专利名称：阵列式双层底面不沾锅的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种烹饪食物的不沾锅，尤其是涉及一种煎炒食物的不沾锅，属于烹饪器具领域。
背景技术：
随着社会科学技术的发展，烹饪食物的不沾锅应用越来越广泛。现在市场上有各种各样的不沾锅，例如煎炒食物的不沾锅，目前煎炒食物的不沾锅的底面都是盆形平面结构，在锅的煎炒面镀有一层抗沾黏材质，成为不沾锅。这种煎炒不沾锅的优点是煎炒时食物不易沾附着锅面，不易煎糊；其缺点和不足是煎炒的锅底面是平面单层结构，煎炒食物时如果食油放少了，只依靠锅的热量煎炒食物，会造成食物受热不均勻，贴近锅底面的部分受热多，另一面则受热少，要将食物不停翻动；如果食油放多了，则成为油炸食物，而不是煎炒食物，因此，存在缺点和不足。
发明内容本实用新型的目的是提供一种新型结构的双层底面不沾锅，解决一般单层平面不沾锅存在煎炒食物时食油放少了会造成食物受热不均勻。食油放多了又成为油炸食物的缺点的技术问题。本实用新型的技术方案是包含锅体和锅柄二部分，锅体由任何种类的耐热金属或合金制成，锅体的内表面镀有一层抗食物沾粘物质。锅体的底面冲压成阵列式凹坑，阵列式凹坑在锅底构成凹层，锅底面构成凸层，使不沾锅成为双层底面不沾锅。阵列式凹坑的形状是圆形；或者是椭圆形；或者是六角形；或者是多边几何图形， 均勻分布在锅底面。阵列式凹坑有聚集和缓慢散发油脂、水分的功能，增加不沾锅抗沾粘食物的效果。 同时，使锅底表面积增大，受热面积增大，可以节省烹调时间，节约能源，降低成本和提高烹调食物的效率，使本实用新型具有明显的优点。
图1是本实用新型的主视剖视示意图；图2是图1的俯视图；图中1、锅体2、凸层3、阵列式凹坑 4、锅柄
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型作详细说明。本实用新型包含锅体和锅柄二部分，锅体由任何种类的耐热金属或合金制成，锅体的内表面镀有一层抗食物沾粘物质。锅体1的底面冲压有阵列式凹坑3，阵列式凹坑3在锅底构成凹层，锅底面构成凸层2，使不沾锅成为双层底面不沾锅。阵列式凹坑3的形状是圆形；或者是椭圆形；或者是六角形；或者是多边几何图形，均勻分布在锅底面。锅柄4用螺丝钉固定连接在锅体1的一侧。
权利要求1.阵列式双层底面不沾锅，包含锅体和锅柄二部分，其特征是锅体(1)的底面冲压成阵列式凹坑(3)，阵列式凹坑(3)在锅底构成凹层，锅底面构成凸层(2)成为双层底面。
2.根据权利要求1所述的阵列式双层底面不沾锅，其特征是阵列式凹坑(3)的形状是圆形；或者是椭圆形；或者是六角形；或者是多边几何图形，均勻分布在锅底面。
专利摘要阵列式双层底面不沾锅，包含锅体和锅柄二部分。锅体的底面冲压有阵列式凹坑在锅底构成凹层，锅底面构成凸层成为双层底面不沾锅。具有增加不沾锅抗沾粘食物的效果和锅底受热面积增大，节省烹调时间，节约能源，降低成本和提高烹调食物的效率的明显优点。
文档编号A47J27/022GK201977538SQ20102069418
公开日2011年9月21日 申请日期2010年12月31日 优先权日2010年12月31日
发明者陈渝森 申请人:陈渝森