一种肠道吻合口支架的制作方法

文档序号:19456109发布日期:2019-12-20 19:57阅读:916来源:国知局
一种肠道吻合口支架的制作方法

本发明属于医用材料制备领域,特别涉及一种肠道吻合口支架。



背景技术:

直肠癌行低位吻合术后存在吻合口漏的风险,一旦发生吻合口漏将带来严重的并发症,而临时性的回肠保护性造瘘术能够起到保护吻合口漏发生,降低吻合口漏带来的并发症的作用,现有保护吻合口比较普遍的做法是:在人体腹壁上做保护性肠造口,即是将结肠截断后,将与食管、胃相通的结肠断端拉至腹壁并固定在腹壁上,形成临时肠造口,待直肠处吻合口愈合好后,再实施二次手术进行肠道还纳,而二次还纳同样存在着吻合口漏、肠梗阻等并发症风险,如何去避免二次还纳手术,避免二次还纳所带来的风险,一直是肛肠外科医生探索的一个方向。



技术实现要素:

针对现有技术中存在的问题,本发明的目的是提供一种肠道吻合口支架。手术时将支架放置在吻合口处,将吻合口与肠道内容物隔离,起到对吻合口的保护作用。从而达到预防吻合口漏的目的。

为实现以上目的,本发明的技术方案为:

一种肠道吻合口支架,包括网状支架本体,网状支架本体的中间为与肠道吻合口相适应的内凹结构,网状支架本体的前端设有前端收缩口,网状支架本体的后端设有后端收缩口。

优选地,所述网状支架本体的网孔内设有弹性覆膜层。

优选地,所述网状支架本体的外侧设有弹性覆膜层。

优选地,所述网状支架本体的内侧设有弹性覆膜层。

优选地,所述弹性覆膜层的外侧设有促进愈合药物层。

优选地,所述弹性覆膜层的内侧设有润滑层。

优选地,内凹结构的内径为网状支架本体最大内径的2/3-4/5。

优选地,内凹结构两端的网状支架本体的内径不同,前端的内径大于后端的内径。

本发明的有益效果是:

1、本新型通过在网状支架本体设有与肠道吻合口相适应的内凹结构,不但起到减少对肠道吻合口的张力,而且起到支架在肠道内固定的作用。

2.本新型通过在网状支架本体的两端设置前端收缩口和后端收缩口,可以避免对肠道的刺激和损伤。

3.本新型内部设有润滑层,便于患者将大便顺利排出体外。

4、外侧设有促进愈合药物层可以促进伤口缝合处的愈合。

5、本新型还可以有效的防止或缓解肠漏,肠道缩小等病症。

附图说明

图1为实施例1、2、3的整体结构示意图;

图2为实施例1、2、3的压缩后的示意图;

图3为实施例1、4的剖视图;

图4为实施例2的剖视图;

图5为实施例3的剖视图;

图6为实施例4的整体结构示意图;

图7为现有肠道部分切除后的肠道吻合口示意图。

图中:1、网状支架本体;2、内凹结构;3、前端收缩口;4、后端收缩口;5、金属网层;6、弹性覆膜层;7、润滑层;8、促进愈合药物层;9、肠道吻合口。

具体实施方式

根据附图进一步说明本发明的一种实施方式。

实施例1,参考附图1、2、3:

一种肠道吻合口支架,包括网状支架本体1,网状支架本体1的中间为与肠道吻合口相适应的内凹结构2,网状支架本体1的前端设有前端收缩口3,网状支架本体1的后端设有后端收缩口4。

网状支架本体的网孔内设有弹性覆膜层6;弹性覆膜层6的外侧设有促进愈合药物层8;弹性覆膜层6的内侧设有润滑层7。

实施例2:参考附图1、2、4:

一种肠道吻合口支架,包括网状支架本体1,网状支架本体1的中间为与肠道吻合口相适应的内凹结构2,网状支架本体1的前端设有前端收缩口3,网状支架本体1的后端设有后端收缩口4。

由网状支架本体形成的金属网层5的外侧设有弹性覆膜层6。弹性覆膜层6和金属网层5紧密贴接在一起,弹性覆膜层6的外侧设有促进愈合药物层8;弹性覆膜层6的内侧设有润滑层7。

实施例3:参考附图1、2、5:

一种肠道吻合口支架,包括网状支架本体1,网状支架本体1的中间为与肠道吻合口相适应的内凹结构2,网状支架本体1的前端设有前端收缩口3,网状支架本体1的后端设有后端收缩口4。

由网状支架本体形成的金属网层5的内侧设有弹性覆膜层6。弹性覆膜层6和金属网层5紧密贴接在一起,弹性覆膜层6的外侧设有促进愈合药物层8;弹性覆膜层6的内侧设有润滑层7。

实施例4:参考附图3、6:

一种肠道吻合口支架,包括网状支架本体1,网状支架本体1的中间为与肠道吻合口相适应的内凹结构2,网状支架本体1的前端设有前端收缩口3,网状支架本体1的后端设有后端收缩口4。

网状支架本体的网孔内设有弹性覆膜层6;弹性覆膜层6的外侧设有促进愈合药物层8;弹性覆膜层6的内侧设有润滑层7。

内凹结构2两端的网状支架本体的内径不同,前端的内径大于后端的内径。

实施例1、2、3、4均在肠道吻合口9设置内凹结构,减少或避免了肠道吻合口支架对吻合口的张力,提高了伤口愈合的速度。

以上所述并非对本发明的技术范围作任何限制,凡依据本发明技术实质对以上的实施例所作的任何修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明的技术方案的范围内。

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