一种敏感肌适用的遮瑕膏及其制备方法与流程

文档序号:35664926发布日期:2023-10-06 20:11阅读:31来源:国知局
一种敏感肌适用的遮瑕膏及其制备方法与流程

本发明属于化妆品领域,具体涉及一种敏感肌适用的遮瑕膏及其制备方法。


背景技术:

1、遮瑕膏,化妆品的一种,其具有比粉底液更佳的遮盖力,但遮瑕膏太轻薄或是太稠密都会使妆面看起来不自然。因此,要根据个人肤质选择不同质地或者不同色号的遮瑕膏,从而使皮肤呈现出健康状态。虽然膏体和条状的遮瑕膏遮盖效果较佳,但是操作较困难;而质地清爽的遮瑕膏虽然可以使妆容自然,但遮盖能力一般较弱。目前,市面上的遮瑕膏多为固体,但是粘度各不相同,有时长期的储藏也会使遮瑕膏变质或遮盖能力下降,还容易对敏感肌造成不好的损伤。进而,有必要研发一款能够长时间常温贮存、不容易出油、清透、遮瑕能力强且敏感肌适用的遮瑕膏。


技术实现思路

1、为了解决背景技术中的问题,本发明提供了一种敏感肌适用的遮瑕膏及其制备方法。所述遮瑕膏能够长时间贮存并具有高度遮瑕能力,且适用于敏感肌人群。

2、为实现上述发明目的,本发明采用以下技术方案予以实现:

3、本发明提供了一种敏感肌适用的遮瑕膏,按质量百分比计,其包含以下组分:

4、

5、进一步的,按质量百分比计,所述遮瑕膏中还包含0.3%-0.6%的防腐剂,所述防腐剂为苯氧乙醇。

6、进一步的,所述柔润剂为异壬酸异壬酯、辛酸/癸酸甘油三酯、二异硬脂醇苹果酸酯、苯基聚三甲基硅氧烷、双-二甘油多酰基己二酸酯-2、c10-18脂酸甘油三酯类、甘油二油酸酯中的至少一种。

7、进一步的,所述乳化剂为地蜡、微晶蜡、合成蜡、聚羟基硬脂酸、三油精中的至少一种。

8、进一步的,所述着色剂为ci77891、ci77492、ci77491、ci77499中的至少一种。

9、进一步的,所述保湿剂为乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷倍半硅氧烷交联聚合物、透明质酸钠中的至少一种。

10、进一步的,所述抗氧化剂为生育酚乙酸酯、红没药醇中的至少一种;所述植物精油为白池花籽油。

11、本发明还提供了所述的遮瑕膏的制备方法,其包括以下步骤:

12、s1、将柔润剂、乳化剂高温加热溶解至透明状;

13、s2、将防腐剂高温搅拌均匀;

14、s3、将步骤s1和s2的原料与着色剂混合后研磨,再高温搅拌均匀至原料完全分散;

15、s4、将步骤s3的原料降温后,加入保湿剂、抗氧化剂、植物精油搅拌均匀,得到所述遮瑕膏。

16、进一步的,所述步骤s3中,着色剂分两次加入,先加入着色剂总质量的70%,然后用再加入着色剂总质量的30%进行调色。

17、进一步的,所述步骤s1中的高温为85-90℃;所述步骤s2和s3中的高温为80-85℃;所述步骤s4中的降温至70-75℃。

18、本发明与现有技术相比,具有以下优点和有益效果:

19、本发明制备的遮瑕膏制备方法简单,得到的遮瑕膏经人体实验以及参数测定验证,上妆后8小时彩妆面积占比无明显变化,使用12小时使用后仍具有持妆、保湿的功效,因此,说明所述遮瑕膏既能符合长时间常温贮存且不容易出油的需求,还具有高度遮瑕及清透的特点,并且还适用于敏感肌,温和无刺激,具有持妆、保湿、舒缓效果。



技术特征:

1.一种敏感肌适用的遮瑕膏,其特征在于,按质量百分比计,所述遮瑕膏包含以下组分:

2.根据权利要求1所述的遮瑕膏,其特征在于,按质量百分比计,所述遮瑕膏中还包含0.3%-0.6%的防腐剂,所述防腐剂为苯氧乙醇。

3.根据权利要求1所述的遮瑕膏,其特征在于,所述柔润剂为异壬酸异壬酯、辛酸/癸酸甘油三酯、二异硬脂醇苹果酸酯、苯基聚三甲基硅氧烷、双-二甘油多酰基己二酸酯-2、c10-18脂酸甘油三酯类、甘油二油酸酯中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的遮瑕膏,其特征在于,所述乳化剂为地蜡、微晶蜡、合成蜡、聚羟基硬脂酸、三油精中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的遮瑕膏,其特征在于,所述着色剂为ci77891、ci77492、ci77491、ci77499中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的遮瑕膏,其特征在于,所述保湿剂为乙烯基聚二甲基硅氧烷/聚甲基硅氧烷倍半硅氧烷交联聚合物、透明质酸钠中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的遮瑕膏,其特征在于,所述抗氧化剂为生育酚乙酸酯、红没药醇中的至少一种;所述植物精油为白池花籽油。

8.权利要求2所述的遮瑕膏的制备方法,其特征在于,其包括以下步骤:

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述步骤s3中,着色剂分两次加入,先加入着色剂总质量的70%,然后用再加入着色剂总质量的30%进行调色。

10.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述步骤s1中的高温为85-90℃;所述步骤s2和s3中的高温为80-85℃;所述步骤s4中的降温至70-75℃。


技术总结
本发明公开了一种敏感肌适用的遮瑕膏及其制备方法。所述遮瑕膏包含以下组分(按质量百分比计):着色剂50%‑55%;柔润剂33%‑38%;乳化剂5%‑9%;保湿剂1%‑1.5%;抗氧化剂0.2%‑0.3%;植物精油0.01%‑0.02%以及防腐剂0.3%‑0.6%。所述遮瑕膏上妆后8小时彩妆面积占比无明显变化,使用12小时使用后仍具有持妆、保湿的功效,因此,说明所述遮瑕膏既能符合长时间常温贮存且不容易出油的需求,还具有高度遮瑕及清透的特点,并且还适用于敏感肌,温和无刺激,具有持妆、保湿、舒缓效果。

技术研发人员:李福臣,张裕,韦丽潇,付艺蕾
受保护的技术使用者:青岛黛优佳生物科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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