颅脑全方位穿刺引导系统的制作方法

1.本实用新型涉及一种颅脑全方位穿刺引导系统，属于颅脑穿刺技术领域。


背景技术：

2.颅脑内出现脑出血或脑积液等发病急、扩展快的病灶时，为了避免大脑神经被损坏，需要对颅脑进行钻孔，将脑出血或脑积液进行引流出到脑外；在对颅脑进行钻孔时，需要避免穿刺针将脑皮的重要神经钻到损伤，在没有对穿刺针进行导向的情况下，传统的穿刺方法很难一次穿透至病灶；
3.在中国专利号为2017104580743的用于颅内血肿腔引流术的定位装置及其穿刺定位方法，提供的穿刺定位方法为：“将定位框放置于脑壳顶部，调整定位框的角度，使定位框相对于固定部的投影位置重合，调整经向定位绑带的角度，使经向定位绑带相对于旋转部的投影位置重合；将纬向定位绑带设置于最优穿刺层对应的定位凸起处，将定位框和经向定位绑带末端固定绑缚于脑壳外部，并将穿刺定位器设置于经向定位绑带与纬向定位绑带交叉处，使定位凸起、定位孔与观察孔的位置重合，旋转杆指向位置即为最优的穿刺位置”；虽然调整经向定位绑带和纬向定位绑交叉后，能在大脑上调整获得不同的纬度和经向交叉的导向点，但是旋转杆进行穿刺时不能进行跨大脑上的经度和纬度进行斜向穿刺的，例如从头底的低纬度向头顶的高纬度进行斜向穿刺时或从头后侧维度向前侧维度斜向穿刺时，均是不能实现的。


技术实现要素：

4.为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种全方位颅脑病灶的穿刺导向方法。
5.本实用新型还提供了一种颅脑全方位穿刺引导系统。
6.本实用新型通过以下技术方案得以实现。
7.本实用新型提供的一种颅脑全方位穿刺引导系统，包括：能固定安装在大脑外的基架；
8.第一经维架，第一经维架安装在基架上能沿着大脑的经度和维度进行调节并且本身能旋转调节；
9.第二经维架，第二经维架活动安装在第一经维架上，第二经维架能进行滑动和旋转调节；
10.第三经维架，第三经维架活动安装在第二经维架上，第三经维架能进行滑动和旋转调节；第三经维架有对穿刺针进行线性导向的导向通孔。
11.步骤一：第一经维架在基架上沿着大脑的经度或维度进行调节至颅脑病灶所处的经度和维度，而后第一经维架旋转调节获得跨越经度和维度的斜向；步骤二，第二经维架滑动结合第三经维架的旋转和滑动调至靠近大脑的颅脑病灶上方；步骤三，第二经维架进行滑动和旋转带动使得第三经维架接近颅脑病灶处的大脑皮层，而后穿刺针在第三经维架的导向通孔线性导向下，实现从头底的低纬度向头顶的高纬度进行斜向穿刺或从头后侧维度
向前侧维度斜向穿刺。
12.所述基架包括两个维度滑轨及两端与两个维度滑轨固定连接的纵向滑轨，使得两个维度滑轨和纵向滑轨构成一个u形的基架，两个维度滑轨上旋合安装有与大脑进行固定安装的固定螺钉，固定螺钉旋进与大脑进行固定安装，固定螺钉旋出与大脑脱离。
13.所述第一经维架包括第一滑块、第一滑杆、第一调节螺钉、维度调节螺钉，第一滑块底部设有与维度滑轨和纵向滑轨配合的滑槽，第一滑块顶部设有供第一滑杆可滑动和旋转的通孔，第一滑块上旋合有将第一滑杆固定的第一调节螺钉；第一滑块上旋合有与维度滑轨或纵向滑轨配合的维度调节螺钉。
14.所述第一滑块与维度滑轨或纵向滑轨配合，通过维度调节螺钉进行旋紧滑动和旋松固定；所述第一滑杆在第一调节螺钉旋松时可在第一滑块上滑动和旋转，第一调节螺钉旋紧后所述第一滑杆固定在第一滑块上。
15.所述第二经维架包括第二滑块、第二滑杆、第二调节螺钉，第二滑块上设有供第一滑杆滑动和旋转的通孔，第二调节螺钉旋合在第二滑块上控制第二滑杆的滑动和旋转。
16.所述第二滑块与第一滑杆固定，所述第二滑杆在第二调节螺钉与第二滑块旋松时可在第二滑块上的通孔滑动和旋转；所述第二调节螺钉与第二滑块旋松旋紧时，第二滑杆固定在第二滑块上。
17.所述第三经维架包括第一导孔块、第二导孔块、第三调节螺钉、紧固螺钉，第一导孔块和第二导孔块上均设有半圆弧形槽；
18.第一导孔块一端与第二导孔块一端经转轴可旋转铰接，第一导孔块另一端与第二导孔块另一端经紧固螺钉旋紧；
19.第一导孔块上设有本身能在第二滑杆上进行旋转和滑动的通孔，第一导孔块旋合有控制第一导孔块在第二滑杆上旋转和滑动的第三调节螺钉。
20.所述第二滑杆与第一导孔块上的通孔可旋转和滑动配合，第三调节螺钉旋合在第一导孔块上将第二滑杆压紧；第三调节螺钉旋松时，第二滑杆和第一导孔块可旋转和滑动，第三调节螺钉旋紧时，第二滑杆和第一导孔块固定。
21.所述第一导孔块和第二导孔块内安装有两个引导半座，两个引导半座上设有弧形凹槽，当两个引导半座配合安装在第一导孔块和第二导孔块后，两个引导半座的弧形凹槽构成导向通孔为穿刺针提供线性导向。
22.本实用新型的有益效果在于：第一经维架使得第二经维架和第三经维架获得在第一经维架上跨越经度和维度的斜向；实现第三经维架接近颅脑病灶处的大脑皮层，而后穿刺针在两个引导半座的弧形凹槽构成的导向通孔进行线性导向对颅脑穿刺钻孔，实现从头底的低纬度向头顶的高纬度进行斜向穿刺或从头后侧维度向前侧维度斜向穿刺。
附图说明
23.图1是本实用新型的使用结构示意图1；
24.图2是本实用新型的使用结构示意图2；
25.图中：1-基架；11-维度滑轨；12-纵向滑轨；13-固定螺钉；2-大脑；3-第一经维架；31-第一滑块；32-第一滑杆；33-第一调节螺钉； 34-维度调节螺钉；4-第二经维架；41-第二滑块；42-第二滑杆；43
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第二调节螺钉；5-第三经维架；51-第一导孔块；52-第二导孔块；
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第三调节螺钉；54-紧固螺钉。
具体实施方式
26.下面进一步描述本实用新型的技术方案，但要求保护的范围并不局限于所述。
27.参见图1和图2所示。
28.本实用新型的一种颅脑全方位穿刺引导系统，包括：能固定安装在大脑2外的基架1；
29.第一经维架3，第一经维架3安装在基架1上能沿着大脑2的经度和维度进行调节并且本身能旋转调节；
30.第二经维架4，第二经维架4活动安装在第一经维架3上，第二经维架4能进行滑动和旋转调节；
31.第三经维架5，第三经维架5活动安装在第二经维架4上，第三经维架5能进行滑动和旋转调节；第三经维架5有对穿刺针6进行线性导向的导向通孔。
32.工作原理：步骤一：第一经维架3在基架1上沿着大脑2的经度或维度进行调节至颅脑病灶所处的经度和维度，而后第一经维架3旋转调节获得跨越经度和维度的斜向；步骤二，第二经维架4滑动结合第三经维架5的旋转和滑动调至靠近大脑2的颅脑病灶上方；步骤三，第二经维架4进行滑动和旋转带动使得第三经维架5接近颅脑病灶处的大脑2皮层，而后穿刺针6在第三经维架5的导向通孔线性导向下，实现从头底的低纬度向头顶的高纬度进行斜向穿刺或从头后侧维度向前侧维度斜向穿刺。
33.所述基架1包括两个维度滑轨11及两端与两个维度滑轨11焊接或经螺钉固定连接的纵向滑轨12，使得两个维度滑轨11和纵向滑轨12 构成一个u形的基架，两个维度滑轨11上旋合安装有与大脑2进行固定安装的固定螺钉13，固定螺钉13旋进与大脑2进行固定安装，固定螺钉13旋出与大脑2脱离。
34.所述第一经维架3包括第一滑块31、第一滑杆32、第一调节螺钉 33、维度调节螺钉34，第一滑块31底部设有与维度滑轨11和纵向滑轨 12配合的滑槽，第一滑块31顶部设有供第一滑杆32可滑动和旋转的通孔，第一滑块31上旋合有将第一滑杆32固定的第一调节螺钉33；第一滑块31上旋合有与维度滑轨11或纵向滑轨12配合的维度调节螺钉34。
35.所述第一滑块31与维度滑轨11或纵向滑轨12配合，通过维度调节螺钉34进行旋紧滑动和旋松固定；所述第一滑杆32在第一调节螺钉33 旋松时可在第一滑块31上滑动和旋转，第一调节螺钉33旋紧后所述第一滑杆32固定在第一滑块31上。
36.所述第二经维架4包括第二滑块41、第二滑杆42、第二调节螺钉 43，第二滑块41上设有供第一滑杆32滑动和旋转的通孔，第二调节螺钉43旋合在第二滑块41上控制第二滑杆42的滑动和旋转。
37.所述第二滑块41与第一滑杆32一体成型固定，所述第二滑杆42 在第二调节螺钉43与第二滑块41旋松时可在第二滑块41上的通孔滑动和旋转；所述第二调节螺钉43与第二滑块41旋松旋紧时，第二滑杆 42固定在第二滑块41上。
38.所述第三经维架5包括第一导孔块51、第二导孔块52、第三调节螺钉53、紧固螺钉54，第一导孔块51和第二导孔块52上均设有半圆弧形槽；
39.第一导孔块51一端与第二导孔块52一端经转轴可旋转铰接，第一导孔块51另一端
与第二导孔块52另一端经紧固螺钉54旋紧；
40.第一导孔块51上设有本身能在第二滑杆42上进行旋转和滑动的通孔，第一导孔块51旋合有控制第一导孔块51在第二滑杆42上旋转和滑动的第三调节螺钉53。
41.所述第二滑杆42与第一导孔块51上的通孔可旋转和滑动配合，第三调节螺钉53旋合在第一导孔块51上将第二滑杆42压紧；第三调节螺钉53旋松时，第二滑杆42和第一导孔块51可旋转和滑动，第三调节螺钉53旋紧时，第二滑杆42和第一导孔块51固定。
42.所述第一导孔块51和第二导孔块52内安装有两个引导半座55，两个引导半座55上设有弧形凹槽，当两个引导半座55配合安装在第一导孔块51和第二导孔块52后，两个引导半座55的弧形凹槽构成导向通孔为穿刺针6提供线性导向。
43.一种全方位颅脑病灶的穿刺导向方法，使用了上述颅脑全方位穿刺引导系统，其步骤包括如下：
44.步骤一：第一经维架3的第一滑块31与基架1的维度滑轨11或纵向滑轨12配合，第一滑块31在维度滑轨11上沿着大脑2的维度通过维度调节螺钉34进行调节；第一滑杆32在第一滑块31上沿着大脑2的经度通过第一调节螺钉33进行调节，使得第二经维架4和第三经维架5获得在第一经维架3上跨越经度和维度的斜向；
45.步骤二，控制第三调节螺钉53使得第一导孔块51在第二滑杆42 上旋转和滑动，控制第二调节螺钉43使得第二滑杆42在第二滑块41 上滑动，实现第二经维架4旋转和滑动结合第三经维架5的旋转和滑动调至靠近大脑2的颅脑病灶上方；
46.步骤三，控制第二调节螺钉43使得第二滑杆42在第二滑块41上旋转和滑动，实现第三经维架5接近颅脑病灶处的大脑2皮层，而后穿刺针6在两个引导半座55的弧形凹槽构成的导向通孔进行线性导向对颅脑穿刺钻孔，实现从头底的低纬度向头顶的高纬度进行斜向穿刺或从头后侧维度向前侧维度斜向穿刺。