校正模体、位置和放射源信息校正方法及装置制造方法
【专利摘要】一种校正模体、位置和放射源的信息校正方法及装置，所述校正模体包括:设置于所述放射源和成像面板之间的模体本体和设置在所述模体本体中的探测单元，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线信息，并通过位于所述模体本体中的支撑装置设置于所述模体本体上。上述的方案可以同时实现对于放射源和成像面板之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线的信息进行校正。
【专利说明】校正模体、位置和放射源信息校正方法及装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及医疗【技术领域】，特别是涉及一种校正模体及通过该校正模体进行位置和放射源的信息校正的方法及装置。
【背景技术】
[0002]模体，是具有特定功能的或作为一个独立结构域一部分的相邻的二级结构的聚合体。利用放射源发射的射线照射模体，并通过设置在模体之后的成像面板上射线的不同程度的衰减所形成的图像，以确定在实际的病人治疗中施加到病人特定组织上的辐射剂量，是医学领域中对于模体的普遍应用。
[0003]现有技术中一般采用在模体中安装吸收球体的方式，来获取放射源发出的射线的信息。但是，现有技术中的模体无法同时对放射源和探测单元之间的位置和放射源发射的射线信息进行校正。
【发明内容】
[0004]本发明实施例解决的是如何采用模体本体同时对放射源和探测单元之间的位置以及放射源的射线信息同时进行校正。
[0005]为解决上述问题，本发明实施例提供了一种校正模体，所述校正模体包括:
[0006]设置于所述放射源和成像面板之间的模体本体和设置在所述模体本体中的探测单元，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线信息，并通过位于所述模体本体中的支撑装置设置于所述模体本体上。
[0007]可选地，所述模体本体包括平行设置的切面，所述支撑装置的下端安装有所述探测单元，并固定于所述切面上。
[0008]可选地，所述切面之间的距离大于等于第一交点到第一切面之间的距离，所述第一交点为所述模体本体上距离所述放射源最远的点与所述放射源所在的几何坐标位置之间的连线，与所述模体本体的表面的交点，所述第一切面为所述模体本体中距离所述放射源最远的点所在的与所述水平面垂直的垂直面。
[0009]可选地，所述探测单元包括电离室、半导体探头或者热释光片，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线的信息，包括:
[0010]通过电离室、半导体探头或者热释光片的几何位置信息测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置，并通过所述电离室、半导体探头或者热释光片测量所述放射源发射的射线信息。
[0011]可选地，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线的信息，包括:
[0012]采用第一组探测单元的几何位置信息测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息；
[0013]采用第二组探测单元测量所述放射源发射的射线的信息，所述第二组探测单元包括电离室、半导体探头或者热释光片。
[0014]本发明实施例还提供了一种位置校正方法，所述方法包括:
[0015]采用上述的校正模体进行射线成像；
[0016]获取所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息；
[0017]根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。
[0018]可选地，所述获取成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，包括:获取所述校正模体中探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置信息。
[0019]可选地，所述根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正，包括:
[0020]将所获取的探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置与目标位置进行比较，得到几何位置校正信息；
[0021]采用所得到的几何位置校正信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。
[0022]本发明实施例还提供了一种放射源信息校正方法，所述方法包括:
[0023]采用上述的校正模体探测所述放射源的射线信息，所述放射源的射线信息包括放射源发射的射线的强度或者剂量；
[0024]根据探测得到的所述放射源的射线信息与所述放射源的目标射线信息，对所述放射源发出的射线进行校正，直至所述放射源的射线信息为所述放射源的目标射线信息。
[0025]可选地，所述采用上述的校正模体探测所述放射源的射线信息，包括:利用所述校正模体中的探测单元探测所述放射源的射线信息。
[0026]本发明实施例还提供了一种位置校正装置，其特征在于，包括:
[0027]第一获取单元，适于采用上述的校正模体获取所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息；
[0028]第一校正单元，适于根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。
[0029]可选地，所述第一获取单元适于获取所述校正模体中探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置信息。
[0030]可选地，所述第一校正单元包括:
[0031]比较子单元，适于将所获取的探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置与目标位置进行比较，得到几何位置校正信息；
[0032]校正子单元，适于采用所得到的几何位置校正信息对所述成像面板的几何位置进行校正。
[0033]本发明实施例还提供了一种放射源信息校正装置，所述装置包括:
[0034]第二获取单元，适于上述的校正模体探测所述放射源的射线信息，所述放射源的射线信息包括放射源发射的射线强度或者剂量；
[0035]第二校正单元，适于根据探测得到的所述放射源的射线信息与所述放射源的目标射线信息，对所述放射源发出的射线进行校正，直至所述放射源的射线信息为所述放射源的目标射线信息。
[0036]可选地，所述第二获取单元适于利用所述校正模体中的探测单元探测所述放射源的射线信息。
[0037]与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下的优点:
[0038]通过设置于所述模体本体上的探测单元，探测放射源和探测单元之间的位置信息以及所述放射源发射的射线信息，可以同时对于放射源和成像面板之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线的信息进行校正，结构简单，方便实用。
【专利附图】
【附图说明】
[0039]图1是本发明实施例中的一种校正模体的结构示意图；
[0040]图2是本发明实施例中的一种位置校正方法的流程图；
[0041]图3是本发明实施例中的一种放射源信息校正方法的流程图；
[0042]图4是本发明实施例中的一种位置校正装置的结构示意图；
[0043]图5是本发明实施例中的一种放射源信息校正装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0044]为解决现有技术中存在的上述问题，本发明实施例采用的技术方案通过设置于所述模体本体上的探测单元，探测放射源和探测单元之间的位置信息以及所述放射源发射的射线信息，可以同时对于放射源和成像面板之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线信息进行校正。
[0045]为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
[0046]图1示出了本发明实施例中的一种校正模体的结构示意图。如图1所示的校正模体100，可以包括:通过固定支架(图中未示出)设置于成像面板10和放射源20之间的模体本体101，以及设置在模体本体101中的探测单元102，探测单元102固定安装在支撑装置103的下端，且支撑装置103的下端固定安装在模体本体101中的切面104上。其中:
[0047]探测单元102，适于测量成像面板10与放射源20之间的相对几何位置以及放射源20发射的射线信息。
[0048]在具体实施中，支撑装置103可以为手持杆。
[0049]在具体实施中，相邻的切面104之间的距离大于等于第一交点到第一切面之间的距离。其中，第一交点为模体本体101上距离放射源20最远的点与放射源20所在的几何坐标位置之间的连线，与模体本体101的表面的交点。第一切面为模体本体101中距离放射源20最远的点所在的与所述水平面垂直的垂直面。相邻切面104之间的上述距离的设置可以保证放射源20发射的射线在沿着切面104的某一条轴做圆周运动进行扫描时，各个切面104固定安装的探测单元102的投影不会重叠。
[0050]下面结合图2和图3对于图1所示的校正装置的工作原理做进一步详细的介绍。
[0051]图2示出了本发明实施例中的一种位置校正方法的流程图。如图2所示的位置校正方法，可以包括:
[0052]步骤S201:采用校正模体进行射线成像。
[0053]在具体实施中，可以将校正模体100放置于放射源20的下方，并与放射源20之间具有预设的距离，且在校正模体100的后方设置有成像面板10。其中，当放射源20发射的射线照射在校正模体100上时，可以在成像面板10上形成相应的射线图像。
[0054]步骤S202:获取所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息。
[0055]在具体实施中，可以获取所述校正模体100中探测单元102在所述成像面板10上所成的射线图像102’的几何位置(坐标)的信息，以获取所述成像面板10与放射源20之间的相对几何位置的信息。
[0056]步骤S203:根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。
[0057]在具体实施中，可以将所获取的探测单元102在成像面板10上所成的射线图像102’的几何位置与目标位置进行比较，获取所得到的几何位置与目标位置两者之间的偏差，得到几何位置校正信息。然后，可以根据所得到的几何位置校正信息对成像面板10的几何位置进行调整，从而使得探测单元102在成像面板10上所成的射线图像102’的几何位置达到所述目标位置。
[0058]这里需要指出的是，根据所获取的几何位置校正信息，也可以对校正模体100在成像面板10上所成的射线图像102’的几何位置进行校正。
[0059]图3示出了本发明实施例中的一种放射源信息校正方法的流程图。如图3所示的放射源信息校正方法，可以包括:
[0060]步骤S301:采用校正模体探测所述放射源的射线信息。
[0061]在具体实施中，由于在校正模体100的切面104上安装有探测单元102，探测单元102可以对放射源20所发射的射线信息进行探测。例如，探测单元102可以通过电离室、半导体探头或者热释光片等对放射源20发射的射线信息进行探测。
[0062]在具体实施中，放射源20的射线信息包括射线的强度或者剂量的信息。
[0063]步骤S302:根据探测得到的所述放射源的射线信息与所述放射源的目标射线信息，对所述放射源发出的射线进行校正，直至所述放射源的射线信息为所述放射源的目标射线信息。
[0064]在具体实施中，根据探测单元102所得到的放射源20的射线信息与放射源20的目标射线信息进行比较，可以两者之间的偏差，从而可以根据所述偏差对放射源20发射的射线进行调整，直至满足预设的目标射线信息。
[0065]在具体实施中，图2和图3中的探测单元102的个数可以根据实际的需要进行设定，从而可以通过多个探测单元102的几何位置信息或者多个探测单元102所探测得到的放射源20发射的射线信息，分别对成像面板10与放射源20之间的相对几何位置和放射源20发射的射线信息进行调整，以提高几何位置校正的射线信息校正的准确性。
[0066]这里需要指出的是，图2和图3所示的校正方法中，可以采用同一探测单元102同时对成像面板10和放射源20之间的相对几何位置和放射源20发射的射线信息进行校正，也可以采用校正模体100不同的探测单元102分别对成像面板10与放射源20之间的相对几何位置以及放射源20发射的射线信息进行调整，在此不再赘述。
[0067]图4示出了本发明实施例中的一种位置校正装置的结构示意图。如图4所述的位置校正装置400,可以包括第一获取单元401和第一校正单元402,其中:
[0068]第一获取单元401，适于采用上述的校正模体获取所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息。其中，第一获取单元401适于获取所述校正模体中探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置信息。
[0069]第一校正单元402，适于根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。
[0070]在具体实施中，第一校正单元402可以包括比较子单元4021和校正子单元4022，其中:
[0071]比较子单元4021，适于将所获取的探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置与目标位置进行比较，得到几何位置校正信息。
[0072]校正子单元4022，适于采用所得到的几何位置校正信息对所述成像面板的几何位置进行校正。
[0073]图5示出了本发明实施例中的一种放射源信息校正装置的结构示意图。如图5所示的放射源信息校正装置500，可以包括:
[0074]第二获取单元501，适于采用上述的校正模体探测所述放射源的射线信息，所述放射源的射线信息包括放射源发射的射线强度或者剂量的信息。
[0075]第二校正单元502，适于根据探测得到的所述放射源的射线信息与所述放射源的目标射线信息，对所述放射源发出的射线进行校正，直至所述放射源的射线信息为所述放射源的目标射线信息。
[0076]在具体实施中，第二获取单元502适于利用所述校正模体中的探测单元探测所述放射源的射线信息。
[0077]本领域普通技术人员可以理解上述实施例的各种方法中的全部或部分步骤是可以通过程序来指令相关的硬件来完成，该程序可以存储于计算机可读存储介质中，存储介质可以包括:ROM、RAM、磁盘或光盘等。
[0078]以上对本发明实施例的方法及系统做了详细的介绍，本发明并不限于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。
【权利要求】
1.一种校正模体，其特征在于，包括设置于所述放射源和成像面板之间的模体本体和设置在所述模体本体中的探测单元，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线信息，并通过位于所述模体本体中的支撑装置设置于所述模体本体上。
2.根据权利要求1所述的校正模体，其特征在于，所述模体本体包括平行设置的切面，所述支撑装置的下端安装有所述探测单元，并固定于所述切面上。
3.根据权利要求2所述的校正模体，其特征在于，所述切面之间的距离大于等于第一交点到第一切面之间的距离，所述第一交点为所述模体本体上距离所述放射源最远的点与所述放射源所在的几何坐标位置之间的连线，与所述模体本体的表面的交点，所述第一切面为所述模体本体中距离所述放射源最远的点所在的与所述水平面垂直的垂直面。
4.根据权利要求1所述的校正模体，其特征在于，所述探测单元包括电离室、半导体探头或者热释光片，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线的信息，包括:通过电离室、半导体探头或者热释光片的几何位置信息测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置，并通过所述电离室、半导体探头或者热释光片测量所述放射源发射的射线信息。
5.根据权利要求1所述的校正模体，其特征在于，所述探测单元适于测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置以及所述放射源发射的射线的信息，包括: 采用第一组探测单元的几何位置信息测量所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息； 采用第二组探测单元测量所述放射源发射的射线的信息，所述第二组探测单元包括电离室、半导体探头或者热释光片。
6.—种位置校正方法,其特征在于,包括: 采用权利要求1-4任一项所述的校正模体进行射线成像； 获取所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息； 根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。
7.根据权利要求6所述的位置校正方法，其特征在于，所述获取成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，包括:获取所述校正模体中探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置信息。
8.根据权利要求7所述的位置校正方法，其特征在于，所述根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正，包括: 将所获取的探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置与目标位置进行比较，得到几何位置校正信息； 采用所得到的几何位置校正信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。
9.一种放射源信息校正方法，其特征在于，包括: 采用权利要求1-4任一项所述的校正模体探测所述放射源的射线信息，所述放射源的射线信息包括放射源发射的射线的强度或者剂量； 根据探测得到的所述放射源的射线信息与所述放射源的目标射线信息，对所述放射源发出的射线进行校正，直至所述放射源的射线信息为所述放射源的目标射线信息。
10.根据权利要求9所述的放射源信息校正方法，其特征在于，所述采用权利要求1-4任一项所述的校正模体探测所述放射源的射线信息，包括:利用所述校正模体中的探测单元探测所述放射源的射线信息。
11.一种位置校正装置，其特征在于，包括: 第一获取单元，适于采用权利要求1-4任一项所述的校正模体获取所述成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息； 第一校正单元，适于根据所获取的成像面板与所述放射源之间的相对几何位置的信息，对所述成像面板的几何位置进行校正。
12.根据权利要求11所述的位置校正装置，其特征在于，所述第一获取单元适于获取所述校正模体中探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置信息。
13.根据权利要求12所述的位置校正装置，其特征在于，所述第一校正单元包括: 比较子单元，适于将所获取的探测单元在所述成像面板上所成的射线图像的几何位置与目标位置进行比较，得到几何位置校正信息； 校正子单元，适于采用所得到的几何位置校正信息对所述成像面板的几何位置进行校正。
14.一种放射源信息校正装置，其特征在于，包括: 第二获取单元，适于采用权利要求1-4任一项所述的校正模体探测所述放射源的射线信息，所述放射源的射线信息包括放射源发射的射线强度或者剂量； 第二校正单元，适于根据探测得到的所述放射源的射线信息与所述放射源的目标射线信息，对所述放射源发出的射线进行校正，直至所述放射源的射线信息为所述放射源的目标射线信息。
15.根据权利要求14所述的放射源信息校正装置，其特征在于，所述第二获取单元适于利用所述校正模体中的探测单元探测所述放射源的射线信息。
【文档编号】A61N5/00GK104288913SQ201410582000
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2014年10月27日 优先权日:2014年10月27日
【发明者】李贵, 朱建伟, 姬长胜 申请人:上海联影医疗科技有限公司