焊接面罩的制作方法

文档序号:12612607阅读:576来源:国知局

本实用新型涉及安全用品中电焊工具技术领域,特别是一种焊接面罩。



背景技术:

现有常用的焊接面罩使用的护面镜组所含的镜片均为遮光镜片,因此电焊工在作焊接时,须一会儿拿焊接面罩遮住脸部作焊接,一会儿须整个挪开焊接面罩,在看清焊接成果,如此反复以完成焊接工作,然而如此工作方法太没效率,且容易让电焊工产生疲劳。故,就有业者开发出中国台湾新型专利第M338648号“焊接面罩结构改良”所揭示的现有技术,将其护目镜组的遮光镜片采用枢设且重叠于透明板的方式,使电焊工在作焊接时,须一会儿用遮光镜片遮住透明板以作焊接工作时隔绝电弧强光,一会儿须翻开遮光镜片,以看清焊接成果,如此反复以完成焊接工作,然而透光板的位置是固定的,并不适合所有人的使用习惯。



技术实现要素:

针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种焊接面罩,透视窗的位置可以根据自己的实际情况确定十分快捷简单。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种焊接面罩,包括开设有主观察孔的面罩本体,所述观察主孔固定有镜座,所述镜座上安装有遮光镜片,所述面罩本体呈透明设置,所述面罩本体的外表面可拆卸式固定有用于过滤弧光的过滤膜。

进一步设置为:所述面罩本体由透明板材料制成。

进一步设置为:所述过滤膜由至少两块单片膜构成。

进一步设置为:所述面罩本体安装有手持件和/或穿戴件。

进一步设置为:所述面罩本体的内侧面固定有帽衬。

进一步设置为:所述帽衬的外表面固定有若干个干燥圈,所述干燥圈内填充有硅胶干燥剂。

进一步设置为:所述面罩本体上开设有呼吸孔,所述呼吸孔的周缘固定有滤网膜。

进一步设置为:所述呼吸孔设置于所述面罩本体的上部或下部。

进一步设置为:所述面罩本体上设有悬挂件。

本实用新型的有益效果为:通过上述技术方案,用户戴上该焊接面罩后,配合头部扭转的角度,在焊接面罩上找到一个可以很好地观测未焊接时焊接点的情况位置,然后在该处剜出该部分的过滤膜,配合透明的焊接面罩,以漏出一个透视窗,借助该透视窗,用户就可以根据自己的实际情况确定透视窗的位置,十分快捷简单,而且,面罩本体上其余的过滤膜可以辅助遮光镜片过滤电焊强光,保障用户的健康。

附图说明

图1为本实施例焊接面罩的三维示意图。

图中:10、面罩本体;11、镜座;12、观察主孔;121、遮光镜片;13、透视窗;4、呼吸孔;15、穿戴件;16、手持件;17、悬挂件;50、过滤膜;51、单片膜。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型作进一步详细说明,应理解这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围,在阅读了本实用新型之后,本领域技术人员对本实用新型的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。

焊接面罩是指在焊割作业中起到保护作业人员安全的工具。是集光学、电子学、人体学、材料学等学科为一体的高科技产品。

根据图1所示,一种焊接面罩,包括开设有主观察孔的面罩本体10,观察主孔12固定有镜座11,镜座11上安装有遮光镜片121,针对遮光镜片121,其可为:采用优质的LCD与镀玻璃组合为遮光镜片121,镜片上的光感应系统能在瞬间探测到电焊时弧光的产生与消失,迅速驱动液晶体遮光变色等以达到安全有效的过滤有害光,从而保护焊工的眼、面部避免弧光辐射的伤害;当然也可以墨色镜片,在本实施例中,并不对遮光镜片121的选材与结构做出限定,只需其能过滤掉有害光线,保护焊工的眼部、面部免受弧光辐射的伤害。

但是,在实际的使用过程中,电焊工须一会儿用遮光镜片121遮住透明板以作焊接工作时隔绝电弧强光,一会儿须翻开遮光镜片121,以看清焊接成果,如此反复以完成焊接工作,然而如此工作方法仍相当地麻烦,且提升工作效率仍然有限。

故在本实施例中,可以进行以下设置:面罩本体呈透明设置,面罩本体的外表面可拆卸式固定有用于过滤弧光的过滤膜50,借助过滤膜50,其对光线的传播方向进行修正,能够减少光线的散射,降低漫射值,使用该过滤膜50,在焊接前有较高的透过率,在焊接起弧时,有较高的遮光度,提高了白态与黑态的对比度,能够很好的保护眼睛不受伤害;在实际的焊接前后,即没有焊接强光产生时,用户可以带上该焊接面罩,然后配合头部扭转的角度,在焊接面罩上找到一个可以很好地观测未焊接时焊接点的情况位置,然后在该处剜出该部分的过滤膜50,配合透明的焊接面罩,以漏出一个透视窗13,借助该透视窗13,用户就可以根据自己的实际情况确定透视窗13的位置,而且,面罩本体10上其余的过滤膜50可以辅助遮光镜片121过滤电焊强光,保障用户的健康;而且,若透视窗13的位置选择不合适,因为过滤膜50是可拆卸式固定于面罩本体上,用户还可以将剜出的部分过滤膜50重新安装在焊接面罩上,然后再度剜出合适位置的过滤膜50。

为方便用户剜出过滤膜50,还可进一步设置:过滤膜50由至少两块单片膜51构成。这样,用户只需在合适的位置拆卸该处的单片膜51即可,十分的方便快捷。在本实施例中,过滤膜50可以是粘接在面罩本体上的,也可以是通过固定件(如:螺钉)固定在面罩本体上的,在本实施例中,并不对过滤膜50固定于面罩本体上的连接方式作出限定,只需满足本实施例的要求即可。

针对过滤膜50,其可进行以下设置:过滤膜50从上到下依次包括:一剥离膜、一位相差膜、一原偏光片、一保护膜,原偏光片从上到下依次包括一第一三醋酸纤维素膜(TAC膜)、一聚乙烯醇膜(PVA膜)和一第二三醋酸纤维素膜(TAC膜),以上各层结构通过粘着剂粘合连接。

原偏光片生产过程有干法与湿法两种,干法生产过程如下:在高温环境下,利用外力将PVA膜拉伸到所需的倍数后,然后进行膨润、染色、固色、烘干等工序,最后与TAC膜复合制成原偏光片;湿法工艺如下:PVA膜膨润后,直接进行染色,然后再拉伸、固色、烘干后,再与TAC膜复合制成原过滤膜50。优先选用湿法工艺制备。PVA膜采用水清洗进行膨润,这样不仅可以除去膜表面的污物,还可以使聚乙烯醇膜膨胀以防止例如染色不均匀等现象。PVA膜拉伸后很脆弱,为了保护PVA膜,故在其两面复合上TAC膜,该TAC膜光学性能优良。

优选的是,第二三醋酸纤维素膜含有抗紫外(UV)成分。

位相差膜的光轴与原偏光片的透射轴呈0°角粘合连接。

优选的是,位相差膜为聚碳酸酯膜(PC膜)。

优选的是,位相差膜在590nm波长处的面内位相差值Re为20~40nm,厚度方向的位相差值Rth为110~140nm。

优选的是,原偏光片的单体透过率≥42%。

原偏光片的偏振度≥99.5%。

制作过程为:将聚乙烯醇膜在高温环境下利用外力拉伸到约原膜4~6倍后,进行水洗膨润,然后在含碘/碘化钾的水溶液中进行染色,染色完毕后在含硼酸、氯化锌的水溶液中固色,烘干后,用水溶性胶水将第一和第二三醋酸纤维素膜粘合到聚乙烯醇膜的两侧作为支持层。将位相差膜复合到第一三醋酸纤维素膜的一侧,位相差膜光轴与聚乙烯醇膜的透过轴呈0°,在位相差膜的一侧通过丙烯酸树脂类压敏胶复合上剥离膜,在相对的一侧复合上保护膜。

针对面罩本体,其由透明板材料制成;透明板为:位于半桥粒及基底层细胞基底浆膜之下,电子密度低而显透明,宽约20~40nm。在本实施例中,透明板可以优选选用PVC透明板,PVC透明板结实、有韧性且不易碎,PVC透明板还拥有高强度、高透明、耐侯性好、无毒、卫生的优点,其物理特性优于有机玻璃。

这样,该焊接面罩在使用时,用户在电焊前后,就可以通过扭头或者转动该焊接面罩,使得透光板、眼睛以及电焊物品处于同一直线上,借此,观测电焊物品的放置以及电焊的成效;当需要进行电焊时,用户只需保证眼睛、电焊点以及遮光镜片121处于同一直线即可,借此,观测焊接的实时状况;从而,电焊工就不须反复的一会儿用遮光镜片121遮住透明板以作焊接工作时隔绝电弧强光,一会儿须翻开遮光镜片121,以看清焊接成果,简化了电焊过程中的操作工序,提升了工作效率。

此外,在本实施例中,面罩本体10只安装有手持件16,这样用户用手握持手持件16以借助该焊接面罩完成焊接工作;或者面罩本体10只安装有穿戴件15,这样用户就可以借助穿戴件15将焊接面罩戴在头上进行焊接工作;当然,面罩本体10也可以既安装有手持件16也安装有穿戴件15,这样,该焊接面罩既可以用手握持也可以待在头上,这样增加了该焊接面罩的功能性。

另外,面罩本体10的内侧面固定有帽衬,因为面罩本体10通常为硬度很大的金属材料制成,借助帽衬,可以避免面罩本体10与头部直接接触,可以对面罩本体10与头部之间进行应力进行缓冲,从而可以避免头部被面罩本体10硌伤。

此外,帽衬的外表面固定有若干个干燥圈,干燥圈内填充有硅胶干燥剂,借助干燥圈,可以有效的吸收汗液,保持面罩本体10与头部之间的空间的干燥性,提高焊接面罩的舒适性。

另外,面罩本体10上开设有呼吸孔4,呼吸孔4的周缘固定有滤网膜;借助呼吸孔4,有利于提高该焊接面罩的透气性,也就提高了其舒适性;而滤网膜就可以有效的过滤掉焊接时产生的杂物,以免杂物对人体造成不良的影响。

此外,呼吸孔4设置于面罩本体10的上部或下部。若呼吸孔4位于面罩本体10的上方,可以有效的减少呼吸孔4与电焊杂物的接触面积,减少电焊杂物对人体的影响,而呼吸孔4位于面罩本体10的下方,呼吸孔4就与人体的嘴部离得较近,使得用户更方便的与外界进行空气交换,有利于呼吸的顺畅。

面罩本体10上设有悬挂件;悬挂件17也可以设置在手持件16或头戴件15,悬挂件17可以为设置在面罩本体上的孔,也可以为设置与面罩本体上的挂钩。借助悬挂件17,用户在闲置该焊接面罩时,就可以将其悬挂在合适的地方,十分的方便。

以上仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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