一种光疗装置的制作方法

1.本发明涉及光疗技术领域，尤其涉及一种光疗装置。


背景技术：

2.随着人们生活水平的提高，人们越来越重视生活质量，人们为了保护持身体健康，通常采用各种保健或治疗仪器进行保健或治疗。光疗装置作为一种安全有效地保健治疗仪器被人们广泛使用，然而现有的光疗装置功能单一，无法满足人们对光疗装置多功能化的要求。


技术实现要素：

3.本发明提供了一种光疗装置，在进行光疗的同时，可以进行降温止痛，丰富了光疗装置的功能，提升了用户体验。
4.根据本发明的一方面，提供了一种光疗装置，包括：
5.第一基板、第二基板以及位于第一基板和第二基板之间的发光结构层；
6.第一基板包括第一膜层和第二膜层，第二膜层设置于第一膜层远离发光结构层的一侧；
7.第一膜层邻近第二膜层的表面设置有第一凹槽，第一凹槽至少包括第一端部和第二端部，第一端部和第二端部均延伸至第一膜层的侧面，并贯穿第一膜层的侧面，和/或，第二膜层邻近第一膜层的表面设置有第二凹槽，第二凹槽至少包括第三端部和第四端部，第三端部和第四端部均延伸至第二膜层的侧面，并贯穿第二膜层的侧面；第一膜层110的侧面为第一膜层110中与第一膜层110的厚度方向平行的表面，第二膜层120的侧面为第二膜层120中与第二膜层120的厚度方向平行的表面；
8.第一凹槽和第二凹槽用于容纳降温材料。
9.可选的，第一凹槽包括至少一个第一延伸部、至少一个第二延伸部以及至少一个第三延伸部，第一延伸部、第二延伸部和第三延伸部均延伸至第一膜层的侧面，并贯穿第一膜层的侧面，每一第一延伸部均与一个第二延伸部和/或一个第三延伸部相连；第一延伸部用于向第一凹槽内注入第一降温材料，第二延伸部用于向第一凹槽内注入第二降温材料，第三延伸部用于将第一降温材料和第二降温材料混合后的材料排出；其中，第一降温材料和第二降温材料混合后降温；
10.第二凹槽包括至少一个第四延伸部、至少一个第五延伸部以及至少一个第六延伸部，第四延伸部、第五延伸部和第六延伸部均延伸至第二膜层的侧面，并贯穿第二膜层的侧面，每一第四延伸部均与一个第五延伸部和/或一个第六延伸部相连；第四延伸部用于向第二凹槽内注入第一降温材料，第五延伸部用于向第二凹槽内注入第二降温材料，第六延伸部用于将第一降温材料和第二降温材料混合后的材料排出。
11.可选的，第一降温材料包括全氟戊烷，第二降温材料包括氮气。
12.可选的，第一降温材料的注入流量为200-600μl/min，第二降温材料的注入压力为
10-50kpa。
13.可选的，第一膜层设置有第一凹槽，第二膜层未设置第二凹槽，或者，第一膜层未设置第一凹槽，第二膜层设置有第一凹槽，或者，第一凹槽在第一膜层的垂直投影与第二凹槽不交叠时，第一凹槽和第二凹槽的深度均为10μm-550μm，第一凹槽和第二凹槽的宽度均为10μm-100μm；
14.第一凹槽在第二膜层的垂直投影与第二凹槽重合时，第一凹槽和第二凹槽的深度和为10μm-550μm，第一凹槽和第二凹槽的宽度均为10-100μm；
15.第一膜层和第二膜层的厚度均为60μm-600μm。
16.可选的，光疗装置还包括：第一降温材料注入设备和第二降温材料注入设备和温度传感器；
17.温度传感器设置于发光结构层的出光侧，温度传感器用于采集光疗装置的表面温度；
18.第一膜层设置有第一凹槽时：第一降温材料注入设备通过第一注入管路与第一延伸部连接，第二降温材料注入设备通过第二注入管路与第二延伸部连接；第一降温材料注入设备用于根据表面温度调节向第一延伸部注入第一降温材料的注入速度，第二降温材料注入设备用于根据表面温度调节向第二延伸部注入第二降温材料的注入速度；
19.第二膜层设置有第二凹槽时：第一降温材料注入设备通过第三注入管路与第四延伸部连接，第二降温材料注入设备通过第四注入管路与第五延伸部连接；第一降温材料注入设备用于根据表面温度调节向第四延伸部注入第一降温材料的注入速度，第二降温材料注入设备用于根据表面温度调节向第五延伸部注入第二降温材料的注入速度。
20.可选的，光疗装置还包括：降温材料收集设备；
21.第一膜层设置有第一凹槽时，降温材料收集设备通过第一输出管路与第三延伸部连接；第二膜层设置有第二凹槽时，降温材料收集设备通过第二输出管路与第六延伸部连接；
22.降温材料收集设备用于收集第三延伸部和第六延伸部排出的降温材料。
23.可选的，第一凹槽第一膜层的垂直投影的形状为曲线形、折线形或者部分区域为曲线形，部分区域为直线形或折线形；
24.第二凹槽在第二膜层的垂直投影的形状为曲线形、折线形或者部分区域为曲线形，部分区域为直线形或折线形。
25.可选的，第一基板设置于发光结构层的非出光侧；
26.温度传感器设置于第二基板远离发光结构层的表面。
27.可选的，第一基板为衬底基板，第二基板为封装基板，或者，第一基板为封装基板，第二基板为衬底基板。
28.本发明实施例提供的光疗装置包括：第一基板、第二基板以及位于第一基板和第二基板之间的发光结构层，第一基板包括第一膜层和第二膜层，第一膜层邻近第二膜层的表面设置有第一凹槽，和/或，第二膜层邻近第一膜层的表面设置有第二凹槽，第一凹槽和第二凹槽用于容纳降温材料。本发明实施例的光疗装置中发光结构层为光疗的光源，通过在第一凹槽和第二凹槽中设置降温材料，降温材料可以起到对光疗位置以及整个光疗装置降温的作用，因此本实施的光疗装置可以避免光疗装置工作时温度过高，并且在光疗的同
时实现对光疗位置降温止痛的作用，丰富了光疗装置的功能，提升了用户体验。
29.应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本发明的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本发明的范围。本发明的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
30.为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
31.图1是本发明实施例提供的一种光疗装置的结构示意图；
32.图2是本发明实施例提供的一种第一膜层的俯视图；
33.图3是本发明实施例提供的一种第二膜层的俯视图；
34.图4是本发明实施例提供的又一种第一膜层的俯视图；
35.图5是本发明实施例提供的又一种第二膜层的俯视图；
36.图6是本发明实施例提供的又一种第一膜层的俯视图；
37.图7是本发明实施例提供的又一种第二膜层的俯视图；
38.图8是本发明实施例提供的又一种光疗装置的结构示意图；
39.图9是本发明实施例提供的又一种光疗装置的结构示意图；
40.图10是本发明实施例提供的又一种光疗装置的结构示意图；
41.图11是本发明实施例提供的一种玻璃衬底结构的俯视图；
42.图12是本发明实施例提供的又一种光疗装置的结构示意图。
具体实施方式
43.为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。
44.需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
45.本发明实施例提供了一种光疗装置，图1是本发明实施例提供的一种光疗装置的结构示意图，图2是本发明实施例提供的一种第一膜层的俯视图，参考图1和图2，光疗装置包括：第一基板100、第二基板300以及位于第一基板100和第二基板300之间的发光结构层200；第一基板100包括第一膜层110和第二膜层120，第二膜层120设置于第一膜层110远离
发光结构层200的一侧。
46.第一膜层110邻近第二膜层120的表面设置有第一凹槽10，第一凹槽10至少包括第一端部11和第二端部12，第一端部11和第二端部12均延伸至第一膜层110的侧面，并贯穿第一膜层110的侧面，和/或，第二膜层120邻近第一膜层110的表面设置有第二凹槽20，第二凹槽20至少包括第三端部21和第四端部22，第三端部21和第四端部22均延伸至第二膜层120的侧面，并贯穿第二膜层120的侧面；其中，第一膜层110的侧面为第一膜层110中与第一膜层110的厚度方向平行的表面，第二膜层120的侧面为第二膜层120中与第二膜层120的厚度方向平行的表面；第一凹槽10和第二凹槽20用于容纳降温材料。
47.其中，发光结构层200可以为有机发光结构层，也可以为无机发光结构层。发光结构层200可以包括第一电极层、第二电极层以及设置于第一电极层和第二电极层之间的发光层。发光结构层200为有机发光结构层时，发光层为有机发光层，第一电极层和发光层之间还可以包括第一功能层，第二电极层和发光层之间还可以包括第二功能层。第一电极层为阴极，第二电极层为阳极时，第一功能层可以包括电子注入层、电子传输层和空穴阻挡层等，第二功能层可以包括空穴注入层、空穴传输层和电子阻挡层等。第一电极层为阳极，第二电极层为阴极时，第二功能层可以包括电子注入层、电子传输层和空穴阻挡层等，第一功能层可以包括空穴注入层、空穴传输层和电子阻挡层等。
48.发光结构层200可以作为光疗的光源，对治疗区域进行照射，起到光疗美容的效果。发光结构层200可以根据所需的光疗效果设置为蓝光发光结构层或者红光发光结构层等，发光结构层200的具体发光颜色本实施例并不做具体限定。
49.第一凹槽10和第二凹槽20用于容纳降温材料，降温材料可以为沸点较低的材料，降温材料进入第一凹槽10和第二凹槽20中后，汽化吸热达到降温的效果，此外，降温材料也可以是其他材料，本实施例并不做具体限定。示例性的，降温材料可以包括全氟戊烷(pfp)等材料，pfp的沸点较低，可以在第一凹槽10和第二凹槽20中通入液态的pfp，液态pfp达到沸点后汽化，汽化过程吸收周围的热量，达到降温效果。可以根据降温温度需要选择相应的降温材料，使得降温材料可以将周围温度降到较低的温度，从而使得在光疗的时候对光疗位置进行止痛，也可以对发光结构层200进行降温。
50.可以仅在第一膜层110设置第一凹槽10，也可以仅在第二膜层120设置第二凹槽20，也可以既在第一膜层110设置第一凹槽10，又在第二膜层120设置第二凹槽20。
51.第一凹槽10的第一端部11和第二端部12中一个为降温材料的注入端，一个为降温材料的流出端，可以向第一凹槽10中以一定的注入流量通入降温材料，通过调整注入流量调节降温速度，达到较好的降温止痛效果。此外，第一凹槽10还可以包括其他端部，其他端部可以为降温材料的注入端，也可以为降温材料的流出端，多个端部相互连通，实现对降温材料的注入和流出速度的进一步调节。
52.同样，第二凹槽20的第三端部21和第四端部22中一个为降温材料的注入端，一个为降温材料的流出端，可以向第二凹槽20中以一定的注入流量通入降温材料，通过调整注入流量调节降温速度，达到较好的降温止痛效果。此外，第二凹槽20还可以包括其他端部，其他端部可以为降温材料的注入端，也可以为降温材料的流出端，多个端部相互连通，实现对降温材料的注入和流出速度的进一步调节。
53.此外，图3是本发明实施例提供的一种第二膜层的俯视图，图2和图3仅示例性的示
出了第一膜层110和第二膜层120的结构。参考图1-图3，第一凹槽10的第一端部11和第二端部12可以贯穿第一膜层110的同一侧面，也可以贯穿第一膜层110的不同侧面，具体可以根据需要降温止痛的位置设置。第二凹槽20的第三端部21和第四端部22可以贯穿第二膜层120的同一侧面，也可以贯穿第二膜层120的不同侧面，具体可以根据需要降温止痛的位置设置。
54.此外，第一膜层110中可以根据止痛区域需要设置一个或多个第一凹槽10，第二膜层120中也可以设置一个或多个第二凹槽20，本实施例对凹槽的数量不做具体限定。
55.本发明实施例提供的光疗装置包括：第一基板100、第二基板300以及位于第一基板100和第二基板300之间的发光结构层200，第一基板100包括第一膜层110和第二膜层120，第一膜层110邻近第二膜层120的表面设置有第一凹槽10，和/或，第二膜层120邻近第一膜层110的表面设置有第二凹槽20，第一凹槽10和第二凹槽20用于容纳降温材料。本发明实施例的光疗装置中发光结构层200为光疗的光源，通过在第一凹槽10和第二凹槽20中设置降温材料，降温材料可以起到对光疗位置以及整个光疗装置降温的作用，因此本实施的光疗装置可以避免光疗装置工作时温度过高，并且在光疗的同时实现对光疗位置降温止痛的作用，丰富了光疗装置的功能，提升了用户体验。
56.可选的，图4是本发明实施例提供的又一种第一膜层的俯视图，参考图4，第一凹槽10包括至少一个第一延伸部01、至少一个第二延伸部02以及至少一个第三延伸部03，第一延伸部01、第二延伸部02和第三延伸部03均延伸至第一膜层110的侧面，并贯穿第一膜层110的侧面，每一第一延伸部01均与一个第二延伸部02和/或一个第三延伸部03相连；第一延伸部01用于向第一凹槽10内注入第一降温材料，第二延伸部02用于向第一凹槽10内注入第二降温材料，第三延伸部03用于将第一降温材料和第二降温材料混合后的材料排出；其中，第一降温材料和第二降温材料混合后降温。
57.图5是本发明实施例提供的又一种第二膜层的俯视图，参考图5，第二凹槽20包括至少一个第四延伸部04、至少一个第五延伸部05以及至少一个第六延伸部06，第四延伸部04、第五延伸部05和第六延伸部06均延伸至第二膜层120的侧面，并贯穿第二膜层120的侧面，每一第四延伸部04均与一个第五延伸部05和/或一个第六延伸部06相连；第四延伸部04用于向第二凹槽20内注入第一降温材料，第五延伸部05用于向第二凹槽20内注入第二降温材料，第六延伸部06用于将第一降温材料和第二降温材料混合后的材料排出。
58.其中，第一降温材料可以包括全氟戊烷(pfp)，第二降温材料可以包括氮气，第一降温材料和第二降温材料混合后可以达到降温的效果，因为pfp的沸点在28℃至30℃之间，通过通入干燥的氮气可以促进pfp蒸发汽化，pfp汽化时会吸收周围的热量，使周围区域达到较低的温度，从而可以达到降温止痛的效果。同时由于pfp的沸点在28℃至30℃之间，可以保持发光结构层工作时的温度，防止屏体温度过高。
59.具体的，氮气与pfp在第一延伸部01和第二延伸部02的交叉处混合，该处氮气和pfp的量最大，混合后降温速度最快，温度最低，因此第一延伸部01和第二延伸部02的交叉处为一个止痛区。可以根据需要设置多个止痛区。
60.图6是本发明实施例提供的又一种第一膜层的俯视图，参考图6，其中注入第一降温材料的第一延伸部01可以为多个，注入第二降温材料的第二延伸部02也可以为多个，多个第一延伸部01分别与多个第二延伸部02相互交叉，形成多个止痛区，提升止痛效果。此
外，也可以设置多个第三延伸部03，第三延伸部03用于排出混合后的氮气和pfp，设置多个第三延伸03可以使得混合后的氮气和pfp具有较快的排出速度，从而可以更好的调节氮气和pfp的注入速度，调节降温速度，从而提升止痛效果。
61.图7是本发明实施例提供的又一种第二膜层的俯视图，参考图7，注入第一降温材料的第四延伸部04可以为多个，注入第二降温材料的第五延伸部05也可以为多个，多个第四延伸部04分别与多个第五延伸部05相互交叉，形成多个止痛区，提升止痛效果。此外，也可以设置多个第六延伸部06，第六延伸部06用于排出混合后的氮气和pfp，设置多个第六延伸部06可以使得混合后的氮气和pfp具有较快的排出速度，从而可以更好的调节氮气和pfp的注入速度，调节降温速度，从而提升止痛效果。
62.可选的，第一降温材料的注入流量为200-600μl/min，第二降温材料的注入压力为10-50kpa。
63.其中，第一降温材料为pfp，第二降温材料为氮气。pfp和液态氮气混合后，液态pfp迅速蒸发，从而实现降温的效果。pfp的蒸发速度决定了止痛区降温后的温度，而氮气和pfp间的流量比又决定了pfp的蒸发速度，液体pfp蒸发速度越大，止痛区降温后的温度越低。通过调节流入蒸发腔的pfp与氮气的注入比例和注入速度，可以精确地控制止痛区降温后的温度。通过设置pfp的注入流量为200-600μl/min，氮气的注入压力为10-50kpa时，使得止痛区的温度在适宜的温度范围内，在不伤害待止痛位置的同时达到了较好的降温止痛的效果。
64.可选的，图8是本发明实施例提供的又一种光疗装置的结构示意图，参考图1和图8，第一膜层110设置有第一凹槽10，第二膜层120未设置第二凹槽(图8)，或者，第一膜层未设置第一凹槽，第二膜层设置有第一凹槽(图中并未示出)，或者，第一凹槽10在第一膜层110的垂直投影与第二凹槽20不交叠(图1)时，第一凹槽10和第二凹槽20的深度均为10μm-550μm，第一凹槽和第二凹槽的宽度均为10μm-100μm；图9是本发明实施例提供的又一种光疗装置的结构示意图，参考图9，第一凹槽10在第二膜层120的垂直投影与第二凹槽20重合时，第一凹槽10和第二凹槽20的深度和为10μm-550μm，第一凹槽10和第二凹槽20的宽度均为10-100μm；第一膜层110和第二膜层120的厚度均为60μm-600μm。
65.其中，第一凹槽10和第二凹槽20的深度和宽度影响第一降温材料和第二降温材料的注入速度，通过设置第一凹槽10和第二凹槽20的深度和宽度采用上述范围，使得第一降温材料和第二降温材料的注入速度的可调节范围较大，可以更好的调节注入速度，达到更好的降温止痛的效果。
66.可选的，图10是本发明实施例提供的又一种光疗装置的结构示意图，参考图10，光疗装置还包括：第一降温材料注入设备400和第二降温材料注入设备500和温度传感器900；温度传感器900设置于发光结构层200的出光侧，温度传感器900用于采集所述光疗装置的表面温度。
67.第一膜层110设置有第一凹槽10时，第一降温材料注入设备400通过第一注入管路与第一延伸部01连接，第二降温材料注入设备500通过第二注入管路与第二延伸部02连接；第一降温材料注入设备400用于根据表面温度调节向第一延伸部01注入第一降温材料的注入速度，第二降温材料注入设备500用于根据表面温度调节向第二延伸部02注入第二降温材料的注入速度。
68.第二膜层120设置有第二凹槽20时：第一降温材料注入设备400通过第三注入管路与第四延伸部04连接，第二降温材料注入设备500通过第四注入管路与第五延伸部05连接；第一降温材料注入设备400用于根据表面温度调节向第四延伸部04注入第一降温材料的注入速度，第二降温材料注入设备500用于根据表面温度调节向第五延伸部05注入第二降温材料的注入速度。
69.其中，第一降温材料注入设备400可以将pfp通过第一注入管路注入第一延伸部01，通过第三注入管路注入第四延伸部04，第二降温材料注入设备500可以将氮气通过第二注入管路注入第二延伸部02，通过第四注入管路注入和第五延伸部05。可以通过将注入管路与各延伸部密封连接。
70.具体的，发光结构层200非出光侧即光疗装置邻近用户的一侧，温度传感器900采集的光疗装置的表面温度，即光疗装置邻近用户皮肤的表面的温度。该表面温度过低时，可以减小第一降温材料和第二降温材料的注入速度，降低降温速度，使表面温度升高至合适范围，当表面温度过高时，可以增大第一降温材料和第二降温材料的注入速度，提高降温速度，使表面温度降低至合适范围。通过设置温度传感器900，可以准确的确定光疗装置邻近用户的表面温度，从而确定待止痛位置的温度，从而根据表面温度调节第一降温材料和第二降温材料的注入速度，使得表面温度在合适范围内，更好的对待止痛位置进行止痛。
71.可选的，参考图10，光疗装置还包括：降温材料收集设备600；
72.第一膜层110设置有第一凹槽10时，降温材料收集设备600通过第一输出管路与第三延伸部03连接；第二膜层120设置有第二凹槽20时，降温材料收集设备600通过第二输出管路与第六延伸部06连接；降温材料收集设备600用于收集第三延伸部03和第六延伸部06排出的降温材料。
73.其中，降温材料收集设备600可以收集第三延伸部03和第六延伸部06排出的降温材料，进行循环利用，避免污染环境。
74.可选的，继续参考图4-图7，第一凹槽和第二凹槽在第一膜层的垂直投影的形状为曲线形、折线形或者部分区域为曲线形，部分区域为直线形或折线形。
75.其中，第一凹槽和第二凹槽的形状可以为曲线形、折线形或者曲直结合，图4-图7，仅示例性的示出了第一凹槽和第二凹槽的曲线形形状和折线形，并非对本发明的限定。
76.可选的，继续参考图10，第一基板100设置于发光结构层200的非出光侧；温度传感器900设置于第二基板300远离发光结构层200的表面。
77.其中，发光结构层200的非出光侧为不出光的一侧，发光结构层200发出的光通过第二基板300出射，第二基板300远离发光结构层200的表面即光疗装置面向用户的表面，将温度传感器900设置于第二基板300远离发光结构层200的表面，使得温度传感器900距离待止痛位置较近，采集到的温度与待止痛位置的温度相同或相差不大，使得根据温度传感器900测得的表面温度调至降温材料的注入速度后，可以更好的对待止痛位置进行止痛。
78.将第一基板100设置于发光结构层200的非出光侧，可以避免第一膜层110和第二膜层120中的降温材料，以及第一膜层110和第二膜层120凹凸起伏影响发光结构层200的出光，保证光疗装置具有较好的光疗效果。
79.可选的，第一基板为衬底基板，第二基板为封装基板，或者，第一基板为封装基板，第二基板为衬底基板。
80.其中，当第一基板为衬底基板，第二基板为封装基板时，第一膜层和第二膜层可以为柔性衬底，柔性衬底材料可以为聚酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚酰亚胺(pi)等有机聚合物。下面结合附图对光疗装置的制作过程进行说明：
81.图11是本发明实施例提供的一种玻璃衬底结构的俯视图，参考图11，可以通过化学刻蚀或者离子刻蚀，将玻璃衬底700刻蚀出一定的图案，如图11中白色部分，白色部分为凸起部分，图中列举了三种图案，也可以刻蚀出其它图案，玻璃衬底700上的凸起部分用于形状第一膜层的第一凹槽。图12是本发明实施例提供的又一种光疗装置的结构示意图，参考图12，在玻璃衬底700制作第一膜层110，制备方式可以为slit涂布、旋涂等。在衬底基板远离玻璃衬底700的一侧，沉积阻水层800，其作用为阻止水氧侵蚀发光结构层200，阻水层800的材料为包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、环氧树脂或聚烯烃中的任意一种或至少两种组合，其制备方法为ald、pecvd、ijp、丝网印刷或者溅射等中的一种或者多种混合。
82.然后制备第一电极层210，第一电极层210材料可以为氧化铟锡(ito)和/或氧化铟锌(izo)，也可以为氧化铟锡(ito)/银(ag)/氧化铟锡(ito)；然后制备有机发光结构层220，有机发光结构层220包括依次层叠的空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、电子阻挡层、电子传输层和电子注入层等；然后制备第二电极层230，第三电极230的材料包括银(ag)、铝(al)和镁(mg)中的至少一种。
83.然后制备第二基板300(封装基板)，封装基板的作用为阻止水氧侵蚀发光结构层200，封装基板的材料为包括氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、环氧树脂或聚烯烃中的任意一种或至少两种组合，其制备方法为ald、pecvd、ijp、丝网印刷或者溅射等中的一种或者多种混合。
84.再在封装基板上贴附温度传感器900。最后将玻璃基板700取下来，然后将第二膜层通过胶水与第一膜层粘接在一起，粘接处为第一膜层的凸起，第二膜层将第一膜层的表面全部覆盖。这样第一膜层和第二膜层之间形成了第一凹槽；或者通过与第一膜层相同的制备方式制备第二膜层，在第二膜层形成第二凹槽后与第一膜层贴合。
85.具体的，第一膜层110可以通过激光与玻璃衬底700分离，也可以在第一膜层110和玻璃衬底700中间加入牺牲层，通过机械或者浸泡水或者有机溶剂等改变牺牲层与第一膜层110之间的结合性或者去除牺牲层，实现将第一膜层110与牺牲层分离。
86.当第一基板为封装基板，第二基板为衬底基板时，可以在平整的玻璃衬底表面直接依次制备第二基板、发光结构层和第一基板。第一基板制备时可以先在发光结构层表面制作第一封装材料层，然后在第一封装材料层表面刻蚀形状第一凹槽，形成具有第一凹槽的第一膜层，然后在第一膜层表面通过胶贴附第二膜层。第二膜层可以采用柔性衬底材料，也可以采用其他材料。可以通过在具有凸起结构的玻璃基板上制备具有第二凹槽的第二膜层。需要说明的是，为了保证封装基板对发光结构层200的封装效果，可以设置封装基板包括多个封装膜层，第一封装材料层邻近发光结构层200的一侧可以设置一个或一个以上其他封装膜层。
87.应该理解，可以使用上面所示的各种形式的流程，重新排序、增加或删除步骤。例如，本发明中记载的各步骤可以并行地执行也可以顺序地执行也可以不同的次序执行，只要能够实现本发明的技术方案所期望的结果，本文在此不进行限制。
88.上述具体实施方式，并不构成对本发明保护范围的限制。本领域技术人员应该明
白的是，根据设计要求和其他因素，可以进行各种修改、组合、子组合和替代。任何在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明保护范围之内。