磁灸护背通的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及磁疗领域，特别涉及一种磁灸护背通。
【背景技术】
[0002]随着人们生活和工作方式的改变以及活动锻炼的时间越来越少，颈椎病、肩椎病的发病率越来越高，也越来越年轻化，特别是办公室的工作人员、管理人员和司机之类人群尤为突出。
[0003]目前，肩、颈椎病的常规治疗一般采用器械牵引、人工按摩、贴敷膏药等方法治疗，然而，器械牵引和人工按摩需要在特定的场合才能进行，而且需要连续性地治疗才会有一定的疗效，这样对上班族的生活和工作带来很多的不便，而膏药敷贴虽然可以克服上述器械牵引、人工按摩的不足，但由于膏药长时间粘贴在皮肤上，会引起皮肤的红肿和过敏现象，严重者会引起皮肤溃烂，而且只能暂时缓解疼痛。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型提供一种磁灸护背通，实现了对整个背部的磁疗作用，对肩、颈椎病起到了缓解和治疗的作用。
[0005]本实用新型提供一种磁灸护背通，包括:
[0006]衬底，所述衬底上设置多个磁石，且所述多个磁石排列形成“工”字型结构。
[0007]本实用新型的实施方案中，所述衬底的顶部和底部之间的侧面为凹面。
[0008]本实用新型的实施方案中，所述凹面的曲率半径为200-500mm。
[0009]本实用新型的实施方案中，所述衬底为凸形状，且所述凸形状的弯曲凹面朝向使用者。
[0010]本实用新型的实施方案中，所述衬底上开设多个凹槽，所述磁石设置在所述凹槽中。
[0011]本实用新型的实施方案中，所述多个磁石等间距设置。
[0012]本实用新型的实施方案中，所述磁石之间的间距为10-30mm。
[0013]本实用新型的实施方案中，还包括:
[0014]保护层，所述保护层设置在所述衬底上，且所述多个磁石位于所述保护层和所述衬底之间。
[0015]本实用新型提供的磁灸护背通，通过衬底上设置多个磁石，且多个磁石排列形成“工”字型结构，由于多个磁石排列形成的工字型结构与背的形状相接近，这样“工”字型结构的多个磁石产生的磁场能够对整个背部进行磁疗，从而增强了对背部的磁疗效果，而且通过磁疗对背部起到活化细胞、增加免疫功能及改善微循环等作用，因此本实用新型提供的磁灸护背通实现了对整个背部的磁疗作用，从而对肩、颈椎病起到了缓解和治疗的作用。
【附图说明】
[0016]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本实用新型磁灸护背通的结构示意图；
[0018]图2是本实用新型磁灸护背通的又一结构示意图；
[0019]图3是本实用新型磁灸护背通的剖面示意图。
【具体实施方式】
[0020]为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0021]图1是本实用新型磁灸护背通的结构示意图，如图1所示，磁灸护背通包括:衬底10，衬底10上设置多个磁石20，且多个磁石20排列形成“工”字型结构(如图1所示)，本实施例中，多个磁石20可以排列形成一个工字型结构，该“工”字型结构的多个磁石20产生的磁场可以作用到整个背部(包括肩部，腰部及颈椎)，对整个背部进行磁疗，通过磁疗作用达到活化细胞、增加免疫功能、改善微循环及消痛等作用，从而缓解和治疗肩、颈椎病等，本实施例中，需要说明的是，由于人体肩部、颈椎和腰部形成的形状接近于“工”字型结构，所以，多个磁石20排列形成的“工”字型结构与人体肩部、颈椎和腰部形成的形状类似，这样，多个磁石20产生的磁场能够集中地作用到后背的肩部、颈椎和腰部，从而增强了对背部的磁疗效果，进而对肩、颈椎病进行缓解和治疗。
[0022]本实施例中，磁灸护背通使用时，衬底10上排列形成的工字型结构与人体后背的肩部，腰部及颈椎相对应，所以，在实际应用中，工字型结构的大小随着背部大小的不同而变化，本实施例中，通过衬底10上设置多个磁石20，且多个磁石20排列形成工字型结构，使得产生的磁场能够集中地作用到后背的肩部，腰部及颈椎部位，这样对背部的磁疗效果更好，最终达到预防或缓解肩、颈椎病及腰酸背痛等背部疾病，而且磁疗一般都是无副作用的，本实施例中，衬底10的材质为柔软性材质，磁石20可以通过缝制方式设置在衬底10上，还可以通过粘合方式设置在衬底10上，磁石20的固定方式具体根据实际应用进行选取，本实施例中不加以限定。
[0023]本实施例中，多个磁石20排列形成的工字型结构可以如I所示，即多个磁石20排列形成工字型结构的三条边，由三条边组成工字型结构，还可以为了增强磁疗效果，将工字型结构的每条边由多个磁石20排列形成的多条边并联组成，只要多个磁石20排列形成的“工”字型结构的外轮廓为“工”字即可。
[0024]本实施例中，衬底10的形状可以如图1中所示的矩形，还是可以为其他不规则的形状，只要衬底10的形状能够覆盖住背部则都可以。
[0025]本实施例提供的磁灸护背通，通过衬底上设置多个磁石，且多个磁石排列形成工字型结构，这样该工字型结构的多个磁石产生的磁场能够集中地作用到后背的肩部，腰部及颈椎部位，磁场对肩部、腰部及颈椎部位进行磁疗作用，实现了对整个背部的磁疗作用，对肩、颈椎病起到了缓解和治疗的作用，而且该磁灸护背通结构简单，使用方便，可以随时随地对背部进行磁疗。
[0026]图2是本实用新型磁灸护背通的又一结构示意图，进一步的，在上述实施例的基础上，本实施例中，如图2所示，衬底10的顶部和底部之间的侧面为凹面(如图2中的A所示)，即衬底10的两侧面向内弯曲形成弯曲凹面，本实施例中，将衬底10的顶部和底部之间的侧面设置凹面时，与后背的两侧轮廓相吻合，这样既美观，又比较实用。
[0027]图3是本实用新型磁灸护背通的剖面示意图，其中，图3所示的剖面图为从图1所示的磁灸护背通的某一横向的剖面示意图，本实施例中，如图3所示，衬底10为凸形状，且凸形状的弯曲凹面朝向使用者，即衬底10的表面为弯曲状的，且弯曲凹面朝向使用者，本实施例中，通过将衬底10设置为弯曲凹面朝向使用者的凸形状时，在使用时，衬底10的弯曲凹面能够更好地与使用者接触，这样衬底10上的磁石20产生的磁场对背部的磁疗效果更好，避免了因衬底10材质较硬时，衬底10与人体只能部分接触而导致衬底10上的一些磁石20与背部之间的距离变大使得作用到背部上的磁场强度降低，继而造成对背部的磁疗效果变差的问题。
[0028]进一步的，在上述实施例的基础上，本实施例中，衬底10上开设多个凹槽，磁石20设置在凹槽中，其中，一个凹槽可以放置一个磁石20，即凹槽和磁石20 —一对应，还可以在开设的一个凹槽中放置多个磁石20，具体根据实际应用进行设置，本实施例中，磁石20的形状可以为圆形，还可以为其他形状，本实施例中，如图1所示，磁石20为圆形，且圆形磁石20的直径大小例如可以为9-15mm0
[0029]进一步的，在上述实施例的基础上，本实施例中，在衬底10上设置多个磁石20时，多个磁石20之间等间距设置，这样产生的磁场强度更加均匀，作用到背部一些区域的磁场强度均匀一致，更好地满足使用者的需求，进一步的，本实施例中，磁石20之间的间距为10_30mm，例如磁石20之间的间距可以为20mm，还可以为30mm。
[0030]进一步的，在上述实施例的基础上，本实施例中，还包括:
[0031]保护层，保护层设置在衬底10上，且多个磁石20位于保护层和衬底10之间，通过在衬底上设置保护层，可以对磁石20起到保护作用，防止磁石20在使用过程中从衬底10上脱落，通过将磁石20设于衬底20和保护层之间，能够更好地固定和保护磁石20。
[0032]最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。
【主权项】
1.一种磁灸护背通，其特征在于，包括: 衬底，所述衬底上设置多个磁石，且所述多个磁石排列形成“工”字型结构。2.根据权利要求1所述的磁灸护背通，其特征在于，所述衬底的顶部和底部之间的侧面为凹面。3.根据权利要求2所述的磁灸护背通，其特征在于，所述凹面的曲率半径为200-500mmo4.根据权利要求1-3任一所述的磁灸护背通，其特征在于，所述衬底为凸形状，且所述凸形状的弯曲凹面朝向使用者。5.根据权利要求1所述的磁灸护背通，其特征在于，所述衬底上开设多个凹槽，所述磁石设置在所述凹槽中。6.根据权利要求1所述的磁灸护背通，其特征在于，所述多个磁石等间距设置。7.根据权利要求6所述的磁灸护背通，其特征在于，所述磁石之间的间距为10-30mm。8.根据权利要求1所述的磁灸护背通，其特征在于，还包括: 保护层，所述保护层设置在所述衬底上，且所述多个磁石位于所述保护层和所述衬底之间。
【专利摘要】本实用新型提供一种磁灸护背通，包括：衬底，所述衬底上设置多个磁石，且所述多个磁石排列形成“工”字型结构，本实用新型提供的磁灸护背通，实现了对整个背部的磁疗作用，对肩、颈椎病起到了缓解和治疗的作用。
【IPC分类】A61N2/08
【公开号】CN204798645
【申请号】CN201520475744
【发明人】楼中平, 葛俊
【申请人】杭州慈孝堂科技有限公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年6月30日