一种多叶准直器的校准方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及放射治疗领域，尤其涉及一种多叶准直器的校准方法。
【背景技术】
[0002]在放射治疗装置中，为了产生与治疗计划靶区相匹配的辐射野，通常包括用于对放射源发出的射线进行适形调整的多叶准直器(Mult1-leaf collimator,简称MLC)，其是用于产生适形辐射野的机械运动部件，俗称多叶光栅、多叶光阑等。多叶准直器包括多个能彼此独立运动的叶片，分成两组，相对设置，通过单独控制每个叶片的位置灵活地调节射野形状，从而提高多叶准直器所组成的射野与治疗计划靶区形状的适形度。
[0003]多叶准直器工作的准确性和精确性在放射治疗中具有重要的作用，这可以确保尽可能精确地照射治疗计划靶区，而不损伤周围的正常组织(也称之为危及器官)。为了达到上述要求，必须精确地控制各个叶片的位置，即需要对多叶准直器进行校准。
[0004]现有技术中，对多叶准直器的校准技术主要有如下两种:基于光野的校准方法和采用EPID(Electronic Portal Imaging Device，称为电子射野影像装置)的校准方法。
[0005]基于光野的校准方法通常是调节多叶准直器中叶片的位置，利用可见光进行照射，形成一定尺寸的光野，然后利用射线进行照射，形成一定尺寸的射野，以50%剂量线为射野边界，比较光野和射野的偏差从而对叶片的位置进行校准。
[0006]由于射野无法直接通过目视来断定，因此一般都采用光野来表征射野，方便物理师检查和判断射野的准确性。采用光野来表征射野的前提是要满足光射野一致性。光源具有一定大小的体积，导致可见光经过叶片之后形成的光野边界变得模糊，称之为光野半影，光野半影的存在使得无法准确判断光野边界，一般是物理师根据其自身的经验来确定光野边界，主观性较强，因此作为参考的光野已然引入了误差，导致不能准确校准叶片的位置。
[0007]并且该方法仅适用于无聚焦的多叶准直器。对于聚焦型的多叶准直器，当叶片机械对齐后，由于射束与叶片端面的切点在叶片运动方向的坐标值相同，而在射束轴线方向的高度不同，导致切点在等中心平面上的投影点在叶片运动方向的坐标值不同，因此叶片的端面在等中心平面上的投影是一段曲线。但根据法规规定，射野要求为方形野，射野的边界必须为直线，因此，该方法不能用于校准聚焦型的多叶准直器。
[0008]采用EPID来校准多叶准直器是将多叶准直器视为模体，采用EPID对多叶准直器进行成像，分析图像中的叶片位置来进行校准。这种方法可以用于校准聚焦型的多叶准直器，但校准精度受限于EPID的性能，由于EPID的成像精度不够高，因此对多叶准直器的校准精度也不够高。
[0009]因此，需要寻求一种适用范围较广且校准精度较高的多叶准直器的校准方法。
【发明内容】
[0010]本发明要解决的技术问题是现有技术中的用于校准多叶准直器的方法的校准精度较低，且不适用于聚焦型的多叶准直器。
[0011]为了解决上述技术问题，本发明提出了一种新的多叶准直器的校准方法，其不仅可以用于校准无聚焦的多叶准直器，还可以校准聚焦型的多叶准直器，而且校准精度较高。
[0012]根据本发明的实施例，该多叶准直器的校准方法包括:
[0013]移动钨块形成一定形状的射野，使得至少一个钨块的位置与多叶准直器的叶片的待校准位置对应，测量射野的第一剂量分布；
[0014]移动叶片至待校准位置，并移开对应的钨块使其不遮挡所述待校准位置，测量射野的第二剂量分布；
[0015]比较所述第一剂量分布和所述第二剂量分布，得到所述叶片的位置校准量。
[0016]可选的，所述移动钨块形成一定形状的射野，使得至少一个钨块的位置与多叶准直器的叶片的待校准位置对应，包括与所述叶片运动方向垂直的钨块形成最大射野，与所述叶片运动方向相同的至少一个钨块的位置与所述待校准位置对应。
[0017]可选的，所述测量射野的第一剂量分布包括通过剂量测量装置测量所述射野内的二维剂量分布。
[0018]可选的，所述测量射野的第一剂量分布包括通过剂量测量装置依次测量射野内每个叶片对应的一维剂量分布。
[0019]可选的，所述测量射野的第二剂量分布包括通过剂量测量装置测量所述射野内的二维剂量分布。
[0020]可选的，所述测量射野的第二剂量分布包括通过剂量测量装置依次测量射野内每个叶片对应的一维剂量分布。
[0021]可选的，所述比较所述第一剂量分布和所述第二剂量分布，得到所述叶片的位置校准量，包括分别对所述第一剂量分布和所述第二剂量分布归一化，比较钨块形成的射野与多叶准直器形成的射野在叶片运动方向上的剂量分布，得到叶片的位置校准量。
[0022]可选的，所述第一剂量分布的边界与对应的第二剂量分布的边界之间的差值为叶片的位置校准量。
[0023]可选的，在得到所述叶片的位置校准量之后，对校准结果进行检验。
[0024]根据另一实施例，本发明还提供了一种多叶准直器的校准方法，包括
[0025]选取至少一个待校准位置，
[0026]分别移动钨块至与每个待校准位置对应的位置，并测量射野的第一剂量分布；
[0027]移动多叶准直器的叶片至每个待校准位置，移开对应的钨块使其不遮挡所述待校准位置，并测量射野的第二剂量分布；
[0028]比较每个待校准位置对应的第一剂量分布和第二剂量分布，得到所述叶片在每个待校准位置的校准量。
[0029]可选的，在得到所述叶片在每个待校准位置的校准量之后，对所述校准量进行拟合，得到叶片运动范围内任意位置的校准量。
[0030]可选的，在得到叶片运动范围内任意位置的校准量之后，对校准结果进行检验。
[0031]与现有技术相比，本发明的多叶准直器的校准方法基于钨块运动的准确性，利用钨块形成的射野来校准多叶准直器的射野，从而精确控制叶片的位置，校准精度较高；
[0032]进一步地，由于钨块形成的射野边界为直线，以其为参考，校准后的多叶准直器的射野边界也为直线，符合法规规定，使得本发明的校准方法不仅可以校准无聚焦的多叶准直器，还可以用于校准聚焦型的多叶准直器，适用范围更广；
[0033]进一步地，本发明的多叶准直器的校准方法不需要使用光野，解决了传统校准方法中对光野的依赖性，避免了由于光野的不准确引入的误差；
[0034]进一步地，可以利用校准后的多叶准直器的射野来校准光野，例如调节光源的位置使得光野和射野一致，符合法规规定，便于物理师查看射野。
【附图说明】
[0035]为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。
[0036]图1是本发明一实施例的多叶准直器的校准方法流程图；
[0037]图2是钨门准直器形成射野的示意图；
[0038]图3是多叶准直器形成射野的示意图；
[0039]图4是多叶准直器叶片校准量示意图
[0040]图5是校准后射野的检验示意图。
【具体实施方式】
[0041]为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本发明的【具体实施方式】作详细说明。
[0042]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其它不同于在此描述的方式来实施，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
[0043]本发明的多叶准直器的校准方法基于钨块运动的准确性，将钨块形成的射野作为参考来校准多叶准直器的射野，从而精确控制叶片的位置。
[0044]实施例一
[0045]图1是本发明一实施例的多叶准直器的校准方法流程图；图2是钨门准直器形成射野的示意图；图3是多叶准直器形成射野的示意图；图4是多叶准直器叶片校准量示意图。
[0046]参考图1所示，本实施例的方法包括以下步骤:
[0047]在步骤101，移动钨块形成一定形状的射野。
[0048]在放射治