专利名称：一种同步升降机构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种应用于干式清洗工艺技术的同步升降机构。
背景技术：
在液晶显示IXD行业、薄膜光伏太阳能行业、等离子显示PDP行业中均广泛应用干 式清洗技术来清洗大尺寸镀膜玻璃工艺表面存在的固体微颗粒物质。干式清洗技术工作原 理是将气体压缩和膨胀或压缩及膨胀工序反复进行，使得空气发生碰撞并产生超声波的工 艺气体来分离工艺表面固体微颗粒物质，为了达到理想工艺效果需要在清洗头和工件工艺 表面形成均勻的工艺狭缝。而为了达到理想均勻工艺狭缝需要同步升降清洗头两端的支撑 机构。现有技术中，工件清洗工艺狭缝初始调整时需要使用样件，由于不同被清洗的工 件厚度不同，每次工件厚度切换都要使用样件重新校对，清洗工艺狭缝参数必须修正，修正 操作过程中必须使生产线停机，同时必须使用样件或标准量块或专用特富龙样条来重新校 准工艺狭缝，操作过程中样件需要三人至四人操作来从设备中搬入搬出，停机过程造成产 能、搬送周期等各方面的损失；另外由于工件尺寸的原因及工件表面覆有极薄镀膜层，人及 操作工具在接触工件表面后，容易带来不可修复的损伤和给工件带来额外的污染，人手汗 渍产生的手印很难清除，操作工具本身带来的污染产品清洗设备也很难清除。这样的操作 程序使得整个操作过程劳动强度高、工艺切换和工艺调整占用的生产线时间长、并且对在 线工件带来了损伤，同时存在人为污染、整体的工艺成本过高等一系列的问题。随着目前大尺寸干式清洗工艺已经进入2800mm宽度玻璃清洗技术时代，工艺切 换采用样件方式就变得更加困难，所以同步可视读数调整工艺狭缝技术已成为代替原有技 术方案的新趋势。
实用新型内容本实用新型为了解决现有技术中为获得理想均勻工艺狭缝所存在的问题，提供一 种同步升降机构，包括分别设置在机构两端的升降装置及与所述升降装置连接的干式清洗 头，在所述同步升降机构上设有一套或两套同步可调驱动机构，所述同步可调驱动机构包 括两个旋转手轮、长半轴、短半轴、联轴器及第一驱动齿轮；所述两个旋转手轮分别设置于同步可调驱动机构的两侧；所述长半轴及短半轴分别连接同步可调驱动机构两侧的旋转手轮；所述联轴器位于所述长半轴及短半轴的结合处，连接所述长半轴及短半轴；所述第一驱动齿轮分别嵌套在所述长半轴及短半轴上，并分别位于所述长半轴与 所述升降装置结合的位置及短半轴与升降装置结合的位置。所述旋转手轮上设有指示表。所述同步升降机构两端各自包括底座支撑部分，在所述两端底座支撑部分上均接 有固定支架部分，在所述两端固定支架部分上均接有升降支架部分，连接固定所述干式清洗头；所述底座支撑部分由底座板、固定在设备机架上的立板、支撑筋板组成；所述固定支架部分由零件座板、连接板、升降支撑固定板、顶板组成；所述升降支架部分由升降支架左立板、升降支架右立板、升降支架升降座板组成。所述两端固定支架部分中底座板上设有水平调整螺母。所述两端升降支架部分上均设有丝母、丝杠、第二驱动齿轮；所述两端升降支架部分均依靠紧固螺钉固定在各自的固定支架部分上；所述两端升降支架部分中，在所述第二驱动齿轮与丝杠之间均设有轴承压盖、轴 承。所述干式清洗机构设有一套底座支撑部分，上接有由螺钉固定在支撑机构上的两 套同步可调驱动机构，所述同步可调驱动机构位于底座支撑部分的上下端、相向设置，两套 同步升降机构在其所形成的内侧各自设有一个干式清洗头，所设置的清洗头各自与被清洗 部件之间形成单侧工艺狭缝。本实用新型的优点和有益效果在于，所述同步升降机构可实现任意高度升降，而 同步可调驱动机构、升降支架部分、固定部分支架锁紧后，可实现在同步可调驱动机构两端 任意一端操作旋转手轮即可同时升降两端的升降装置，并且能够独立校准两端升降装置形 成均勻工艺狭缝，而位于旋转手轮上的指示表可直观显示升降精确高度。由于只需要在同 步升降机构一端的旋转手轮上进行操作，整个生产线并不需要停止，也不需要依靠插入工 件样本来校准均勻工艺狭缝，可直接对工件进行处理，克服了停机操作、多人操作、工艺切 换及工艺调整带来的耗时操作、接触工件后的人为污染等一系列现有技术中存在的问题， 达到省力、在线、快速、非接触工件的调整工艺狭缝参数的效果，从而在整体上降低了工艺 成本。并且本实用新型可使用不同尺寸的清洗头，可应用于大尺寸工件的清洗，同时还可以 通过使用上下双干式清洗头的工作方式进一步提高工作效率。
图1是本实用新型同步升降机构中底座支撑部分的主视图。图2是本实用新型同步升降机构中升降装置的侧视图。图3是本实用新型同步升降机构中同步可调驱动机构的主视图。图4是本实用新型同步升降机构中同步可调驱动机构的俯视图。图5是本实用新型同步升降机构中同步可调驱动机构的侧视图。图6是本实用新型同步升降机构中独立校准升降装置形成均勻工艺狭缝的细部 视图。图7是本实用新型应用双干式清洗头同步升降机构中升降装置的主视图。图8是本实用新型应用双干式清洗头同步升降机构中同步可调驱动机构的细节 侧视图。图9是本实用新型应用双干式清洗头同步升降机构中升降装置的俯视图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、内容、和优点更加清楚，
以下结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式
作进一步详细描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型 的技术方案，而不能以此来限制本新用新型的保护范围。 实施例1本实施例具体描述本实用新型技术方案中同步升降机构的结构特征。首先描述关于本实用新型中升降装置的结构特征如图1所示，同步升降机构两端各自设有底座支撑部分，该底座支撑部分由底座 板1、立板2以及用于支撑底座1的强化支撑筋板3组成。如图2，在前述底座支撑部分上设有由零件座板4、连接板5、升降支撑固定板6、 顶板7组成的龙门式固定支架部分，用于将同步升降机构固定在底座支撑部分上；升降装 置两端固定支架部分均采用调节螺钉及锁紧固底座板上的紧固螺母17来调节升降装置水平。在前述两端固定支架部分上均通过锁紧螺母来固定由升降支架左立板8、升降支 架右立板9及升降支架升降座板10组成的升降支架部分；其中升降支架左立板8及升降支 架右立板9用于连接固定干式清洗头16。如图3所示，前述升降支架部分上均设有驱动齿轮14用于旋转驱动丝杠12，从而 进一步驱动丝母11来驱动升降支架左立板8、升降支架右立板9、升降支架升降座板10组 成的升降支架部分升降；利用驱动丝杠12和丝母11的自锁特性可实现升降装置在任意高 度精确升降及定位；前述图2中的龙门式固定支架部分中顶板7上装有轴承压盖13压装双深沟球轴 承15，用于支撑驱动丝杠12 ；并由双深沟球轴承15使用轴用挡圈来将驱动丝杠12固定在 轴承内环，用于保证丝杠12操作力轻柔。整个升降装置通过升降干式清洗头16来调整干式清洗头16与被洗工件25之间 的工艺狭缝A。接下来描述本实用新型的同步可调驱动机构的结构技术特征如图3及图4所示，所述同步可调驱动机构由旋转手轮18、长半轴19、驱动齿轮 20、联轴器21、短半轴22、旋转手轮23组成，同步可调驱动工作过程中，旋转手轮18驱动长 半轴19，通过用于固定长半轴19和短半轴22的联轴器21带动旋转手轮23同步旋转，同时 长半轴19和短半轴22驱动旋转手轮18所在侧的驱动齿轮20，使得该侧驱动齿轮20驱动 位于其侧面的驱动齿轮14旋转，进而驱动丝杠12旋转，通过丝母11驱动升降支架左立板 8、升降支架右立板9、升降支架升降座板10组成的升降支架带动干式清洗头16升降；旋转 旋转手轮18或者旋转手轮23，即可独自调整干式清洗头16与被洗工件25之间的工艺狭缝 A0驱动齿轮20和驱动齿轮14是一对锥形传动驱动齿轮，驱动齿轮20通过顺时针或 逆时针两个方向旋转即可以驱动驱动齿轮14旋转。如图5所示，位于旋转手轮18或者旋转手轮23上的指示表可直观显示升降精确高度。干式清洗头16升降调整完成后，用紧固螺母17锁紧升降支架和龙门式的固定支架通过实现在同步可调驱动机构两端任意一端操作旋转手轮即可同时升降两端的升降机构，从而大大提高了工艺效率，加之旋转手轮上的指示表可直观显示升降精确高度， 更进一步的提高了工艺精确度。最后描述描述本实用新型的同步可调驱动机构独立校准两端升降装置以形成均 勻工艺狭缝的工艺特征在设备初始精度调整时以及设备长时间工作后，都需要定期进行工艺狭缝A的校 验，本实用新型提出通过独立调整升降清洗头两端任一升降机构来修正清洗头与被清洗工 件之间的工艺狭缝A的技术方案。如图3、图4及图6所示，长半轴19与联轴器21以固定角度固定，同时短半轴22 与联轴器21以任意角度固定，松开联轴器21上固定短半轴22的紧定螺钉24，将旋转手轮 18、长半轴19和驱动齿轮20分离出来并组成同步升降机构一侧的升降驱动机构，同时将旋 转手轮23、短半轴22和驱动齿轮20分离出来并组成同步升降机构另一侧的升降驱动机构。独立旋转旋转手轮18或旋转手轮23，可通过驱动齿轮20驱动旋转手轮所在侧同 步升降机构的驱动齿轮14和驱动丝杠12旋转，推动升降固定在丝母11上的由升降支架左 立板8、升降支架右立板9、升降支架升降座板10组成的升降支架部分，从而分别带动各自 所在端的干式清洗头16升降，实现独立标准单侧工艺狭缝A。接下来锁紧联轴器21上固定短半轴22的紧定螺钉24，旋转旋转手轮18驱动长半 轴19，通过联轴器21固定长半轴19和短半轴22，长半轴19带动短半轴22同步旋转，进而 短半轴22带动旋转手轮23同步旋转，带动同步升降机构两侧由升降支架左立板8、升降支 架右立板9、升降支架升降座板10组成的用于支撑干式清洗头16的升降支架部分同步升 降。反之，旋转旋转手轮23，旋转手轮18亦同步旋转，带动同步升降机构两侧由升降支架左 立板8、升降支架右立板9、升降支架升降座板10组成的用于支撑干式清洗头16的升降支 架部分同步升降。通过独立校准两端升降装置以形成均勻工艺狭缝，提高了工作效率，避免了人为 污染和工件损伤，从整体上降低了工艺成本。实施例2本实施例是本实用新型应用上下双干式清洗头的结构，如图7所示，本上下双干 式清洗头机构设有一套底座支撑部分，上接有由螺钉固定在支撑机构上的两套同步升降机 构，所述同步升降机构位于底座支撑部分的上下端、相向设置，两套同步升降机构在其所形 成的内侧各自设有一个干式清洗头，同所设置的清洗头各自与被清洗部件之间形成单侧工 艺狭缝A。下面具体描述本上下双干式清洗头机构的细节特征如图7所示，本上下双干式清洗头机构两端各自设有由零件固定在设备机架上的 立板2和加强支撑筋板3支撑底座板1组成的底座支撑部分。如图8所示，本上下双干式清洗头机构两端各自设有由零件座板4、连接板5、升降 支撑固定板6、顶板7组成的龙门式固定支架部分，用于将同步升降机构固定在底座支撑部 分上；同步升降机构两端固定支架部分均采用调节螺钉及锁紧底座板上的紧固螺母17来 调节升降装置水平。在前述两侧固定支架部分上分别设有两套由升降支架左立板8、升降支架右立板 9及升降支架升降座板10组成的升降支架部分，每一侧的两套升降支架部分分别通过锁紧螺母来固定在固定支架部分的上下两端；其中升降支架左立板8及升降支架右立板9用于连接固定干式清洗头16。如图7所示，在位于单侧固定支架部分上端的升降支架部分上，驱动齿轮14用于 旋转驱动位于其下端的丝杠12，而在位于单侧固定支架部分下端的升降支架部分上，驱动 齿轮14用于旋转驱动位于其上端的丝杠12，丝杠12从而进一步驱动丝母11来驱动升降座 板10所在的升降支架部分升降；利用驱动丝杠12和丝母11的自锁特性可实现清洗机构在 任意高度精确升降及定位；前述图8中龙门式固定支架部分中顶板7上装有轴承压盖13压装双深沟球轴承 15，用于支撑驱动丝杠12 ；并由双深沟球轴承15使用轴用挡圈来将驱动丝杠12固定在轴 承内环，用于保证丝杠12操作力轻柔。该清洗机构通过升降干式清洗头16来调整干式清洗头16与被洗工件25之间的 工艺狭缝A。本清洗机构上下两端还各自设有一套同步可调驱动机构，用于实现在同步可调驱 动机构两端任意一端操作旋转手轮即可同时升降两端的升降装置，并且能够独立校准两端 升降装置形成均勻工艺狭缝。如图7和图9所示，所述同步可调驱动机构由旋转手轮18、长半轴19、驱动齿轮 20、联轴器21、短半轴22、旋转手轮23组成，同步可调驱动工作过程中，旋转手轮18驱动长 半轴19，通过用于固定长半轴19和短半轴22的联轴器21带动旋转手轮23同步旋转，同时 长半轴19和短半轴22驱动旋转手轮18所在侧的驱动齿轮20，使得该侧驱动齿轮20驱动 位于其侧面的驱动齿轮14旋转，进而驱动丝杠12旋转，通过丝母11驱动升降支架左立板 8、升降支架右立板9、升降支架升降座板10组成的升降支架带动干式清洗头16升降；旋转 旋转手轮18或者旋转手轮23，即可独自调整干式清洗头16与被洗工件25之间的工艺狭缝 A0驱动齿轮20和驱动齿轮14是一对锥形传动驱动齿轮，驱动齿轮20通过顺时针或 逆时针两个方向旋转即可以驱动驱动齿轮14旋转。如图8所示，位于旋转手轮18或者旋转手轮23上的指示表可直观显示升降精确尚度。干式清洗头16升降调整完成后，用紧固螺母17锁紧升降支架和龙门式的固定支架。下面继续介绍同步可调驱动机构独立校准两端升降装置形成均勻工艺狭缝的工 作流程如图6、图7及图9所示，长半轴19与联轴器21以固定角度固定，同时短半轴22 与联轴器21以任意角度固定，松开联轴器21上固定短半轴22的紧定螺钉24，将旋转手轮 18、长半轴19和驱动齿轮20分离出来并组成升降装置一侧的升降驱动机构，同时将旋转手 轮23、短半轴22和驱动齿轮20分离出来并组成升降装置另一侧的升降驱动机构。独立旋转旋转手轮18或旋转手轮23，可通过驱动齿轮20驱动旋转手轮所在侧升 降装置的驱动齿轮14和驱动丝杠12旋转，推动升降固定在丝母11上的由升降支架左立板 8、升降支架右立板9、升降支架升降座板10组成的升降支架部分，从而分别带动各自所在 端的干式清洗头16升降，实现独立标准单侧工艺狭缝A。[0069]接下来锁紧联轴器21上固定短半轴22的紧定螺钉24，旋转旋转手轮18驱动长半 轴19，通过联轴器21固定长半轴19和短半轴22，长半轴19带动短半轴22同步旋转，进而 短半轴22带动旋转手轮23同步旋转，带动同步升降机构两侧由升降支架左立板8、升降支 架右立板9、升降支架升降座板10组成的用于支撑干式清洗头16的升降支架部分同步升 降。反之，旋转旋转手轮23，旋转手轮18亦同步旋转，带动同步升降机构两侧由升降支架左 立板8、升降支架右立板9、升降支架升降座板10组成的用于支撑干式清洗头16的升降支 架部分同步升降。本上下双干式清洗头清洗机构方案的提出，在原同步驱动升降机构的技术方案基 础上，进一步大大提高了清洗工作的工作效率。另外，上述两个实施例中的技术方案均适用于不同长度尺寸的干式清洗头的结 构，通过长半轴19和短半轴22长度增减尺寸方式可控制本实用新型技术方案中同步升降 机构两端升降装置之间的距离，以达到适用不同尺寸干式清洗头的目的。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技 术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和变形，这些改 进和变形也应视为本实用新型的保护范围。
权利要求一种同步升降机构，包括分别设置在机构两端的升降装置及与所述升降装置连接的干式清洗头，其特征在于，在所述同步升降机构上设有一套或两套同步可调驱动机构，所述同步可调驱动机构包括两个旋转手轮、长半轴、短半轴、联轴器及第一驱动齿轮；所述两个旋转手轮分别设置于同步可调驱动机构的两侧；所述长半轴及短半轴分别连接同步可调驱动机构两侧的旋转手轮；所述联轴器位于所述长半轴及短半轴的结合处，连接所述长半轴及短半轴；所述第一驱动齿轮分别嵌套在所述长半轴及短半轴上，并分别位于所述长半轴与所述升降装置结合的位置及短半轴与升降装置结合的位置。
2.如权利要求1所述的同步升降机构，其特征在于，所述旋转手轮上设有指示表。
3.如权利要求1所述的同步升降机构，其特征在于，所述同步升降机构两端各自包括 底座支撑部分，在所述两端底座支撑部分上均接有固定支架部分，在所述两端固定支架部 分上均接有升降支架部分，连接固定所述干式清洗头；所述底座支撑部分由底座板、固定在设备机架上的立板、支撑筋板组成；所述固定支架部分由零件座板、连接板、升降支撑固定板、顶板组成；所述升降支架部分由升降支架左立板、升降支架右立板、升降支架升降座板组成。
4.如权利要求3所述的同步升降机构，其特征在于，所述两端固定支架部分中底座板 上设有水平调整螺母。
5.如权利要求3所述的同步升降机构，其特征在于，所述两端升降支架部分上均设有 丝母、丝杠、第二驱动齿轮；所述两端升降支架部分均依靠紧固螺钉固定在各自的固定支架部分上；所述两端升降支架部分中，在所述第二驱动齿轮与丝杠之间均设有轴承压盖、轴承。
6.如权利要求1所述的同步升降机构，其特征在于，所述干式清洗机构设有一套底座 支撑部分，上接有由螺钉固定在支撑机构上的两套同步可调驱动机构，所述同步可调驱动 机构位于底座支撑部分的上下端、相向设置，两套同步升降机构在其所形成的内侧各自设 有一个干式清洗头，所设置的清洗头各自与被清洗部件之间形成单侧工艺狭缝。
专利摘要本实用新型涉及一种应用于干式清洗技术的同步升降机构，包括设置在机构两端的升降装置及与升降装置连接的干式清洗头，本机构另设有一套或两套同步可调驱动机构，包括设置于两侧用于同时升降升降装置的两个旋转手轮、设置于两端旋转手轮中间并分别连接两侧旋转手轮的长半轴及短半轴、连接长半轴及短半轴的联轴器、用于驱动升降装置升降的驱动齿轮。本实用新型的优点在于，通过旋转同步升降机构两端任意一侧的旋转手轮就可使升降装置同步精确升降，并且能够独立校准两端升降装置形成均匀工艺狭缝，达到工艺狭缝任意可调的工艺目的，从而避免人为污染，降低工艺成本。
文档编号B08B11/00GK201558840SQ200920172959
公开日2010年8月25日 申请日期2009年8月18日 优先权日2009年8月18日
发明者刘超, 葛成重 申请人:北京京城清达电子设备有限公司