1.本发明涉及护肤品领域，具体涉及一种薰衣草养肤补水纯露及其制备方法。
背景技术：
2.纯露是芳疗中一种重要的补水养肤产品，相对于保湿水而言，纯露成分更加天然，并且它与植物精油本身有着相近似的作用和功效，而使用起来更方便，对皮肤有着各种治疗和保养的功效，纯露水中融入了植物中多种珍贵的成分，且含有约0.3%~0.5%的精油水溶性成分，所以仍保有精油的芳香、部分疗效和轻微的抗菌性，并且含精油所没有的植物精华(如单宁酸及类黄酮)，使得纯露水有调理肌肤的功效，其低浓度的特性使之更容易被皮肤所吸收。
3.本发明采用薰衣草花蒸馏萃取，通过文献的得知，薰衣草纯露香气持久,含有多种有效成分,具有抗过敏、消炎、杀菌、抗菌的作用。
4.构思此想法之前，主要参考了以下文献：1.席可欣.薰衣草纯露的制备工艺及抑菌性[j].科技创新导报,2011：59。
技术实现要素：
[0005]
本发明旨在提供一种能够赋予肌肤修复保湿能力，滋润养护肌肤及抗菌组分的薰衣草养肤补水纯露及其制备方法。
[0006]
本发明的技术方案如下：一种薰衣草养肤补水纯露，其特征在于，包括有如下质量百分比的组分：薰衣草花水（皮肤调理剂）：1%-2%、1，2-己二醇（保湿剂）：3%-5%、对羟基苯乙酮（防腐剂）：0.1-0.2%、水（溶剂）：余量。
[0007] 作为上述的优选方案，包括有如下质量百分比的组分：薰衣草花水（皮肤调理剂）：2%、1，2-己二醇（保湿剂）：5%、对羟基苯乙酮（防腐剂）：0.1%、水（溶剂）：余量。
具体实施方式
[0008]
下面结合具体实施例对本发明作进一步地说明。
[0009]
实施例1该实施例提供了一种薰衣草养肤补水纯露，包括有如下质量百分比的组分：薰衣草花水：2%、
1，2-己二醇：5%、对羟基苯乙酮：0.1%、水：余量。
[0010]
该种薰衣草养肤补水纯露的制备方法如下：步骤一：将狭叶薰衣草投入蒸馏釜中。
[0011]
步骤二：往蒸馏釜加入去离子水；以重量计, 水:花为3∶1，往蒸馏釜中加入食盐;以重量计,食盐:水为4∶100。
[0012]
步骤三：沸腾前,蒸汽压力为0.2～0.3mpa； 在沸腾后5h内压力控制为0.05～0.08mpa； 沸腾后5小时到结束,控制在0.15～0.2mpa。
[0013]
步骤四：冷却水控制:加热蒸馏釜至釜内温度为6 0℃时，打开冷凝器,接通冷却水；沸腾后半小时内，用冷却水将经过冷凝器冷却后的流出液温度控制在30～35℃并保持稳定，直至结束。
[0014]
步骤五：经过冷凝器冷却的油水混合物导入油水分离器中；油水分离器的温度控制：沸腾后温度控制在30～35℃。
[0015]
步骤六：蒸馏时间控制。经油水分离器分离后蒸馏液经复流回蒸馏釜中，复流时间为3小时，之后关闭复流阀,打开收集阀，开始收集水层,即得薰衣草纯露。
[0016]
步骤七：待冷却后，按比例加入1，2-己二醇，对羟基苯乙酮搅拌均匀。
[0017]
以上所述的仅是本发明的优先实施方式。应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的情况下，还可以作出若干改进和变型，这也视为本发明的保护范围。
技术特征：
1.一种薰衣草养肤补水纯露，其特征在于，包括有如下质量百分比的组分：薰衣草花水：1%-2%、1，2-己二醇：3%-5%、对羟基苯乙酮：0.1-0.2%、水：余量。2.根据权利要求1所述薰衣草养肤补水纯露，其特征在于，包括有如下质量百分比的组分：薰衣草花水：1%-2%、1，2-己二醇：3%-5%、对羟基苯乙酮：0.1-0.2%、水：余量。3.如权利要求1或2中所述薰衣草养肤补水纯露的制备方法如下：步骤一：将狭叶薰衣草投入蒸馏釜中；步骤二：往蒸馏釜加入去离子水；以重量计， 水:花为3∶1，往蒸馏釜中加入食盐；以重量计，食盐:水为4∶100；步骤三：沸腾前,蒸汽压力为0.2～0.3mpa； 在沸腾后5h内压力控制为0.05～0.08mpa； 沸腾后5小时到结束,控制在0.15～0.2mpa； 步骤四：冷却水控制:加热蒸馏釜至釜内温度为6 0℃时，打开冷凝器，接通冷却水沸腾后半小时内，用冷却水将经过冷凝器冷却后的流出液温度控制在30～35℃并保持稳定,直至结束；步骤五：经过冷凝器冷却的油水混合物导入油水分离器中；油水分离器的温度控制，沸腾后温度控制在30～35℃；步骤六：蒸馏时间控制:经油水分离器分离后蒸馏液经复流回蒸馏釜中，复流时间为3小时，之后关闭复流阀，打开收集阀，开始收集水层，即得薰衣草纯露；步骤七：待冷却后，按比例加入1，2-己二醇，对羟基苯乙酮搅拌均匀。
技术总结
本实验涉及一种薰衣草养肤补水纯露及其制备方法，该薰衣草养肤补水纯露包括有如下质量百分比的组分：薰衣草花水2%，1，2-己二醇5%，对羟基苯乙酮0.1%，水余量。本发明薰衣草花蒸馏萃取所得，具有丰富补水保湿能力，舒缓肌肤带来娇嫩呵护。带来娇嫩呵护。
技术研发人员：伍梦佳 彭静 王宇辉
受保护的技术使用者：湖南理工学院
技术研发日：2022.04.02
技术公布日：2022/6/21