专利名称：头颅固定帽的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及医疗用帽子，具体是一种头颅固定帽。
背景技术：
目前医院头颅开颅手术的病人，头颅的残缺会出现不美观的现象，病人往往有比 较严重的心理障碍，在休息时影响睡觉的姿势和心态。
发明内容本实用新型的目的是排除病人因头颅缺损引起外观的改变而担心头部再次受损 带来的心里问题，以便使之恢复正常的睡觉的姿势，提出一种头颅固定帽。为此本实用新型的技术方案为，头颅固定帽，包括帽子本体，其特征在于所述帽 子本体设为三层，其中内层是和头颅吻合的内衬层，中间层为硬质材料防护层，外层为外护 层；其中硬质材料防护层是活动设置在头颅缺损处的镶块，镶块比头颅缺损处的尺寸大。对上述方案的改进在于硬质材料防护层的镶块为轻质纳米PBT材料制成的。有益效果本实用新型对于头颅开颅手术的病人来讲，直接把本实用新型套在头上，在开颅 处把中间层的硬质材料即轻质纳米PBT的镶块对准创口位置，起到有效的防护作用，病人 就可以心安理得的休息和生活，不会应为头颅缺损的不美观而担心头部再次受损带来的心 里问题。本实用新型结构简单，成本低，不仅有效地保护了头颅缺损处，还会全方位地对病 人进行呵护。
图1是本实用新型的结构简图。图中1是帽子本体，2是帽子的外层，3是硬质材料防护层的镶块，4是内衬层。
具体实施方式
如图1所示，帽子1设为三层，内层是和头颅吻合的内衬层4，中间层为硬质材料防 护层3，外层为外护层2 ；其中硬质材料防护层3是活动设置在开颅创口处的镶块，镶块比创 口的尺寸大。硬质材料防护层的镶块为轻质纳米PBT材料制成的。
权利要求头颅固定帽，包括帽子本体，其特征在于所述帽子本体设为三层，其中内层是和头颅吻合的内衬层，中间层为硬质材料防护层，外层为外护层；其中硬质材料防护层是活动设置在头颅缺损处的镶块。
2.根据权利要求1所述的头颅固定帽，其特征在于硬质材料防护层的镶块为轻质纳 米PBT材料制成的。
专利摘要本实用新型头颅固定帽，是把帽子本体设为三层，其中内层是和头颅吻合的内衬层，中间层为硬质材料防护层，外层为外护层；其中硬质材料防护层是活动设置在头颅缺损处的镶块，镶块比头颅缺损处的尺寸大；硬质材料防护层的镶块为轻质纳米PBT材料制成的。对于头颅开颅手术的病人来讲，直接把本实用新型套在头上，在开颅处把中间层的硬质材料即轻质纳米PBT的镶块对准头颅缺损处，不会因为头颅缺损引起外观的改变而担心头部再次受损带来的心里问题，使之恢复正常的睡觉的姿势。本实用新型结构简单，成本低，不仅有效地保护了头颅缺损处，还会全方位地对病人进行呵护。
文档编号A41D13/05GK201631433SQ20102013567
公开日2010年11月17日 申请日期2010年3月17日 优先权日2010年3月17日
发明者冯晓敏, 叶宝霞, 吕文彩, 姜佩娥, 朱红霞, 杨海力, 王静, 秦雪琴, 罗芳, 黄敏 申请人:郧阳医学院附属太和医院