一种用于助产的帽子的制作方法

文档序号:16487009发布日期:2019-01-04 23:08阅读:339来源:国知局
一种用于助产的帽子的制作方法

本实用新型涉及医疗技术领域,具体涉及一种用于助产的帽子。



背景技术:

生孩子是人生重要的事情,随着医疗设施等技术的发展,婴儿的接生成功率也大有提高,但现在产妇的生产过程还是有很多不足之处需要改进。例如在产妇生产过程中有发烧、出汗等现象,有时还会留下后遗症,如果不多加注意,后患无穷。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了解决现有技术的不足,提供一种用于助产的帽子。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的:

一种用于助产的帽子,包括帽子本体、面部缓和体、颈部缓和体,所述帽子本体由吸汗层和保暖层组成;

所述面部缓和体由两层吸汗布缝制而成,在所述面部缓和体上缝制有多个按摩腔,在所述一个按摩腔中设有一个按摩珠;在所述帽子本体的上端设有套环,所述面部缓和体从所述套环中穿过;所述面部缓和体的两端连接在一起;

所述颈部缓和体包括颈部按摩垫和第一擦汗布,在所述颈部按摩垫上设有按摩凸起;所述颈部按摩垫连接在所述帽子本体后面下端处,所述第一擦汗布的一端设置在所述颈部按摩垫上。

进一步,所述吸汗层位于所述保暖层的内侧。

进一步,在所述面部缓和体的靠近两端的位置处是擦汗区,在所述擦汗区外侧上设有第二擦汗布,所述第二擦汗布缝制在所述面部缓和体上。

进一步,在所述擦汗区中不设置按摩珠。

进一步,在所述面部缓和体的两端上设有相适配的魔术贴。

进一步,在所述面部缓和体的其中一端上设有至少两个魔术贴。

进一步,所述按摩珠的形状为球形。

进一步,所述按摩凸起设置在所述颈部按摩垫的中间位置上。

进一步,所述颈部按摩垫缝制在所述帽子本体上。

进一步,所述第一擦汗布缝制在所述颈部按摩垫上。

综上所述,由于采用了上述技术方案,本实用新型与现有技术相比,有以下优点:

本实用新型使用方便,可以在产妇生产时使用,缓解产妇紧张感,让产妇感觉更加舒适,有助于生产的顺利进行。

附图说明

图1是本实用新型一种用于助产的帽子的结构示意图;

图2是本实用新型的面部缓和体的结构示意图

图3是本实用新型的帽子本体的截面图。

标注说明:1、帽子本体;2、面部缓和体;3、颈部缓和体;4、第二擦汗布;5、套环;6、魔术贴;11、吸汗层;12、保暖层;21、按摩腔;22、按摩珠;23、擦汗区;31、颈部按摩垫;32、第一擦汗布;33、按摩凸起。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细介绍。

请参见图1~3,本实用新型一种用于助产的帽子,包括帽子本体1、面部缓和体2、颈部缓和体3。请参见图3,帽子本体1由吸汗层11和保暖层组成12,吸汗层11位于保暖层12的内侧。

请参见图2,面部缓和体2由两层吸汗布缝制而成,在面部缓和体2上缝制有多个按摩腔21,在一个按摩腔21中设有一个按摩珠22,按摩珠22的形状为球形。在面部缓和体2的靠近两端的位置处是擦汗区23,在擦汗区23中不设置按摩珠22。在擦汗区23外侧上设有第二擦汗布4,第二擦汗布4缝制在面部缓和体2上。

在帽子本体1的上端设有套环5,面部缓和体2从套环5中穿过。在面部缓和体2的两端上设有相适配的魔术贴6。面部缓和体2的两端通过魔术贴6连接在一起,在面部缓和体2的其中一端上设有至少两个魔术贴6,通过魔术贴6可以调节面部缓和体2的松紧,使之贴合产妇面部。

颈部缓和体3包括颈部按摩垫31和第一擦汗布32,在颈部按摩垫31上设有按摩凸起33,按摩凸起33设置在颈部按摩垫31的中间位置上。颈部按摩垫31缝制在帽子本体1后面下端处,第一擦汗布32的一端缝制在颈部按摩垫31上。

使用时,将帽子本体1戴在产妇的头上,通过吸汗层11可以让产妇头部不会太潮热,通过保暖层12可以对产妇的头部进行保暖,确保不会产生后遗症。颈部缓和体3垫在颈部处,通过颈部按摩垫31上的按摩凸起33可以对产妇的颈部进行按摩,缓解产妇的紧张感,让产妇更舒适;使用连接在颈部按摩垫31上的第一擦汗布32可以对产妇面部、颈部流下的汗进行吸收,也可以使用第一擦汗布32对产妇面部、颈部流下的汗进行擦拭,让产妇保持清爽的状态。

拉动面部缓和体2,设置在面部缓和体2中的按摩珠22可以对产妇的面部进行按摩,也可以直接推动按摩珠22对产妇的面部进行按摩,按摩面部可以增加血液循环,缓解紧张感,让产妇保持好的状态生产。使用缝制在面部缓和体2上的第二擦汗布4可以对产妇的脸侧的汗水进行擦拭,让产妇不会太闷热。

本实用新型使用方便,可以在产妇生产时使用,缓解产妇紧张感,让产妇感觉更加舒适,有助于生产的顺利进行。

以上所述的实施例仅用于说明本实用新型的技术思想及特点,其目的在于使本领域内的技术人员能够了解本实用新型的内容并据以实施,不能仅以本实施例来限定本实用新型的专利范围,即凡依本实用新型所揭示的精神所作的同等变化或修饰,仍落在本实用新型的专利范围内。

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