用于粒子治疗的包括束分析仪的机架的制作方法

专利名称:用于粒子治疗的包括束分析仪的机架的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于放射治疗的带电粒子治疗设备。更具体地，本发明涉及一种可旋转机架，该机架设计用于在大致沿着所述机架的旋转轴线的方向上接收带电粒子束、用于将所述粒子束传输并输送到待被治疗的靶。
背景技术：
利用带电粒子(例如质子、碳离子等)的放射治疗已被证明为是一项精确并适形的放射治疗技术，其中，能够将高剂量输送到靶区同时使围绕周围健康组织的剂量最小化。一般来讲，粒子治疗设备包括产生高能带电粒子的加速器，用于将粒子束引导到一个或多个治疗室的粒子束传输系统，以及用于每个治疗室的一个粒子束输送系统。人们能够区分 两种粒子束输送系统，即，从固定放射方向输送粒子束到靶的固定束输送系统和能够从多个放射方向输送粒子束到靶的旋转束输送系统。这种旋转束输送系统还被称为机架。靶一般被定位在由机架的旋转轴线和中央治疗束轴线的交叉限定的固定位置。该交叉点被称为等中心点，并且，这种能够从不同方向输送束到等中心点的机架被称为等中心机架。
机架束输送系统包括用于整形粒子束以匹配靶的装置。存在用于粒子束治疗以整形束的两种主要技术更常见的被动式散射技术和更先进的动态辐射技术。一种动态辐射技术的示例是所谓的笔形束扫描(PBS)技术。在PBS中，窄笔形束被磁性扫描与和中心束轴线正交的平面交叉。通过对扫描磁体的适当控制来获得靶区的横向一致。通过对束能量的适当控制来获得靶区的深度一致。以这种方式，可以将粒子辐射剂量输送到整个3D靶区。
在患者身上具有足够穿透深度所需的粒子束能量取决于所使用的粒子类型。例如，对于质子治疗，质子束能量的典型地介于70MeV到250MeV范围之间。对于每个所需的穿透深度，束能量需要被改变。束的能量散度应被限定，因为这直接影响远端剂量衰减。
然而，并不是所有的加速器类型都能改变能量。对于固定的能量加速器(例如固定的等时性回旋加速器)，能量选择系统(ESS)典型性地安装在加速器的出口和治疗室之间，如图1、2和3所示。这样的能量选择系统由Jongen等在“The proton therapy systemfor the NPTC equipment description and progress report”，Nuc. Instr. Meth. InPhys. Res. B 113 (1996) 522-525中描述。该能量选择系统(ESS)的作用是将从回旋加速器提取的固定能量束(例如用于质子的230MeV或250MeV)转换为具有在回旋加速器固定的能量降至所需的最小能量(例如用于质子的70MeV)之间可变的能量的束。所得到的束必须具备经检验并可控的绝对能量、能量散度和发射度。
ESS的第一个元件是碳降能器，其可通过将给定厚度的碳元素与束线交叉放置来降低能量。这样的降能器在专利EP1145605中有所描述。由于该能量降低，因此粒子束的发射度和能量散度的增加。降能器的后面是限制束发射度的发射狭缝并且后面是恢复(即，限制)粒子束中的能量散度的动量或能量分析选择装置。
这样的已知能量选择系统10的布局图在图I中和静止的、固定的能量加速器40(在该示例中回旋加速器)一并示出。在降能器和发射限制狭缝之后，粒子束穿过由两组两个30°弯曲部组成的120°消色差弯曲部。为了满足远端衰减的规格，通过放置在弯曲部的中心的狭缝来限制束中的动量散度或能量散度。粒子束由在弯曲部之前且位于两组两个30°偏转磁体之间的四极透镜聚焦，使得在狭缝位置处束的发射宽度小并且分散大。
从降能器41开始直到治疗等中心点50的整个束线形成消色差的光学系统，即，具备独立于动量(无分散的)并且独立于其横向位置的成像特性的束-光学系统。束线能分为多段，并且每段本身均形成消色差透镜。如图2所示，第一部分是ESS10，后面是使粒子束达到治疗室的入射点的消色差束线段。在机架治疗室的情况下，入射点是旋转机架15的入射点或者耦合点。接着机架束线还形成第三消色差束线段。在单个治疗室粒子治疗构造的情况下，如图3所示，束线包括两个消色差束线段第一段是使粒子束达到机架入射点的ESS10，第二消色差段与旋转机架15束线对应。在机架入射点处，粒子束必须具有在X和Y上相同的发射度，以便具有独立于机架旋转角的机架粒子束光学解决方案。X轴和Y轴互相垂直，并且与中心束轨迹垂直。X轴位于偶极磁体的弯曲平面中。
使用降能器和能量分析器的缺点在于该装置要求如图I所示的相对大的空间区域，从而要求大的建筑面积。ESS的安装还导致额外的设备费。
本发明的目的在于提供一种克服现有技术的至少部分问题的解决方案。本发明的目的在于提供一种具有减小的尺寸并且在与现有技术的粒子治疗设备比较时能以降低的成本建造的带电粒子治疗设备。

发明内容
本发明由附加的权利要求
阐述并以所述权利要求
为特征。
在例如如图1-3所示的现有技术的粒子治疗构造中，由单独的设备，S卩，通过能量选择系统(ESS) 10来执行限制粒子束的动量散度(或者等同的能量散度)和发射度的功能，所述能量选择系统(ESS) 10被安装在固定加速器40和旋转机架15之间。如图I所示，所述ESS的第一元件是降能器41，其被用来降低所述固定能量加速器40的粒子束的能量。
通过本发明，提供了一种可旋转机架束输送系统，其具有履行多个功能的机架束线构造，所述多个功能如下
以在用于粒子治疗的机架治疗等中心点处能输送粒子治疗束的方式传输、弯曲、整形入射粒子束的已知功能；
将所述入射粒子束的能量散度限制到所选择的最大值的附加功能。
通过本发明，由所述机架系统本身来执行将所述粒子束的能量散度或者动量散度限制到所选择值的ESS功能。从而可以降低粒子治疗设备的尺寸和成本。
在本发明的上下文中，所述动量散度被定义为粒子的动量在给定位置处的标准偏差，被表示为位于该位置的所有粒子的平均动量的百分比。无论所述机架中用于限制所述动量散度的装置的位置在何处，这些装置优选地设计为用于将所述动量散度限制到所有粒子的平均动量的10%，更优选的5%，并且甚至更优选的1%。
优选地，所述机架还能履行将所述入射粒子束的横向粒子束发射度限制到所选择的最大值的第二附加功能，从而进一步降低所述粒子治疗设备的成本和尺寸。
更优选地，根据本发明的所述机架还包括安装于所述机架中的所述机架入射点和第一四极磁体之间的准直仪。所述准直仪用于在所述粒子束到达所述机架束线中的所述第一磁体之前降低该粒子束的发射度。
在另一优选实施例中，上述准直仪被安装在所述机架的外侧，即，安装在所述降能器和所述机架的所述入射点之间。
根据本发明，还提供了一种粒子治疗设备，其包括固定粒子加速器、降能器和具有限制所述粒子束的动量散度的装置的可旋转机架。优选地，所述机架还包括限制所述粒子束的发射度的装置。
另选地，提供一种粒子治疗设备，其包括固定粒子加速器、降能器、可旋转机架，所述可旋转机架包括限制所述粒子束的动量散度的装置以及安装在所述降能器和所述机架之间的用于限制所述粒子束的发射度的准直仪。更优选地，所述机架包括限制所述粒子束的发射度的附加装置。

图I示出了已知的用于固定能量回旋加速器的能量选择系统的图示；
图2示出了现有的粒子治疗束线构造的典型布局图；
图3示出了单室粒子治疗构造的已知布局图的图示；
图4示意性示出了根据本发明的装置的示例性实施方式；
图5示出了用于根据本发明的示例性机架的束光学计算的结果；
图6示出了用于根据本发明的另一示例性机架构造的束光学计算的结果。
具体实施方式
现在将关于附图详细地描述本发明。然而，本领域技术人员显然能够构思若干等同实施例或其他执行本发明的方式。所述附图仅为示意性的而非限制的。在附图中，有些元件的尺寸可能被放大了，并且为了说明目的而未按比例绘出。
图4示出了根据本发明的示例性粒子治疗构造。在本示例中，根据本发明的可旋转机架与静止的、固定的能量粒子加速器40联接以形成单室粒子治疗设备100。用于质子的粒子加速器的示例是具有紧凑几何结构(例如具有I. 2m提取半径)的超导同步回旋加速器。根据本发明的机架安装在机架室中，并且屏蔽墙(例如I. 7m厚混凝土墙)将机架室和加速器室分开。降能器41安装在加速器40和机架入射点45 (耦合点)之间。降能器41定位在加速器室内位于分离该加速器室和机架室的屏蔽墙52的正前面。机架入射点45定位在降能器41之后并且是用于机架的束线的入射窗。入射窗45是机架束线段的第一部分，其中粒子束在大体上沿着机架的旋转轴线的方向上进入机架。机架的旋转轴线由穿过等中心点50和入射点45的水平点线表示。如图4所示，如现有技术系统(图1-3)中的情况一样，不存在安装于降能器和机架入射点之间的动量或能量分析器装置。
与如图1-3所示的现有技术构造相似，在加速器的出口和降能器41之间存在短束线段，例如，在此安装两个四极磁体44用于将粒子束传输并聚集到位于降能器处的小光点(例如在一个西格玛0. 5mm到2mm之间)。例如，降能器41是降解材料制成的可快速调整的、伺服控制的、旋转的、可变厚度的柱体(如EP1145605公开的)。加速器的出口和降能器之间的距离为大约2m。也可以使用其他类型的降能系统，例如横向移动楔形基降能器。
申请人:目前使用的降能器在其入口处具有一体的水平-竖直束剖面检测器，其允许对束光点的尺寸和位置进行测量，以及通过控制系统算法，用于对上游束光学器件进行自动调整的装置。因此，位于降能器41处的粒子束可被适当地限定，例如粒子束被聚焦到具有在两个平面中不超过2mm的半宽的小的束腰中。在这些输入束条件下，能量降低的粒子束的输出发射度通过降能器中的多次散射被控制，并且相对独立于输入条件。能量降低后所得到的粒子束可被认为是来自位于降能器的沿X和Y的虚腰的具有给定尺寸和散度的发散束。该两正交的坐标轴X和Y垂直于(横向于)中心束轨迹。沿X和Y的发射度(也称为“横向发射度”)可被认为是在这一点上基本相同。由降能器引入的能量减少的越多，则沿X和Y的横向发射度以及被降低的粒子束的动量散度就越大。
本发明的实施方式是一种包括限制入射束的动量散度的装置43的机架构造。进入机架的粒子束包括具有平均动量值和动量散度的粒子。
为了限制入射束的动量散度，在机架内安装一对动量分析狭缝43。
这些动量分析狭缝43优选地位于沿着束路径的以下的位置处，在该位置，粒子束中的粒子根据其动量而被分散。
更优选地，这些狭缝安装在标称分散大于标称束尺寸的位置。标称分散被定义为粒子的横向位移，粒子的动量与粒子束中的所有粒子的平均动量P相差1% (百分之一)。标称束尺寸被定义为具有平均动量P的单能粒子束沿X的一个西格玛束尺寸值。假如标称分散是2. 5cm :则这意味具有动量P’ = I. OlP的粒子将被从具有动量P的粒子沿X位移
2.5cm。在本示例中，具有动量P’ = 0. 99P的粒子也将被沿X位移2. 5cm,但是具有带相反符号的X坐标。
动量限制狭缝例如可以被安装在沿X的标称束尺寸在0. 2cm至Icm之间并且沿X的标称分散在Icm至3cm之间的位置处。通过打开或者关闭狭缝，可以获得所需(所选择)的最大动量散度。例如，通过相应地调整狭缝，可选择将最大动量散度限制到平均动量的0.5%。如果想将最大动量散度限制到平均动量的0.4%，那么必须关闭一对动量狭缝。为此可以建立校准曲线，从而根据所需动量散度限定狭缝打开。
在图4的构造中，在机架四极磁体(7个)和第二偶极磁体48之间的位置处标称分散相比束尺寸大，从而这是安装动量散度限制狭缝的优选位置。例如，这些狭缝可以安装在第二偶极磁体48紧前方。准确位置可以根据详细的机架构造而变化。
代替使用一对狭缝作为降低粒子束的动量散度的装置，也可使用其他装置。例如，可以使用能被放置在束线中，优选地放置在上述位置处的具备各种直径的孔或者准直仪。
如图4所示的示例中，提出了用于在治疗等中心点50处输送扫描粒子束的机架，该机架的束线包括三个偶极磁体47、48、49以及七个四极磁体44。在该机架构造中，扫描磁体46安装在最后一个偶极磁体49的上游。在机架入射点45和第一偶极磁体之间以及在第一偶极磁体和第二偶极磁体之间分别存在两个四极磁体以及五个四极磁体。
优选地，除了限制粒子束的动量散度的装置43之外，限制横向粒子束发射度的装置42也安装在机架15内。为此，例如，限制粒子束发散的两对狭缝(沿X和Y)能安装在第二四极磁体和第一偶极磁体47之间。因此，通过限制粒子束的发散，能限制与粒子束发散成比例的横向粒子束发射度。安装在机架中、位于入射点45和第一偶极磁体47之间的最初两个四极透镜用来聚焦来源于降能器的发射束，在粒子束到达发散限制狭缝前。粒子束发射度需要被降低到什么程度将取决于机架能够接受以有效传输该粒子束的最大发射、度，并且还将取决于在治疗等中心点处的粒子束需求(例如在治疗等中心点处所需的束尺寸)。可接受的粒子束发射度和束尺寸取决于整形粒子束所使用的技术(例如，笔形束扫描或被动散射)。图4给出的示例是用于扫描束输送系统。对于笔形束质子扫描系统，粒子束发射度例如能被限制到沿X和Y7. 5Pi mm mrad。为了实际的粒子束调整目的，在发散限制或发射度限制狭缝下游紧前方安装束剖面监测器(图4未示出)。代替使用一对沿X和Y的狭缝作为降低粒子束发散的装置，也能使用其他装置。例如，可使用能被放置在束线中的具有各种直径的孔或者准直仪。
如果粒子束的能量降低很大(例如降低250MeV质子到70MeV)，那么粒子束的发射度和发散变得很大，并且在机架中的第一四极磁体紧前方的粒子束的直径能变得比束线管的直径大。为此，此外，在机架15中的第一个四极磁体的上游安装准直仪(图4未示出)以切断束的一部分。该准直仪能安装在机架15中位于入射点45和机架的第一四极磁体之间。另选地，这样的准直仪能安装在机架外面，即，安装在降能器和机架15的入射点45之间。当这样的用于限制束发射度的准直仪安装在上述两个位置中的任何一个中时，在另选的机架实施方式中能省略用于限制发射度的装置42。 当粒子束击中发散和/或动量限制狭缝时，产生中子。为了限制患者定位在其中的治疗等中心点50的水平面上的中子辐射，需要提供充分的屏蔽。由于中子主要沿束方向发射，可以在第一偶极磁体紧后方、与机架的旋转轴线交叉，安装中子屏蔽塞51，以屏蔽在安装在第一偶极磁体47上游的限制粒子束的发射度的装置上产生的中子。由于中子主要沿束方向发射，因此在动量限制狭缝43处产生的中子不会指向患者。然而，为了降低整个中子背景辐射，能围绕动量限制狭缝43安装局部中子屏蔽(图4未示出)。
为了不使图4过载，已故意省略了机架的机械结构。图4中未示出的这样的机械元件的示例是用于使机架围绕患者旋转至少180度的两个球面滚柱轴承、机架驱动和制动系统、用于支撑电缆线轴的滚筒结构、使得机架旋转平衡所需的平衡物。
当设计用于粒子治疗的机架时，需要达到若干束光学条件。在机架入射点45，粒子束必须具有沿X和Y的相同的发射度参数，以便具有独立于机架旋转角的机架束光学解决方案。如上所述，当将降能器放置在机架入射点紧前方时自然达到这些条件。另外，还需满足以下束光学条件
I.机架束光学系统必须是双消色差的，即，束成像特性必须独立于动量(无分散的)以及独立于位置。
2.四极透镜内束的最大尺寸(一个西格玛)应该优选地不超过2cm，以便保持机架中合理的传输效率。
然而，还存在根据如上所述用于整形束的技术而改变的第三条件。对于扫描系统该第三条件可以如下描述
3.在等中心点50束必需具有沿X和Y基本上相同尺寸的小束腰。
对于扫描系统，可以在等中心点的更上游(例如，在最后的偏转磁体的出口处)指定所需的束尺寸，用于散射的可接受的束尺寸一般大于用于扫描的尺寸(例如，在最后的偏转磁体的出口处Icm)。
除了这三个条件(I至3)之外，由于当前发明而引进新的要求
4.在能量散度限制狭缝43处，沿X的标称分散优选地与沿X的标称束尺寸相比大(例如，如上所述的值)。
优选地，根据本发明的机架还包括限制粒子束的发射度的装置。这导致附加要求
5.在发射度限制狭缝42处，粒子束必须具有允许切断发散的沿X和Y的束光学参数(尺寸和散度)。例如，这意味着粒子束必须具有合理尺寸(例如，一个西格玛0.5cm到
2cm) o
图4所示的机架构造基于使用束光学“TRANSPORT”码(U. Rohrer的基于K. L. Brown 等的 CERN-SLAC-FERMILAB 版本的 PSI Graphic Transport Framework)执行的束光学研究。图5示出了作为示例的用于170MeV的入射质子束的机架束线中沿X和Y的束包络。束包络在X方向和Y方向被分别绘制于下平面和上平面中。在该示例中最后的粒 子束的发射度是12. 5Pi mm mrad。这与入射束的散度沿X和Y被限制到6mrad的情况对应。于是通过所述系统被传输的粒子束能被认为是起始于降能器的具备I. 25mm小束点和6mrad散度的降能器的粒子束。通过该束光学系统，获得在治疗等中心点处的3. 2mm( 一个西格玛值)的束尺寸，其是执行笔形束扫描的适当值。图5示出了四极磁体和偶极磁体的位置。在该图中并未按比例示出偶极磁体(竖直间隙)的横向位置，目的仅是指明它们沿中心轨迹的位置。特别地，最后的偏转磁体49的沿X和Y的间隙比图5的比例大得多，原因是因为扫描磁体定位于偶极磁体的上游并且在等中心点处需要覆盖大的扫描面积从而需要大的开口。扫描磁体沿着束路径的位置由竖直线表示。点线表示束沿X的标称分散。如所示，在第二偶极磁体48紧前方获得大的标称分散值，这是优选地安装有动量限制狭缝43的位置。沿动量限制狭缝43的中心束轨迹的位置由图5中的竖直线表示。动量限制狭缝处的沿X的标称束尺寸是大约0. 23cm,而在此位置处的沿X的标称分散是大约2. 56cm,因此，能够获得入射束的良好的动量分离。优选地，还使用发散限制狭缝42。这些狭缝42的良好位置在图5上由一条竖直线表示。在此位置，沿X和Y的束尺寸分别大约为I. 8cm和0. 6cm。提出的该束光学解决方案满足了双消色差透镜的条件。
如图4和图5所示的示例中，使用具有分别为36°、66°、60°的偶极子弯曲角的三偶极子机架构造。然而，本发明并不局限于涉及偶极子数量或者偶极子的弯曲角的特定的机架构造。本发明即不局限于四极磁体的数量也不限于相对于偶极磁体的四极磁体的相对位置。
作为第二示例，本发明已被应用于圆锥形双偶极子大投射机架。这与图2和图3所示的机架构造对应。这些大投射机架由申请人建造，并且由Pavlovic在“Beam-opticsstudy of the gantry beam delivery system for light-ion cancer therapy，，，NucI.Instr. Meth. In Phys. Res. A 399(1997)的440页中描述。在这些机架中，第一 45。偶极磁体使粒子束远离机架的旋转轴线弯曲，然后，在进入基本上垂直于旋转轴线弯曲并引导粒子束的第二 135°偶极磁体之前，粒子束跟随第二直束线段。位于机架入射点和第一 45°偶极磁体之间的直束线段在原始机架设计中包括四个四极磁体(图2是只具有两个安装在该束线段中的四极磁体的构造)，位于第一偶极磁体和第二偶极磁体之间的第二直段包括五个四极磁体。在此机架的情况下，最后的偏转磁体和治疗等中心之间的距离是3m，以所谓喷嘴构造的束成形元件安装在最后的偏转磁体的上游。该喷嘴使用被动散射技术或者扫描技术，用于使得粒子束成形以符合治疗靶。扫描磁体是喷嘴的部分，因此安装在最后的机架偶极磁体的下游。
对于该双偶极子机架构造已执行了束光学分析。已考虑和以上讨论的相同的条件和要求。图6中示出了对于160MeV的质子束的该机架中的所得到的束包络。所述束包络在X方向和Y方向被分别绘制于下平面和上平面。45°偶极磁体67、135°偶极磁体68和多个四极磁体44沿着中心束路径的位置在图6中表示。而且在此，降能器被安装在机架的入射窗紧前面，并且，例如，在该计算中，散度被以8mrad切断，最后粒子束的发射度沿X和Y都是IOPi mm mrad。如图6所示的束包络始于机架入射窗，并且束尺寸为I. 25mm(—个西格玛值)。在此机架构造中，位于入射窗和第一 45°机架偏转磁体67之间的第一直线段包括四个四极磁体44。发散限制装置42安装在第二四极磁体和第三四极磁体之间，并且由图6的一条竖直线表示。动量散度限制狭缝43安装在沿X的标称分散与标称束尺寸相比大的位置处。图6上的点线表示粒子束的沿X的标称分散。动量散度限制狭缝43的位置由图6中的一条竖直线表示。在此位置，沿X的标称分散大约为2. 6cm，沿X的标称束尺寸(一个西格玛值)大约为0. 6cm,该束尺寸对于根据动量分析入射束、并通过在相应位置设置狭缝来将动量散度限制到给定值是足够的。如图6所示的束包络是利用扫描技术(扫描 磁体安装在135°偶极磁体的下游，但未在图6中示出)的用于喷嘴的调整方案。用于该束光学研究中的该机架构造还包括安装在如图6所示的135°最后的偶极磁体68的上游的两个四极磁体。通过上述调整方案，获得位于等中心点处于的具有4_(一个西格玛值)的束尺寸的沿X和Y的双束腰，其适于执行笔形束扫描。该束光学方案满足了双消分散透镜的条件。
通过组合静止的固定能量粒子加速器、降能器和根据本发明的可旋转机架能形成粒子治疗设备100，S卩，可旋转机架包括用于限制粒子束的能量散度或者动量散度的装置，优选地还包括用于限制粒子束的发射度的装置。如图4所示，能获得为质子治疗设备的示例的紧凑几何结构，并且需要安装的建筑覆盖区小于具有单独能量选择系统的情况。
尽管所述的实施方式集中在质子机架，本发明并不局限于质子机架。本领域技术人员能容易地将本发明的元件(即，用于分析束(限制发射度以及限制能量散度)的装置)应用于结合任何类型带电粒子使用的机架(诸如用于碳离子或其它轻离子的机架)。
多年前就已设计了用于粒子治疗的机架，并且，与静止的固定能量粒子加速器结合，单独的能量选择系统总是安装在位于加速器和机架之间的束线上。根据本发明，提供了一种新的机架构造，其包括用于限制束的能量散度或动量散度的装置，优选地还包括用于限制束的发射度的装置。因此，机架本身包括标准的现有能量选择系统的功能。通过设计具有如所述的分析束的这些装置的机架，能构造更紧凑的粒子治疗设备。
权利要求
1.一种可旋转机架(15)，用于沿着束路径接收、传输、输送粒子束到靶以供粒子治疗使用，所述机架(15)包括入射窗(45)，用于在大致沿着所述机架的旋转轴线的方向上入射所述粒子束，其特征在干所述机架(15)包括用于将粒子束中的粒子的动量散度限制到所选择的最大值的装置(43)。
2.根据权利要求
I所述的机架(15)，其特征在干所述用于限制粒子束中的粒子的动量散度的装置(43)定位于所述束路径上的、该粒子束中的粒子根据其动量而被分散之处的位置。
3.根据权利要求
2所述的机架(15)，其特征在干所述用于限制粒子束中的粒子的动量散度的装置(43)定位于所述束路径上的以下位置，在所述位置，取决于粒子动量的标称分散大于标称束尺寸，所述标称分散定义为动量与所述粒子束中的所有粒子的平均动量P相差1% (百分之一)的粒子的横向位移，所述标称束尺寸定义为具有所述平均动量P的单能粒子束的ー个西格玛束尺寸值。
4.根据前述权利要求
中的任一项所述的机架(15)，其特征在于所述机架(15)还包括用于将粒子束的横向发射度限制到所选择的最大值的装置(42)。
5.根据权利要求
4的机架(15)，其特征在干所述用于限制粒子束的横向发射度的装置(42)定位于所述用于限制粒子束中的粒子的动量散度的装置(43)的上游。
6.根据权利要求
4或5中的任一项所述的机架(15)，其特征在于所述用于限制粒子束的横向发射度的装置(42)是发射狭缝或孔、或准直仪。
7.根据前述权利要求
中的任一项所述的机架(15)，其特征在干所述用于限制粒子束中的粒子的动量散度的装置(43)是动量分析狭缝或孔、或准直仪。
8.ー种粒子治疗设备(100)，其包括粒子束发生器(40)、用于降低所述粒子束的动量的降能器(41)和根据前述权利要求
中的任一项所述的机架(15)。
9.ー种粒子治疗设备(100)，其包括粒子束发生器(40)、用于降低所述粒子束的动量的降能器(41)、用于限制所述粒子束的发射度的准直仪和根据前述权利要求
中的任ー项所述的机架(15)，所述准直仪定位于所述降能器(41)和所述机架(15)之间。
专利摘要
本发明涉及一种用于放射治疗的粒子治疗设备。更具体地，本发明涉及一种包括分析入射束的装置的用于输送粒子束的机架。所述装置集成到所述机架中以限制粒子束的动量散度和/或粒子束的发射度。
文档编号G21K1/02GKCN102695544SQ201080047920
公开日2012年9月26日 申请日期2010年10月19日
发明者Y·乔丹 申请人:离子束应用公司导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan