具有四个下内侧壁22，分别为第一下内侧壁221、第二下内侧壁222、第三下内侧壁223和第四下内侧壁224，其中每个下内侧壁22分别自上向下向内倾斜延伸，且每个下内侧壁22的下端，即每个下内侧壁22的与下煎烤壁面21相连的一端形成为倒圆弧端，也就是说，每个下内侧壁22的下端的横截面构造为圆弧形，且沿下煎烤壁面21的相应边长的长度方向延伸。其中，“内”可以理解为朝向下煎烤壁面21中心的方向，其相反方向被定义为“外”，即远离下煎烤壁面21中心的方向。
[0061]可选地，发热管3在其所在的下烤盘2内盘绕成外轮廓为大体矩形的形状，也就是说，发热管3的最外圈环绕成类似矩形的形状，如图3所示，发热管3的最外圈包括第一管段、第二管段、第三管段和第四管段，第一管段、第二管段、第三管段和第四管段顺次首尾相连以环绕成大体矩形，如图3所示，第四管段的中间可以断开且与其他管段相连，其中，所有管段可以一体成型。
[0062]如图1所示，发热管3的横截面可以形成为圆形，且下烤盘2的底面可以形成有向上凹入的下固定槽23，下固定槽23可以形成为与发热管3延伸形状相同，且横截面相适配的半圆形槽道，从而发热管3的中心线可以理解为下固定槽23的中心线。
[0063]如图3所示，第一管段可以与第一下内侧壁221平行且邻近，第一管段的中心线与第一下内侧壁221的内端之间的距离为LI，也就是说用于固定第一管段的下固定槽23的中心线31和与第一下内侧壁221相连的下煎烤壁面21的边缘之间的距离为LI，其中，LI ^ 50mmo
[0064]如图3所示，第二管段可以与第二下内侧壁222平行且邻近，第二管段的中心线与第二下内侧壁222的内端之间的距离为L2，也就是说用于固定第二管段的下固定槽23的中心线32和与第二下内侧壁222相连的下煎烤壁面21的边缘之间的距离为L2，其中，L2 ^ 50mm。
[0065]如图3所示，第三管段可以与第三下内侧壁223平行且邻近，第三管段的中心线与第三下内侧壁223的内端之间的距离为L3，也就是说用于固定第三管段的下固定槽23的中心线33和与第三下内侧壁223相连的下煎烤壁面21的边缘之间的距离为L3，其中，L3 ^ 50mm。
[0066]如图3所示，第四管段可以与第四下内侧壁224平行且邻近，第四管段的中心线与第四下内侧壁224的内端之间的距离为L4，也就是说用于固定第四管段的下固定槽23的中心线34和与第四下内侧壁224相连的下煎烤壁面21的边缘之间的距离为L4，其中，L4 ^ 50mm。
[0067]可选地，发热管3的中心线与其所在的下烤盘2的相对两个内侧壁之间的距离相等。也就是说，第一管段的中心线与第一下内侧壁221的内端之间的距离L1、可以等于第二管段的中心线与第二下内侧壁222的内端之间的距离L2，即LI = L2，第三管段的中心线与第三下内侧壁223的内端之间的距离L3、可以等于第四管段的中心线与第四下内侧壁224的内端之间的距离L4，即L3 = L4。从而可以进一步提高下烤盘2的受热均匀性，进而提高食物200的受热、成熟、上色均匀度。
[0068]当然，本实用新型不限于此，发热管3的中心线与其所在的下烤盘2的四个内侧壁之间的距离均相等。也就是说，第一管段的中心线与第一下内侧壁221的内端之间的距离L1、第二管段的中心线与第二下内侧壁222的内端之间的距离L2、第三管段的中心线与第三下内侧壁223的内端之间的距离L3，以及第四管段的中心线与第四下内侧壁224的内端之间的距离L4全部相等，即LI = L2 = L3 = L4，从而可以进一步提高下烤盘2的受热均匀性，进而提高食物200的受热、成熟、上色均匀度。
[0069]参照图1和图2，上烤盘I具有四个上内侧壁12，其中每个上内侧壁12分别自上向下朝向上煎烤壁面11中心的方向倾斜延伸，发热管3在其所在的上烤盘I内盘上也绕成外轮廓为大体矩形的形状，发热管3的最外圈的四段的中心线与上烤盘I相应的四个上内侧壁12之间的距离分别小于等于50mm，优选地，发热管3的中心线与其所在的上烤盘I的四个内侧壁之间的距离均相等。从而可以进一步提高上烤盘I的受热均匀性，进而提高食物200的受热、成熟、上色均匀度。
[0070]具体地，上烤盘I的内表面垂直地延伸出环形的锁水圈13，上烤盘I和下烤盘2在闭合状态时锁水圈13的下端与下烤盘2的内表面之间的距离小于等于7_。如图2所示，锁水圈13形成为矩形环状，且环绕上煎烤壁面11外缘一周，当上烤盘I位于关闭位置时，锁水圈13从上内侧壁12的上端竖直向下延伸，且锁水圈13的下端与下煎烤壁面21之间的垂直距离h小于等于7_，也就是说，锁水圈13的下端很接近下煎烤壁面21，这样，煎烤腔室101内的水分可以有效地被锁水圈13锁住，煎烤腔室101内的食物200不会太干、口感较好，从而提高了食物200的煎烤效果，缩短了食物200的煎烤时间。
[0071]这里，需要说明的是，锁水圈13的形状和设置位置还可以根据实际要求设置，以更好地满足实际要求，例如锁水圈13还可以直接从上煎烤壁面11向下延伸，且锁水圈13还可以自上向下朝向远离煎烤腔室101中心的方向倾斜延伸。
[0072]在本实用新型的一个实施例中，参照图5和图7，上烤盘I的内表面上、即上煎烤壁面11上可以形成有弯曲的蒸汽通道25、下烤盘2的内表面上、即下煎烤壁面21上也可以形成有弯曲的蒸汽通道25、上烤盘I和下烤盘2的内表面上、即上煎烤壁面11和下煎烤壁面21上还可以同时形成有弯曲的蒸汽通道25。由此，可以将煎烤腔室101内蒸汽有效地限定在蒸汽通道25内，且沿着蒸汽通道25流动，从而可以把热量从高温区带入低温区，例如可以将煎烤腔室101中心处的热量带入煎烤腔室101的边缘处，从而加快了食物200的煎烤速度，缩短了煎烤时间，提高了食物200的受热均匀性，也就是说，位于烤盘任意位置处的食物200可以大体同时成熟，从而改善了食物200的煎烤效果。
[0073]由于上烤盘I内的蒸汽通道25的形状可以与下烤盘2内的蒸汽通道25的形状相同，且上烤盘I内的蒸汽通道25的分布位置可以与下烤盘2内的蒸汽通道25的分布位置上下对应，从而下面仅以下烤盘2内的蒸汽通道25的形状和分布位置为例进行说明，当然，本领域技术人员在阅读了下面的技术方案后，显然可以理解上烤盘I内的蒸汽通道25的形状和分布位置。
[0074]例如在本实用新型的其中一个示例中，如图5所示，蒸汽通道25形成为螺旋形状，蒸汽通道25的起始端可以位于下烤盘2的中心处，且可以沿着逆时针的方向向下烤盘2的边缘一圈圈的螺旋向外延伸，由此，下烤盘2中心处(即高温区)的蒸汽可以沿着螺旋延伸的蒸汽通道25向下烤盘2的边缘(即低温区)一圈圈的螺旋流动扩散，从而可以保证位于烤盘任意位置处的食物200可以大体同时成熟，提高了食物200的煎烤速度，缩短了煎烤时间。
[0075]进一步地，下烤盘2的内表面上设有垂直延伸出的螺旋延伸的凸筋24，蒸汽通道25由凸筋24之间限定出。如图6所示，凸筋24可以从下煎烤壁面21竖直向上延伸，凸筋24的横截面可以形成为矩形或者梯形形状，且凸筋24可以沿着逆时针的方向向下烤盘2的边缘一圈圈的螺旋向外延伸，从而每相邻的两圈凸筋24之间可以限定出的一段蒸汽通道25，这样，多组相邻的凸筋24可以限定出一条完整的蒸汽通道25。
[0076]可选地，蒸汽通道25可以形成为圆螺旋形状或方螺旋形状，其中当蒸汽通道25形成为方螺旋形状时，凸筋24可以包括依次连接的多条回形凸筋24，且多条回形凸筋24在径向上彼此间隔开。例如在图5的示例中，在下烤盘2的纵向中心线(例如图5中所示的YY线)的右侧设有多条沿前后方向延伸的第一凸筋，且多条第一凸筋在左右方向上彼此均匀地间隔开，在下烤盘2的横向中心线(例如图5中所示的XX线)的前侧设有多条沿左右方向延伸的第二凸筋，且多条第二凸筋在前后方向上彼此均匀地间隔开，在下烤盘2的纵向中心线(例如图5中所示的YY线)的左侧设有多条沿前后方向延伸的第三凸筋，且多条第三凸筋在左右方向上彼此均匀地间隔开，在下烤盘2的横向中心线(例如图5中所示的XX线)的后侧设有多条沿左右方向延伸的第四凸筋，且多条第四凸筋在前后方向上彼此均匀地间隔开。
[0077]进一步地，参照图5，最邻近下烤盘2中心的第一圈第四凸筋244的右端与最邻近下烤盘2中心的第一圈第一凸筋241的前端相连，最邻近下烤盘2中心的第一圈第一凸筋241的后端与最邻近下烤盘2中心的第一圈第二凸筋242的右端相连，最邻近下烤盘2中心的第一圈第二凸筋242的左端与最邻近下烤盘2中心的第一圈第三凸筋243的后端相连，最邻近下烤盘2中心的第一圈第三凸筋243的前端与最邻近第一圈第四凸筋244的第二圈第四凸筋的左端相连，依此类推，从而可以构成依次连接的且径向间隔开的多条回形凸筋24。
[0078]这样，参照图5，第一圈第一凸筋241与第二圈第一凸筋之间可以限定出第一圈第一蒸汽通道段251，第一圈第二凸筋242与第二圈第二凸筋之间可以限定出第一圈第二蒸汽通道段252，第一圈第三凸筋243与第二圈第三凸筋之间可以限定出第一圈第三蒸汽通道段253，第一圈第四凸筋244与第二圈第四凸筋之间可以限定出第一圈第四蒸汽通道段254，第二圈第一凸筋与第三圈第一凸筋之间可以限定出第二圈第二蒸汽通道段，依此类推。
[0079]其中，如图5所示，第一圈第四蒸汽通道段254的右端与第一圈第一蒸汽通道段251的前端相连通，第一圈第一蒸汽通道段251的后端与第一圈第二蒸汽通道段252的右端相连通，第一圈第二蒸汽通道段252的左端与第一圈第三蒸汽通道段253的后端相连通，第一圈第三蒸汽通道段253的前端与第二圈第四蒸汽通道段的左端相连通，依此类推，从而可以构成一条完整的、形成为方螺旋形状蒸汽通道25。由此，蒸汽可以从第一圈第四蒸汽通道段254沿着逆时针的方向依次流经第一圈第一蒸汽通道段251、第一圈第二蒸汽通道段252、第一圈第三蒸汽通道段253、依此类推，最终流向最后一圈第一蒸汽通道段255后可以沿着蒸汽通道出口 256流向下烤盘2的边缘，从而实现了把高温区的蒸汽带到烤盘的其他位置，尤其是带到烤盘边缘处的低温区，从而可以保证位于烤盘任意位置处的食物200可以大体同时成熟，提高了食物200的煎烤速度。当然，本实用新型不限于此，蒸汽通道25的数量和延伸形状还可以根据实际要求设置，以更好地满足实际要求。
[0080]例如在本实用新型的另一个示例中，下烤盘2的内表面上具有多个凸出部26，多个凸出部26之间限定出蒸汽通道25。如图7所示，凸出部26可以从下煎烤壁面21竖直向上凸出，每相邻的两个凸出部26之间限定出蒸汽通道25的其中一段，多组相邻的凸出部26共同限定出一个完整的蒸汽通道25。由此，通过设置蒸汽通道25，高温蒸汽可以在蒸汽通道25内流动，从而加快了煎烤速度，缩短了煎烤时间，提高了食物200的煎烤成熟均匀度。
[0081]优选地，多个凸出部26呈多排多列排列。例如在图7的示例中，多个凸出部26可以分别在左右方向上彼此间隔开地设置，且在前后方向上也彼此间隔开地设置，从而多个凸出部26可以多排多列地排列。当然，本实用新型不限于此，多个凸出部26还可以呈环形阵列排列(图未示出)，也就是说，多个凸出部26可以在周向上间隔开布置以构造为一圈凸出部26，多圈凸出部26可以在径向上间隔开排布，从而多个凸出部26可以呈环形阵列排列。
[0082]在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
[0083]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0084]在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
[0085]在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0086]在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
[0087]尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解:在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。
【权利要求】
1.一种煎烤装置，其特征在于，包括: 下烤盘； 上烤盘，所述上烤盘可转动地连接至所述下烤盘，且所述上烤盘与所述下烤盘之间限定出煎烤腔室，所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述煎烤腔室的高度为10-15mm，所述上烤盘和所述下烤盘均为方形烤盘； 发热管，所述发热管设在所述上烤盘和所述下烤盘内且盘绕设置。
2.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述发热管的中心线与其所在的所述上烤盘和/或下烤盘的内侧壁之间的最近距离不大于50mm。
3.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述上烤盘和所述下烤盘均为大体矩形烤盘，所述发热管在其所在的所述上烤盘和/或下烤盘内盘绕成外轮廓为大体矩形的形状。
4.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述上烤盘的内表面垂直地延伸出环形的锁水圈，所述上烤盘和所述下烤盘在闭合状态时所述锁水圈的下端与所述下烤盘的内表面之间的距离小于等于7mm。
5.根据权利要求4所述的煎烤装置，其特征在于，所述发热管的中心线与其所在的所述上烤盘和/或下烤盘的四个内侧壁之间的距离均相等。
6.根据权利要求1所述的煎烤装置，其特征在于，所述上烤盘和/或下烤盘的内表面上形成有弯曲的蒸汽通道。
7.根据权利要求6所述的煎烤装置，其特征在于，所述蒸汽通道形成为方螺旋形状。
8.根据权利要求7所述的煎烤装置，其特征在于，所述上烤盘和/或下烤盘的内表面上设有垂直延伸出的螺旋延伸的凸筋，所述蒸汽通道由所述凸筋之间限定出。
9.根据权利要求6所述的煎烤装置，其特征在于，所述上烤盘和/或下烤盘的内表面上具有多个凸出部，所述多个凸出部之间限定出所述蒸汽通道。
10.根据权利要求9所述的煎烤装置，其特征在于，所述多个凸出部呈多排多列排列、或呈环形阵列排列。
【文档编号】A21B5/03GK204232980SQ201420645801
【公开日】2015年4月1日 申请日期:2014年10月31日 优先权日:2014年10月31日
【发明者】邢凤雷, 王志刚, 杜明辉, 尹志楠, 万程 申请人:佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司, 美的集团股份有限公司