技术编号：1504971
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种应用于干式清洗工艺技术的同步升降机构。 背景技术在液晶显示IXD行业、薄膜光伏太阳能行业、等离子显示PDP行业中均广泛应用干 式清洗技术来清洗大尺寸镀膜玻璃工艺表面存在的固体微颗粒物质。干式清洗技术工作原 理是将气体压缩和膨胀或压缩及膨胀工序反复进行，使得空气发生碰撞并产生超声波的工 艺气体来分离工艺表面固体微颗粒物质，为了达到理想工艺效果需要在清洗头和工件工艺 表面形成均勻的工艺狭缝。而为了达到理想均勻工艺狭缝需要同步升降清洗头两端的支...
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