专利名称：石英晶体频率片清洗方法
技术领域：
本发明属于清洗方法，特别是指一种石英晶体频率片清洗方法。
背景技术：
石英晶体振荡器、谐振器广泛应用于各种数字类电子产品中，市场需求巨大。该类产品生产所用石英晶体频率片的清洗对产品技术指标存在重大影响，目前一般采用如下四种清洗方法 1、人工超声清洗按照清洗流程，人工进行，并在清洗过程中手工摇动清洗网篮，
避免石英频率片聚集。该方法效率低、人工劳动强度大，清洗效果难以达到统一。 2、半自动超声清洗按照清洗流程，设置连续的超声清洗槽，当达到工艺规定的清
洗时间后，人工将石英晶体频率片转移到下一清洗槽。该方法人工劳动强调得到改善，但是
在清洗过程中产生晶片聚集现象，不能使所有晶片的表面得到充分清洗。 3、全自动超声清洗设备一般是使用厂家自行开发或合作开发，不需要中途干预。
该方法在清洗过程中为增强效果，采用强水流冲刷晶片，生产中需要消耗大量水源。
4、无机酸清洗采用盐酸和双氧水按一定比例配置成溶液，在加热条件下进行。该
方法在实际生产中会产生剌激性气体，且在加热条件下溶液容易沸腾，危害到操作员工，需
要特殊的劳动保护措施。 因此在提高产品质量、保护员工安全、环境保护、节约资源等方面的综合考虑下，亟需一种有效的清洗工艺方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种环保、节能的石英晶体频率片清洗方法。
本发明的整体技术构思是 石英晶体频率片清洗方法，采用超声波清洗设备对石英晶体频率片进行超声清洗，在超声波清洗网篮或清洗槽的下方设置压縮气体管道，压縮气体通过管道上的开孔、超声波清洗网篮或清洗槽的下方孔隙间隔进入超声波清洗网篮或清洗槽。
本发明的具体技术构思是 压縮气体的气源选用非纯氧气体。其中较为优选的是采用空气、氮气、惰性气体、二氧化碳中的一种。 压縮气体的通入间隔为0. 5-5秒，通入时间为0. 5-5秒。 为保证压縮空气的均匀释放，且压縮空气管道易于制作，压縮气体管道为平行间隔分布的连续排管或连续列管结构。优选的结构方式是压縮气体管道采用"S"型盘管。
其中更为优选的结构是，压縮气体管道上的开孔孔径为0. l-lmm，相邻的开孔之间间距为20-60mm。 为保证压縮空气管道易于安装，压縮气体管道置于底座的上表面。
所述的超声清洗包括如下工艺步骤
3
A、采用201酸性清洗溶液超声清洗1-10分钟，超声频率28K ;
B、采用纯水加喷淋超声清洗1-10分钟，超声频率40K ;
C、采用301碱性清洗溶液超声清洗1-10分钟，超声频率28K ;
D、采用纯水加喷淋超声清洗1-10分钟，超声频率40K ;
E、采用纯水超声清洗三次，每次1-10分钟，超声频率150K ; 所述的201酸性清洗溶液采用天津市华翔电子材料有限公司生产的SH-201清洗剂，按SH-201清洗剂与纯水的体积比为1 : 80配制；301碱性清洗溶液采用天津市华翔电子材料有限公司生产的SH-301清洗剂，按SH-201清洗剂与纯水的体积比为1 : 160配制。
本发明所取得的实质性特点和显著的技术进步在于 1、本发明由于采用间隔通入的压縮气体作为频率片分离的主要手段，技术构思巧妙，手段易于实现，可广泛应用于人工、半自动、全自动超声清洗方法，应用于全自动超声清洗工艺时，将大量节省水资源；应用于半自动超声清洗工艺时，将有效提高清洗效果；应用于人工超声清洗工艺时，将降低员工劳动强度，提高工艺稳定性； 2、由于采用压縮空气作为主要技术解决手段，生产过程中无三废污染，节能环保。
图1是本发明的压縮气体管道的结构示意图。
图2是图1的仰视图。 图3是利用本方法所制备的产品的DLD扫描曲线图。
具体实施例方式
以下结合附图对本发明的实施例作进一步描述，但不作为对本发明的限定，本发明的保护范围以权利要求记载的内容为准。 本实施例的整体结构如图示，其中该石英晶体频率片清洗方法，采用超声波清洗
设备对石英晶体频率片进行超声清洗，在超声波清洗网篮或清洗槽的下方设置压縮气体管
道2，压縮气体通过管道2上的开孔3、超声波清洗网篮或清洗槽的下方孔隙间隔进入超声
波清洗网篮或清洗槽。 压縮气体的气源选用氮气。 压縮气体的通入间隔为0. 5秒，通入时间为0. 5秒。
压縮气体管道2采用"S"型盘管。压縮气体管道2上的开孔3孔径为0. l-lmm，相邻的开孔之间间距为20-60mm。
压縮气体管道置于底座1的上表面。
所述的超声清洗包括如下工艺步骤 A、采用201酸性清洗溶液超声清洗1-10分钟，超声频率28K ;
B、采用纯水加喷淋超声清洗1-10分钟，超声频率40K ;
C、采用301碱性清洗溶液超声清洗1-10分钟，超声频率28K ;
D、采用纯水加喷淋超声清洗1-10分钟，超声频率40K ;
E、采用纯水超声清洗三次，每次1-10分钟，超声频率150K ; 所述的201酸性清洗溶液采用天津市华翔电子材料有限公司生产的SH-201清洗剂，按SH-201清洗剂与纯水的体积比为1 : 80配制；301碱性清洗溶液采用天津市华翔电 子材料有限公司生产的SH-301清洗剂，按SH-201清洗剂与纯水的体积比为1 : 160配制。
权利要求
石英晶体频率片清洗方法，采用超声波清洗设备对石英晶体频率片进行超声清洗，其特征在于在超声波清洗网篮或清洗槽的下方设置压缩气体管道(2)，压缩气体通过管道(2)上的开孔(3)、超声波清洗网篮或清洗槽的下方孔隙间隔进入超声波清洗网篮或清洗槽。
2. 根据权利要求1所述的石英晶体频率片清洗方法，其特征在于所述的压縮气体的气 源选用非纯氧气体。
3. 根据权利要求1所述的石英晶体频率片清洗方法，其特征在于所述的压縮气体的气 源选用空气、氮气、惰性气体、二氧化碳中的 一种。
4. 根据权利要求1-3中任一项所述的石英晶体频率片清洗方法，其特征在于所述的压 縮气体的通入间隔为0. 5-5秒，通入时间为0. 5-5秒。
5. 根据权利要求1所述的石英晶体频率片清洗方法，其特征在于所述的压縮气体管道 (2)为平行间隔分布的连续排管或连续列管结构。
6. 根据权利要求1所述的石英晶体频率片清洗方法，其特征在于所述的压縮气体管道 (2)采用"S"型盘管。
7. 根据权利要求1所述的石英晶体频率片清洗方法，其特征在于所述的压縮气体管道 (2)上的开孔(3)孔径为0. l-lmm，相邻的开孔之间间距为20-60mm。
8. 根据权利要求1、5、6、7所述的石英晶体频率片清洗方法，其特征在于所述的压縮气 体管道置于底座(1)的上表面。
9. 根据权利要求1所述的石英晶体频率片清洗方法，其特征在于所述的超声清洗包括 如下工艺步骤A、 采用201酸性清洗溶液超声清洗1-10分钟，超声频率28K ;B、 采用纯水加喷淋超声清洗1-10分钟，超声频率40K ;C、 采用301碱性清洗溶液超声清洗1-10分钟，超声频率28K ;D、 采用纯水加喷淋超声清洗1-10分钟，超声频率40K ;E、 采用纯水超声清洗三次，每次1-10分钟，超声频率150K ;
10. 根据权利要求1所述的石英晶体频率片清洗方法，其特征在于所述的201酸性清洗 溶液采用天津市华翔电子材料有限公司生产的SH-201清洗剂，按SH-201清洗剂与纯水的 体积比为l : 80配制；301碱性清洗溶液采用天津市华翔电子材料有限公司生产的SH-301 清洗剂，按SH-201清洗剂与纯水的体积比为1 : 160配制。
全文摘要
本发明属于清洗方法，特别是指一种石英晶体频率片清洗方法。采用超声波清洗设备对石英晶体频率片进行超声清洗，在超声波清洗网篮或清洗槽的下方设置压缩气体管道，压缩气体通过管道上的开孔、超声波清洗网篮或清洗槽的下方孔隙间隔进入超声波清洗网篮或清洗槽。本发明解决了现有技术存在的操作环境差、清洗效果差等问题，具有应用范围广泛，清洗效果好、操作环境无污染等优点。
文档编号B08B3/12GK101708497SQ200910227990
公开日2010年5月19日 申请日期2009年12月11日 优先权日2009年12月11日
发明者吴敬军, 张建军, 沈纪平, 符清铭, 董新友, 赵栋梁, 赵维疆, 黄卫龙 申请人:廊坊中电大成电子有限公司