专利名称：排气罩的制作方法
技术领域：
本发明涉及集成电路制造技术领域，尤其是一种用于收集并排出密闭反应室(Chamber)中所产生的废气的排气罩。
背景技术：
在集成电路的制造过程中，为了使机台能够正常运转，将停机(DOWN)次数减少到最低限度，必须对包括密闭反应室(Chamber)在内的机台进行定期的预防性保养(preventive maintenance，PM)，由于这种保养现在一般采用含氟气体，如C4F8、C5F8等，所以很容易产生有害气体残留，当工作人员对机台进行维护时，这些含氟气体会危害他们的身体健康；再者，密闭反应室所用的有机溶剂PF5060也是易挥发的含氟气体，因此在机台上一般都加装有检测器对有害气体的浓度进行实时检测(DETECTOR)，当从密闭反应室逸出的有害气体的浓度超标时进行报警(ALARM)，让有关操作人员撤离现场，待报警原因查明、并排除故障使有害气体降至安全的浓度后才能使操作恢复正常。
如图1为现有技术的反应室顶盖密封时的示意图，图2为现有技术的反应室顶盖打开时的示意图，该密闭反应室200在需要清洗时，为避免反应室内的有害气体逸出后损害操作人员的身体健康，必须先由进气口1往密闭反应室200内通入N2，再从排气口2排出废气，如此反复要进行30多次的N2冲排，才能将密闭反应室200内的有害气体排放到所要求的浓度以下，这样才可以关闭进气口1和排气口2，停止N2冲排，打开密闭反应室的顶盖，由操作人员进行预防性保养。由于必须进行30多次的排气，当然会延长清洗操作的时间，降低工作效率。
而且，即便是在进行了30多次的N2冲排后，有时也可能引起设于机台上的检测器(图中未示)的误报警；这是因为，检测器原本只是设计用于检测氟等对人体有害的气体超标并进行报警的，但是在实际操作过程中，密闭反应室所用的有些溶剂也会产生某些无毒气体，由于是无毒气体，所以不必报警停机，也不必让有关操作人员撤离现场；但问题是这些无毒气体达到一定浓度后同样将会引起检测器的报警，而现有技术只用N2冲排容易使气体排放不彻底，这种情况引起检测器的报警后时就会使操作人员误认为是氟超标，而不得不再次关闭密闭反应室的顶盖进行N2冲排，从而使操作处于停顿状态，造成不必要的浪费；可是从安全的角度来考虑，又不能取消检测器的设计。
综上，现有技术的排气装置存在的缺点有二一是N2冲排次数多，使得操作时间长、效率低；二是由于排气不彻底，容易引发检测器的误报警，影响生产。
发明内容
为了克服上述现有技术的不足，本发明的目的就是要提供一种新的排气装置，减少排气次数、并可边排气边清洗，以快速、高效地消除这些含氟有害气体。
为了达成上述目的，本发明提供了以下三种技术方案1、一种排气罩，围置于密闭反应室的开口周围以收集并排出废气，该排气罩包括一个中空套管、以及与该中空套管相连通的管路，该管路的另一端与真空抽吸装置相连接，在该中空套管的内壁上设有至少一个排气孔；密闭反应室内的废气从排气孔被抽吸进中空套管并从管路排出。其中中空套管的内壁形状与所述密闭反应室的开口的形状相配合，且其内壁恰可密封地围置于所述密闭反应室的开口外周。所述至少一个排气孔均匀排列于中空套管的内壁上。
2、一种排气装置，设置于密闭反应室的开口周围以及上方以收集并排出废气，该排气装置包括前述的排气罩、以及一个设于所述密闭反应室开口上方的排气管，该排气管也连接有真空抽吸装置并设于所述密闭反应室开口上方的中央位置。
3、一种排气设备，设置于复数个密闭反应室上以收集并排出废气，该排气设备包括复数个上述的排气装置，其中每个该排气装置的排气罩的中空套管围置于一个密闭反应室的开口周围，每个排气管设于该密闭反应室的开口上方；所述复数个排气装置的复数个排气管汇集到一个总的管路后，再与真空抽吸装置相连接。
本发明的有益效果是经实验证明，因本装置可以边排气边清洗，不必再象原有技术那样等待30次以上的N2冲排后才能够再清洗，故加装了本发明的排气罩后，可只进行10次的N2冲排就可打开密闭反应室的顶盖进行清洗，从而使工作效率得以显著提高；再者，由于本装置可随时进行排气，所以不会引发检测器的误报警，同时也更加有利于操作人员的身体健康。
图1为现有技术的反应室顶盖密封时的示意图；图2为现有技术的反应室顶盖打开时的示意图；图3为本发明的实施例之一加装在反应室开口周围的排气罩的示意图；图4为排气罩的结构示意图；
图5为本发明的实施例之二排气罩加排气管所组成的排气装置的示意图；图6为本发明的实施例之三含有多个排气装置的排气设备的结构示意图。
具体实施例方式
本发明是利用了空气动力学的原理，在密闭反应室的开口周围加装了包围型排气罩(PM HOOD)，并可配合在反应室上方再加装排气(EXHAUST)管路，从洗槽开口周围和中央收集并排出含有毒气体的废气。
为了更加详细地说明本排气罩的结构，下面结合附图给出本发明的图4为排气罩1000的结构示意图；由图中可见，中空套管1100的中空部分的横截面形状为方形，当然也可为圆形、椭圆形、或三角形、或其他任意的形状。
使用本发明的排气罩时，应先由进气口1往密闭反应室200内通入N2，再从排气口2排出废气，因为加装了本发明的排气罩1000，所以只需进行10次左右的N2冲排，即可关闭进气口1和排气口2，停止N2冲排，打开密闭反应室的顶盖，一边开启本发明的排气罩1000进行排气，一边由操作人员进行预防性保养。由于只须进行大约10次的N2冲排，当然会大大缩短清洗操作的时间，提高了工作效率；而且在人工清洗的过程中所产生的有害气体也会被随时抽出，保证了人员的健康。
实施例二排气装置为了加强反应室内废气的真空抽吸效果，本发明还提供了又一实施例即在上述实施例一的基础上，在密闭反应室的开口上方的中央位置加装一个竖直的排气(EXHAUST)管1300，如图5所示为实施例二的结构示意图，一个排气罩1000加一个排气管1300组成了排气装置的结构示意图；该排气管1300连接有真空抽吸装置(图中未示)，当该排气管1300与排气罩1000一同启动时，由于该排气管1300可直接将上升到密闭反应室的开口上方的中央位置的废气排出，而排气罩1000则主要负责将密闭反应室的开口周围的废气排掉，因此可使排气效果更加显著。
排气管1300设计为移动式，使用时置于密闭反应室的开口上方，优选为中央的位置；排气管1300的下端可采用PVC软管，或具有可伸缩特点的管路，以便操作人员随时控制排气管1300的下端管口的高度。
实施例三排气设备在上述实施例的基础上，为达成降低设备成本的目的，还可衍生出本发明的又一个实施例，如图6为本发明的实施例之三的结构示意图排气设备含有多个如实施例二所述的排气装置2000，该排气设备适用于具有多个密闭反应室的工作现场，其中每个反应室的排气罩1000的中空套管1100围置于该密闭反应室的开口周围，每个排气管1300设于该密闭反应室的开口上方；所述复数个排气管1300汇集到一个总的排气管3100后，再将总的排气管3100与真空抽吸装置(图中未示)相连接。
尽管本发明是参照其特定的优选实施例来描述的，但本领域的技术人员应该理解，在不脱离由所附权利要求限定的本发明的精神和范围的情况下，可以对其进行形式和细节的各种修改。
权利要求
1.一种排气罩，围置于密闭反应室的开口周围以收集并排出废气，其特征是该排气罩包括一个中空套管(1100)、以及与该中空套管相连通的管路(1200)，该管路(1200)的另一端与真空抽吸装置相连接，在该中空套管(1100)的内壁上设有至少一个排气孔(1101)；密闭反应室内的废气从排气孔(1101)被抽吸进中空套管(1100)并从管路(1200)排出。
2.如权利要求1所述的排气罩，其特征是该中空套管(1100)的内壁形状与所述密闭反应室的开口的形状相配合，且其内壁恰可围置于所述密闭反应室的开口外周。
3.如权利要求2所述的排气罩，其特征是该中空套管(1100)是密封地围置于所述密闭反应室的开口外周。
4.如权利要求1所述的排气罩，其特征是该中空套管(1100)的中空部分的横截面形状为方形、圆形、椭圆形、或三角形。
5.如权利要求1所述的排气罩，其特征是所述至少一个排气孔(1101)均匀排列于中空套管(1100)的内壁上。
6.一种排气装置，设置于密闭反应室的开口周围以及上方以收集并排出废气，其特征是该排气装置包括一个如权利要求1所述的排气罩、以及一个设于所述密闭反应室开口上方的排气管(1300)，该排气管(1300)也连接有真空抽吸装置。
7.如权利要求6所述的排气装置，其特征是该排气管(1300)设于所述密闭反应室开口上方的中央位置。
8.如权利要求6所述的排气装置，其特征是该排气管(1300)竖直设于所述密闭反应室开口上方的中央位置。
9.如权利要求6所述的排气装置，其特征是该中空套管(1100)的内壁形状与所述密闭反应室的开口的形状相配合，且其内壁恰可密封地围置于所述密闭反应室的开口外周。
10.一种排气设备，设置于复数个密闭反应室上以收集并排出废气，其特征是该排气设备包括复数个如权利要求6所述的排气装置，其中每个该排气装置的排气罩的中空套管(1100)围置于一个密闭反应室的开口周围，每个排气管(1300)设于该密闭反应室的开口上方；所述复数个排气装置的复数个排气管(1300)汇集到一个总的管路后，再与真空抽吸装置相连接。
11.如权利要求10所述的排气设备，其特征是该排气管(1300)竖直设于所述密闭反应室开口上方的中央位置。
12.如权利要求10所述的排气设备，其特征是该中空套管(1100)的内壁形状与所述密闭反应室的开口的形状相配合，且其内壁恰可密封地围置于所述密闭反应室的开口外周。
全文摘要
一种排气罩，围置于密闭反应室的开口周围以收集并排出废气，包括一个中空套管、以及与该中空套管相连通的管路，该管路的另一端与真空抽吸装置相连接，在该中空套管的内壁上设有至少一个排气孔；密闭反应室内的废气从排气孔被抽吸进中空套管并从管路排出；本装置还可于所述密闭反应室开口上方加设排气管，以加强排气效果；另外，还可将多个密闭反应室的排气罩的排气管汇集到一个总的管路后，再与真空抽吸装置相连接；因本装置可以边排气边清洗，不必再象原有技术那样等待30次以上的N
文档编号B08B15/00GK1603018SQ03151419
公开日2005年4月6日 申请日期2003年9月29日 优先权日2003年9月29日
发明者郑富源, 孙虎 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司