专利名称：清洗设备，辐射源模块和流体处理系统的制作方法
技术领域：
在它的一个方面中，本发明涉及流体处理系统。在它的另一个方面中，本发明涉及清洗设备。在它的又一个方面中，本发明涉及包含清洗设备的辐射源模块。在它的另一个方面中，本发明涉及从辐射源组件的外表面去除污垢物质的方法。一旦查阅当前的说明书， 本发明的其它方面对那些本领域的技术人员来说就变得显而易见了。
背景技术：
在本领域中，流体处理系统通常是已知的。例如，美国专利4，482，809,4, 872，980和5，006, M4[全部是以玛尔莎克尔维尔德 (Maarschalkerweerd)的名义，并且以下称为玛尔莎克尔维尔德# 1专利]全部描述了采用紫外线(UV)辐射的重力供给流体处理系统。这样的系统包含包括多个UV灯的一排UV灯框架，每个UV灯被安装在套筒之内， 套筒在被附接到横梁的一对支柱之间延伸并且由该对支柱支撑。如此支撑的套筒(包含UV 灯)被浸入到要被处理的流体中，要被处理的流体然后根据需要被照射。暴露于流体的辐射量由流体到灯的接近度、灯的输出瓦数和流过灯的流体的流量来决定。典型地，可以采用一个以上的UV传感器来监控灯的UV输出，并且利用水位闸门(level gate)等等典型地在某种程度上将液面控制到处理装置的下游。根据正被处理的流体的特性，包围UV灯的套筒定期变脏，具有杂质，抑制了它们将UV辐射发送给流体的能力。对于给定的安装，可以从历史的操作数据或通过来自UV传感器的测量来判定这种污垢的出现。一旦污垢已经达到某点，套筒必须被清洗，以去除污垢物质并且优化系统性能。如果在开放的通道系统中采用UV灯模块(例如，诸如玛尔莎克尔维尔德#1专利中描述和说明的一个)，则一个以上的模块可以在系统继续操作的同时被去除，而且去除的框架可以被浸入适当的清洗液(例如，弱酸)的液槽中，以去除污垢物质，该清洗液(例如，弱酸)可以被空气搅伴。这个实践被本领域中的许多人认为是低效、费劲以及不方便的。在很多情况下，一旦被安装，与现有技术的流体处理系统相关的大量的维护费用中的一种费用常常是清洗辐射源周围的套筒的费用。美国专利5，418，370,5, 539，210和RE36，896 [所有专利均是以玛尔莎克尔维尔德的名义并且以下称为玛尔莎克尔维尔德#2专利]都描述了改进的清洗系统，尤其有利于在采用UV辐射的重力供给流体处理系统中使用。通常，清洗系统包括与辐射源组件的外部的一部分接合的清洗托架，该辐射源组件包含辐射源(例如，UV灯)。该清洗托架在(i )缩回位置和(ii)延伸位置之间可移动，在缩回位置中，辐射源组件的第一部分暴露于要被处理的流体流，在延伸位置中，辐射源组件的第一部分被清洗托架完全地或局部地覆盖。清洗托架包括与辐射源组件的第一部分接触的室。该室被供应有适合于从辐射源组件的第一部分去除不希望的物质的清洗液。尤其当在玛尔莎克尔维尔德#2专利中说明的辐射源组件和流体处理系统中被实施时，在玛尔莎克尔维尔德#2专利中描述的清洗系统代表了本领域中的显著的进步。近年来，已经对所谓的“横穿流动”的流体处理系统有兴趣。在这些系统中，辐射源以辐射源的纵轴相对于流过辐射源的流体的方向处于横穿(例如，辐射源的正交垂直方向)关系的方式被设置在要被处理的流体中。例如，参见以下任何一个国际公报号W02004/000735[特劳本贝格(Traubenberg)等人]；国际公报号 W02008/055;344 [马(Ma)等人]；国际公报号W02008/019490[特劳本贝格(Traubenberg)等人]；美国专利7，408，174[弗拉姆(From)等人]；2008年12月16日提交的美国临时专利申请S. N. 61/193，686 [彭黑尔(Penhale) 等人]。当这些流体处理系统已经被实施时，有在辐射源的外表面上聚集污垢物质的问题。在这种污垢物质还没有在UV消毒系统的上游被去除的城市废水的处理中，这尤其是一个问题。污垢物质常常表现为细长的碎屑(例如，毛发、避孕套、线、藻类及其他线状物质)的形式，细长的碎屑粘附在辐射源的外表面上并且保留在那里。无法充分地去除这种污垢物质导致许多问题，包含一个以上的以下问题·减少传送到流体流的辐射剂量；·促进更多污垢物质的聚集；·增加经过流体处理区域的流动流体的水头损失；·增加辐射源组件上的压力/应力；以及·对装备的潜在损害。就本发明人的了解，上述流体处理系统没有教导一种清洗系统，该清洗系统能够在系统的操作期间从流体处理系统中的辐射源的外表面和/或其它浸没的表面，充分地以及可靠地去除这种污垢物质(例如，如上讨论的细长形碎屑)(即，不需要停止系统的操作来去除污垢物质)。因此，将理想的是，具有能够在系统的操作期间去除这种污垢物质的流体处理系统。
发明内容
本发明的目的是消除或减轻上述现有技术的缺点中的至少一个。本发明的另一个目的是提供一种用于流体处理系统中的辐射源组件的新颖的清洗设备。本发明的另一个目的是提供一种新颖的流体处理系统。因此，在它的一个方面中，本发明提供用于流体处理系统中的辐射源组件的清洗设备，该清洗设备包括至少一个切削构件；以及
运动构件，被配置为引起与所述表面接触的细长的碎屑和所述至少一个切削构件之间的相对移动，以使得所述至少一个切削构件切削所述细长的碎屑。本发明还涉及辐射源模块和结合有这个清洗设备的流体处理系统。在它的又一个方面中，本发明涉及从如紧接着前一段落所述的流体处理系统中的至少一个辐射源组件的外表面去除细长的碎屑的方法，该方法包含步骤(i)将所述擦拭构件从所述第一位置朝向所述第二位置转移；以及(ii)使得所述至少一个切削构件切削所述细长的碎屑。在第一实施例中，步骤(i)和(ii)被同时进行。在第二实施例中，步骤(i)和(ii) 被顺序地进行。较佳地，该方法包括进一步的步骤(iii)将擦拭构件从第二位置转移到第一位置。如此，当前的发明人已经发现用于在流体处理系统中使用的新颖的清洗设备，该新颖的清洗设备用于从流体处理系统的表面去除细长的碎屑。“流体处理系统的表面”可以是细长的碎屑可能存在于其上的任何表面或附近。如此，“表面”可以被包含在诸如传感器、 支撑构件、驱动构件、辐射源组件等等的流体处理系统的部分中。在较佳实施例中，当前的清洗设备包括一个以上的环形的擦拭构件，使得环形的擦拭构件尤其适合于和圆柱形(例如，圆形)构件等等一起使用。当前的清洗设备的较佳实施例进一步包括擦拭构件和切削表面构件中的一个或两个。在这个较佳实施例中，至少一个切削构件和切削表面构件相对于彼此处于隔开的关系。在本发明的一个特别较佳的实施例中，至少一个切削构件被结合到擦拭构件，而且切削表面构件相对被固定。做为选择，切削表面构件可以被结合到擦拭构件，而且至少一个切削构件可以被相对地固定。如此，当前的清洗设备特别有利于从配置在流体处理系统中的一个以上的辐射源组件去除细长的碎屑。在当前清洗设备中利用的这个较佳的方法要包含沿着辐射源组件的外部被移动的至少一个切削构件。该切削构件被连接到在第一(例如，缩回)位置和第二 (例如，延伸)位置之间转移的擦拭构件。当擦拭构件从第一位置被移动到第二位置时，它将倾向于朝向辐射源组件的远端部推动细长的碎屑。在这个转移步骤期间，有可能一些碎屑可以通过切削构件被切削。当擦拭构件接近辐射源组件的远端部时，它将倾向于向下夹住细长的碎屑，以及当移动的力被连续地施加时，该切削构件将切削细长的碎屑。一旦细长的碎屑被切削，将更容易地从辐射源组件离开，而且通过经过辐射源组件的流体流来促进这个动作。如上所述，在替代实施例中，切削构件可以被固定，而且切削表面构件可以被结合到在第一位置和第二位置之间转移的擦拭构件。当擦拭构件从第一位置被移动到第二位置时，它将倾向于朝向辐射源组件的远端部推动细长的碎屑。当擦拭构件接近辐射源组件的远端部时，切削表面构件(可以与擦拭构件的一部分成一体)将倾向于向下夹住细长的碎屑，以及当移动的力被连续地施加时，(相对固定的)切削构件将切削细长的碎屑。一旦细长的碎屑被切削，将更容易地从辐射源组件离开，而且通过经过辐射源组件的流体流来促进这个动作。如此，当前的清洗设备允许在流体处理系统的日常操作期间去除诸如细长的碎屑的成问题的碎屑，并且不用必须为了保养而关闭系统，从而去除细长的碎屑。当前的清洗设备可以或可以不被结合在包含一个以上的辐射源组件的辐射源模块中。换句话说，可以直接地在流体处理系统中实现当前的清洗设备。当前的清洗设备尤其很适合应用在流体处理系统中，其中，辐射源组件被配置为横穿通过流体处理系统的流体流动的方向。
将参照附图描述本发明的实施例，其中，相同的参考数字表示相同的部分，并且其中图1图解当前流体处理系统的部分截面的立体图；图2图解在从辐射源组件去除细长的碎屑之前的图1中图解的流体处理系统的侧视图(即，清洗设备在第一位置中)；图3-4以连续的方式图解清洗设备从第一位置移动到第二位置；图5-10以连续的方式图解当前清洗设备的切削构件在它接近、到达以及被移动远离第二位置时的动作；图11图解当前清洗设备的切削构件相对于通过使用清洗设备的流体处理系统的流体流动的方向的定向的示意图；图12图解在从辐射源组件的外部去除细长的碎屑之后的图1中图解的流体处理系统的立体图以及部分截面；图13图解当前辐射源模块的较佳实施例的立体图；图14图解当前清洗设备的一部分的第一替代实施例；图15图解图14中图解的清洗设备的切削构件相对于通过使用清洗设备的流体处理系统的流体流动的方向的定向的示意图；图16图解当前清洗设备的一部分的第二替代实施例；图17图解图16中图解的清洗设备的切削构件相对于通过使用清洗设备的流体处理系统的流体流动的方向的定向的示意图；图18图解当前清洗设备的第三替代实施例的放大立体图；以及图19图解当前清洗设备的第四替代实施例的放大立体图。
具体实施例方式在它的另一个方面中，本发明涉及清洗设备。清洗设备的较佳实施例可以包括任何以下特征中的任何一个或任何两个以上的组合 清洗设备进一步包括结合到所述运动构件的碎屑转移构件，并且其中，所述运动构件被配置为在第一位置和第二位置之间移动所述碎屑转移构件；·所述碎屑转移构件被配置为与所述表面的至少一部分接触；·所述至少一个切削构件被结合到所述碎屑转移构件；·所述碎屑转移构件包括擦拭构件；·清洗设备进一步包括相对于至少一个切削构件成隔开关系的切削表面构件，其中，所述碎屑转移构件移动到所述第二位置使得所述至少一个切削构件靠近所述切削表面构件，以便切削与所述表面接触的细长的碎屑；·所述切削表面构件相对于所述至少一个切削构件被固定；·所述切削表面构件被结合到碎屑转移构件；·所述切削表面构件被一体形成在所述碎屑转移构件中；·多个切削构件被连接到所述碎屑转移构件；· 一对切削构件被连接到所述碎屑转移构件，所述一对切削构件被配置为相对于彼此成隔开的关系；·所述切削构件被定向为彼此基本上平行；·所述至少一个切削构件包括细长的切削刃； 所述细长的切削构件被配置为相对于通过所述流体处理系统的流体流动的方向成一定角度； 所述角度是从大约15°到大约75° ； 所述角度是从大约30°到大约60° ； 所述角度是从大约40°到大约50° ； 所述角度是大约45° ； 所述细长的切削构件被配置为被定向成基本上平行于通过所述流体处理系统的所述流体流动的方向；·所述细长的切削构件被配置为被定向成与所述表面的上游部分邻接；·所述擦拭构件是环形的；·清洗设备包括多个擦拭构件；·所述多个擦拭构件相对于彼此被平行布置；·所述多个擦拭构件被配置在结合到所述运动构件的托架构件中；·每一个擦拭构件进一步包括悬挂构件，所述悬挂构件可操作为当所述擦拭构件被移动到所述第一位置或所述第二位置时，缓冲所述擦拭构件；·每一个擦拭构件进一步包括悬挂构件，所述悬挂构件可操作为当所述擦拭构件被移动到所述第一位置和所述第二位置时，缓冲所述擦拭构件； 所述悬挂构件包括连接到所述擦拭构件的远端部和所述托架构件的第一偏移构件，当所述擦拭构件被朝向所述第二位置移动时，所述第一偏移构件可操作为压缩，而且当所述擦拭构件被朝向所述第一位置移动时，所述第一偏移构件可操作为扩展； 所述悬挂构件包括连接到所述擦拭构件的近端部和所述托架构件的第二偏移构件，当所述擦拭构件被朝向所述第一位置移动时，所述第二偏移构件可操作为压缩，而且当所述擦拭构件被朝向所述第二位置移动时，所述第二偏移构件可操作为扩展； 所述托架构件包括相对于所述运动构件相对的第一多个擦拭构件和第二多个擦拭构件；·所述第一多个擦拭构件和所述第二多个擦拭构件包含相同数量的擦拭构件；·所述擦拭构件包括清洗构件，所述清洗构件被配置为从所述表面的所述部分去除至少一部分不想要的物质；·所述切削支撑构件被包含在支撑板构件中，所述支撑板构件被配置为连接到所述辐射源组件的所述外部的远端部，从而在所述擦拭构件的所述第二位置中，所述最少一个切削构件和所述支撑板构件组合，以便夹住在它们之间的细长的碎屑；·所述擦拭构件包括用于与所述表面的所述部分密封接合的密封件，所述密封件用于当所述擦拭构件从所述第一位置被移动到所述第二位置时，从所述表面去除至少一部分不想要的物质；·所述擦拭构件包括用于包围所述表面的一部分的室；·所述擦拭构件进一步包括用于将清洗液引入所述室的入口 ； 所述擦拭构件被配置为用于与基本上细长的圆柱形构件的外部的至少一部分接触；·所述擦拭构件被配置用于与具有圆形表面的细长构件的外部的至少一部分接触；·所述擦拭构件被配置用于与所述运动构件的外部的至少一部分接触； 所述擦拭构件被配置用于与设置在所述流体处理系统中的辐射源组件的外部的至少一部分接触；·清洗设备进一步包括支撑板构件，支撑板构件被配置为结合到辐射源组件的外部的远端部，从而在擦拭构件的第二位置中，最少一个切削构件和所述支撑板构件组合，以便夹住在它们之间的细长的碎屑；·支撑板构件包括用于容纳至少一部分切削构件的凹部；·所述支撑板构件由弹性材料构成；和/或·所述支撑板构件由非金属材料构成。 清洗设备可以被结合在辐射源模块中，辐射源模块可以包含以下特征中的任何一个特征或任何两个以上特征的组合·辐射源模块进一步包括将辐射源模块安置在流体处理系统中的单元；·至少一个辐射源组件与第一支撑构件密封接合； 框架进一步包括与第一支撑构件相对并且与第一支撑构件横向隔开的第二支撑构件，至少一个辐射源组件的至少一部分被配置在每一个所述第一支撑构件和所述第二支撑构件之间；·框架进一步包括与第一支撑构件和第二支撑构件相互连接的第三支撑构件；·框架进一步包括用于控制所述辐射源的电源；·辐射源组件包括包围辐射源的保护套；·保护套包括石英套筒；·保护套具有与第一支撑构件中的开口密封接合的开放端以及由第二支撑构件支撑的封闭端；和/或·开放端被密封以便防止流体进入到所述模块中。辐射源模块可以被结合在流体处理系统中，该流体处理系统可以包含以下特征中的任何一个特征或任何两个以上特征的组合·流体处理区域被包含在用于容纳流体流的开放通道中；·流体处理区域被包含在用于容纳流体流的封闭通道中；·至少一个辐射源组件是细长的，并且具有配置为横穿通过所述流体处理区域的流体流动的方向的纵轴；
·至少一个辐射源组件是细长的，并且具有配置为与通过所述流体处理区域的流体流动的所述方向基本上平行的纵轴；·至少一个辐射源组件是细长的，并且具有配置为与通过所述流体处理区域的流体流动的方向正交的纵轴；和/或·至少一个辐射源组件是细长的，并且基本上垂直地被配置在流体处理区域中。参考图1-4，图解有流体处理系统10。流体处理系统10包括具有一对侧壁20 (为了清楚，仅仅在图1中显示一个侧壁20的一部分)的开放通道15以及底板25。附接到开放通道15的侧壁20的是一对挡板30，一对挡板30横跨开放通道15的侧壁20之间的距离。 例如，在国际公报号W02008/019490[特劳本贝格等人]中更详细地描述了这种挡板的用途和功能。配置在挡板30之间的是辐射源模块100。辐射源模块100包括一系列的辐射源组件110。辐射源组件的远端部被结合到横跨开放通道15的一对侧壁20之间的距离的底座132。底座132包括用于接收辐射源组件110的远端的一系列的孔。辐射源组件 110的近端部被连接到模块头部120并且由模块头部120支撑。关于模块头部120中的结构和部件的其他的细节可以在共同审理中的2009年4月M日提交美国临时专利申请 S. N. 61/202，797[特劳本贝格等人]中被找到。每一个辐射源组件110可以包含如上所述配置在辐射透明保护套中的辐射源(为了清楚而没有显示)。较佳地，该辐射源是紫外线(UV)辐射源。清洗设备150包括接合到每一个辐射源组件110的外部的一系列的擦拭构件 155-较佳地，每一个擦拭构件155也起清洗构件的作用。清洗设备150被连接到驱动构件 (没有显示)，该驱动构件被配置为将清洗设备150从第一位置(图2)移动到第二位置(图 4)。虽然驱动构件的精确特性没有被特别地限制时，但是，较佳的是，驱动构件是美国专利 6，342，118[皮尔斯等人]中图解的类型，或是2009年3月13日提交的共同审理中的美国临时专利申请S. N. 61/202，576 [彭黑尔等人]中图解的类型。驱动构件的连接和操作的细节也可以在皮尔斯等人以及彭黑尔等人中被找到。一对支撑构件125 (为了清楚而仅仅显示一个)用来使模块头部120与底座132相互连接。这允许辐射源模块100被认为是可以被放置在开放通道15中以使辐射源模块100 的底座132的底部搁在开放通道15的底板25上的单元或重复的构件。特别参考图5，清洗设备150包括一系列的清洗构件155。每一个擦拭构件155是环形的，并且围绕辐射源组件110。擦拭构件155的近端部156经由螺钉153被结合到托架 152。弹簧157围绕螺钉153，并且用来产生擦拭构件155的近端部156和托架152之间的悬挂(suspension)功能。经由被弹簧161包围的螺钉159，在擦拭构件155的远端部158 之间产生类似的功能。因此，螺钉159和弹簧161的组合产生擦拭构件155的远端部158 和托架152之间和悬挂功能。可以看出，每一个擦拭构件155的远端部158包括一对切削构件160。切削构件160是细长的，并且被定向为相对于通过辐射源组件110的流体流动的方向成一定角度——这将在以下进一步讨论。如图1-4所示，经过辐射源组件110的流体流沿着箭头A的方向。在流体处理系统10的正常使用期间，线状或细长的碎屑50将粘附或另外缠结在辐射源组件110的外部上。当希望从辐射源组件110的外表面去除细长的碎屑50时，连接有清洗设备150的驱动构件被驱驶，以使清洗设备150朝向辐射源组件110的远端转移——尤其参见图3和 4。这具有如图2-4中连续地显示的使细长的碎屑50朝向底座132移动(例如，推动)的效^ ο图5-10以连续的方式图解当清洗设备150接近辐射源组件110的远端时的操作。 如所示的，支撑构件165被安置为位于底座132上。较佳地，支撑构件165由弹性材料或非金属材料制成。支撑构件165起到将如下所述的更像用于切削细长的碎屑50的“砧板 (chopping block)，，的作用。参考图5，当清洗设备接近底座132时，细长的碎屑50趋向于群聚在擦拭构件155 的远端面和支撑构件165之间。参考图6，清洗设备150的继续向下的移动导致擦拭构件 155的远端部158向下夹住细长的碎屑50。清洗设备150的继续向下的移动导致通过切削构件160切削细长的碎屑50——参见图7。继续参考图7，在切削构件160的下游的细长的碎屑50的部分通过辐射源组件110下游的流体流被携带，并且在流体流中离开流体处理系统10。以上提及的在擦拭构件155的近端部156和托架152之间产生的悬挂作用避免或缓和由清洗设备150施加到支撑构件165的不成比例的力。这说明了有不同量的细长的碎屑50附接不同的辐射源组件110的现象。这也补偿了由于常规的制造公差所引起的各种构件的微小的位移。如此，清洗设备150的卡住以及相应而生的破坏辐射源组件110的风险被最小化或避免。当有单个驱动构件正被使用以移动相对大量的擦拭构件155时，更特别地，当那些大量的擦拭构件155被隔开超过相对大的区域时，这是尤其重要的。参考图8-10，清洗设备150被朝向第一位置移动。当这个发生之时，由于由图7中图解的切削步骤所导致的残留碎屑的相对不均衡，辐射源组件110的外部上的任何残留的碎屑被流体流带走。参考图11，有切削构件160相对于由箭头A表示的流体流动的方向的定向的图解的示意俯视图。如所示的，较佳的是，细长的切削构件160被配置为相对于通过辐射源组件 110的流体流动的方向成一定角度。较佳地，该角度是从大约15°到大约75°，更佳地是从大约30°到大约60°，越佳地是从大约40°到大约50°，最佳地是大约45°。以这种方式安置切削构件160导致细长的碎屑的不对称的切削。通过“不对称的切削”意味着施加于一条细长的碎屑的切削动作通常导致不同长度和重量的两条。这个结果，结合在远离辐射源组件的最上游的点发生该切削，允许流过辐射源组件的流体便于从辐射源组件松开细长的碎屑。以这种方式安置切削构件160的进一步的优点是，也为了设置切削构件160和辐射源组件110之间的间隔，以允许擦拭构件155在与切削构件160相同的近处(关于辐射源弧长和位置)中进行操作。图13图解在图1-12中图解的辐射源模块100的较佳实施例的放大立体图。参考图14和15，图解有清洗设备150a的第一替代实施例。在这个替代实施例中， 已经对以上参考图5-10描述的清洗设备150进行以下变形；·与螺钉159和弹簧161 —起，擦拭构件155的凸缘远端部158已经被省略； 一对切削构件160已经被单个切削构件160a所替代，单个切削构件160a被配置成以使切削构件160a的细长的切削刃被配置为实质上平行于经过辐射源组件110的流体流动的方向——参见图15。在这个实施例中，切削构件160a被放置为非常靠近辐射源组件110的表面。这个方法的优点是，切削构件160a无须与同样起清洗构件作用的擦拭构件一起被实现——清洗构件例如是如上所述在玛尔莎克尔维尔德#2专利中描述的化学的/机械的清洗构件。参考图16和17，图解有清洗设备150b的替代实施例，在该清洗设备150b中，螺钉 159和弹簧161已经被省略，而且切削构件160b已经被定向，以使它的细长的切削刃被配置为相对于经过辐射源组件110的流体流动的方向基本上正交——参见图17 (为了清楚，仅仅显示一个切削构件160b)。这个布置的优点是，每一个切削构件160b被定向，以便可以实现单条细长的碎屑50上的双重切削，从而便于在细长的碎屑50已经被切削之后冲去细长的碎屑50。参考图18，显示有清洗设备150c。清洗设备150c不同于图1_17中所示的清洗设备，因为，在清洗设备150c中，切削构件160c被固定到支撑构件165，而且切削表面构件 164被结合到擦拭构件155的远端部158。如那些本领域的技术人员将领会的，当擦拭构件 155被移动到第二位置时，切削表面构件164将朝向支撑构件165推动细长的碎屑50。随着擦拭构件巧5朝向延伸位置的继续移动，切削表面构件164将倾向于相对于支撑构件155 夹住细长的碎屑50，而且切削构件160c将倾向于切削细长的碎屑50。切削的碎屑将以类似于如上所述的方式从辐射源组件110被冲去。参考图19，显示有清洗设备150d。清洗设备150d是图14和18中图解的实施例的有效组合，其中，切削构件160a和160c被配置，以提供剪切细长的碎屑50的切削动作—— 即，切削构件160a和160c的切削刃剪切经过彼此。连接到切削表面构件164的是便于在切削构件160a和160c之间产生剪切动作的导向柱154。再次，切削的碎屑将以类似于如上所述的方式从辐射源组件110被冲去。虽然已经参考示意性的实施例和实例描述了这个发明，但是该描述并不打算以限制的意义被解释。因此，一旦参考这个描述，说明性的实施例的各种变形以及本发明的其他实施例对于本领域的技术人员而言将是显而易见的。因此预期，所附的权利要求书将覆盖任何这样的变形或实施例。在此提到的所有公布文本、专利和专利申请通过引用而被完全结合到本文中，就像每个单独的公布文本、专利或专利申请被详细且单独地标明，以便通过引用被全部结合。
权利要求
1.一种用于流体处理系统中的表面的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备包括至少一个切削构件；以及运动构件，被配置为引起与所述表面接触的细长的碎屑和所述至少一个切削构件之间的相对移动，以使得所述至少一个切削构件切削所述细长的碎屑。
2.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，进一步包括结合到所述运动构件的碎屑转移构件，并且其中，所述运动构件被配置为在第一位置和第二位置之间移动所述碎屑转移构件。
3.如权利要求2所述的清洗设备，其特征在于，所述碎屑转移构件被配置为与所述表面的至少一部分接触。
4.如权利要求2-3所述的清洗设备，其特征在于，所述至少一个切削构件被结合到所述碎屑转移构件。
5.如权利要求2-4所述的清洗设备，其特征在于，所述碎屑转移构件包括擦拭构件。
6.如权利要求2-5所述的清洗设备，其特征在于，进一步包括相对于至少一个切削构件成隔开的关系的切削表面构件，其中，所述碎屑转移构件移动到所述第二位置使得所述至少一个切削构件靠近所述切削表面构件，以便切削与所述表面接触的细长的碎屑。
7.如权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述切削表面构件相对于所述至少一个切削构件被固定。
8.如权利要求2-7所述的清洗设备，其特征在于，所述碎屑转移构件被结合到所述擦拭构件。
9.如权利要求6-8所述的清洗设备，其特征在于，所述切削表面构件被一体形成在所述碎屑转移构件中。
10.如权利要求1-9所述的清洗设备，其特征在于，多个切削构件被连接到所述碎屑转移构件。
11.如权利要求5-9所述的清洗设备，其特征在于，一对切削构件被连接到所述碎屑转移构件，所述一对切削构件被配置为相对于彼此成隔开的关系。
12.如权利要求10-11所述的清洗设备，其特征在于，所述切削构件被定向为彼此基本上平行。
13.如权利要求1-12中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述至少一个切削构件包括细长的切削刃。
14.如权利要求1-13中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述细长的切削构件被配置为相对于通过所述流体处理系统的流体流动的方向成一定角度。
15.如权利要求14所述的清洗设备，其特征在于，所述角度是从大约15°到大约75°。
16.如权利要求14所述的清洗设备，其特征在于，所述角度是从大约30°到大约60°。
17.如权利要求14所述的清洗设备，其特征在于，所述角度是从大约40°到大约50°。
18.如权利要求14所述的清洗设备，其特征在于，所述角度是大约45°。
19.如权利要求1-14中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述细长的切削构件被配置为被定向成基本上平行于通过所述流体处理系统的所述流体流动的方向。
20.如权利要求19所述的清洗设备，其特征在于，所述细长的切削构件被配置为被定向成与所述表面的上游部分邻接。
21.如权利要求1-20中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述擦拭构件是环形的。
22.如权利要求1-21中任一项所述的清洗设备，其特征在于，包含多个擦拭构件。
23.如权利要求22所述的清洗设备，其特征在于，所述多个擦拭构件相对于彼此平行布置。
24.如权利要求22-23中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述多个擦拭构件被配置在结合到所述运动构件的托架构件中。
25.如权利要求M所述的清洗设备，其特征在于，每一个擦拭构件进一步包括悬挂构件，所述悬挂构件能够操作为当所述擦拭构件被移动到所述第一位置或所述第二位置时， 缓冲所述擦拭构件。
26.如权利要求M所述的清洗设备，其特征在于，每一个擦拭构件进一步包括悬挂构件，所述悬挂构件能够操作为当所述擦拭构件被移动到所述第一位置和所述第二位置时， 缓冲所述擦拭构件。
27.如权利要求2546所述的清洗设备，其特征在于，所述悬挂构件包括连接到所述擦拭构件的远端部和所述托架构件的第一偏移构件，当所述擦拭构件被朝向所述第二位置移动时，所述第一偏移构件能够操作为压缩，而且当所述擦拭构件被朝向所述第一位置移动时，所述第一偏移构件能够操作为拉伸。
28.如权利要求25-27所述的清洗设备，其特征在于，所述悬挂构件包括连接到所述擦拭构件的近端部和所述托架构件的第二偏移构件，当所述擦拭构件被朝向所述第一位置移动时，所述第二偏移构件能够操作为压缩，而且当所述擦拭构件被朝向所述第二位置移动时，所述第二偏移构件能够操作为拉伸。
29.如权利要求M-观所述的清洗设备，其特征在于，所述托架构件包括关于所述运动构件相对的第一多个擦拭构件和第二多个擦拭构件。
30.如权利要求四所述的清洗设备，其特征在于，所述第一多个擦拭构件和所述第二多个擦拭构件包含相同数量的擦拭构件。
31.如权利要求1-30所述的清洗设备，其特征在于，所述擦拭构件包括清洗构件，所述清洗构件被配置为从所述表面的所述部分去除至少一部分不想要的物质。
32.如权利要求31所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗构件包括刮除构件，所述刮除构件用于当所述擦拭构件从所述第一位置被移动到所述第二位置时，从所述表面刮除至少一部分不想要的物质。
33.如权利要求1-32中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述擦拭构件包括用于与所述表面的所述部分密封接合的密封件，所述密封件用于当所述擦拭构件从所述第一位置被移动到所述第二位置时，从所述表面去除至少一部分不想要的物质。
34.如权利要求1-33中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述擦拭构件包括用于包围所述表面的一部分的室。
35.如权利要求34所述的清洗设备，其特征在于，所述擦拭构件进一步包括用于将清洗液引入所述室的入口。
36.如权利要求1-35所述的清洗设备，其特征在于，所述擦拭构件被配置用于与基本上细长的圆柱形构件的外部的至少一部分接触。
37.如权利要求1-35所述的清洗设备，其特征在于，所述擦拭构件被配置用于与具有圆形表面的细长构件的外部的至少一部分接触。
38.如权利要求1-35所述的清洗设备，其特征在于，所述擦拭构件被配置用于与所述运动构件的外部的至少一部分接触。
39.如权利要求1-35所述的清洗设备，其特征在于，所述擦拭构件被配置用于与配置在所述流体处理系统中的辐射源组件的外部的至少一部分接触。
40.如权利要求1-39所述的清洗设备，其特征在于，所述切削支撑构件被包含在支撑板构件中，所述支撑板构件被配置为结合到所述辐射源组件的所述外部的远端部，从而在所述擦拭构件的所述第二位置中，所述最少一个切削构件和所述支撑板构件组合，以便夹住在它们之间的细长的碎屑。
41.如权利要求40所述的清洗设备，其特征在于，所述支撑板构件包括用于容纳至少一部分所述切削构件的凹部。
42.如权利要求40-41中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述支撑板构件由弹性材料构成。
43.如权利要求40-41中任一项所述的清洗设备，其特征在于，所述支撑板构件由非金属材料构成。
44.一种用于在流体处理系统中使用的辐射源模块，其特征在于，所述模块包括具有第一支撑构件的框架；从所述第一支撑构件延伸的至少一个辐射源组件，所述至少一个辐射源组件包含辐射源；以及如权利要求1-43中任一项所述的清洗设备，所述托架的所述清洗构件与所述至少一个辐射源组件的外部的至少一部分接触。
45.如权利要求44所述的辐射源模块，其特征在于，进一步包含在所述流体处理系统中安置所述辐射源模块的单元。
46.如权利要求44-45中任一项所述的辐射源模块，其特征在于，所述至少一个辐射源组件与所述第一支撑构件密封接合。
47.如权利要求44-46中任一项所述的辐射源模块，其特征在于，所述框架进一步包括与所述第一支撑构件相对并且与所述第一支撑构件横向隔开的第二支撑构件，所述至少一个辐射源组件的至少一部分被配置在每一个所述第一支撑构件和所述第二支撑构件之间。
48.如权利要求44所述的辐射源模块，其特征在于，所述框架进一步包括与所述第一支撑构件和所述第二支撑构件相互连接的第三支撑构件。
49.如权利要求44-48所述的辐射源模块，其特征在于，所述框架进一步包括用于控制所述辐射源的电源。
50.如权利要求44-49所述的辐射源模块，其特征在于，所述辐射源组件包括包围所述辐射源的保护套。
51.如权利要求50所述的辐射源模块，其特征在于，所述保护套包括石英套筒。
52.如权利要求44-51中任一项所述的辐射源模块，其特征在于，所述保护套具有与所述第一支撑构件中的开口密封接合的开放端以及由所述第二支撑构件支撑的封闭端。
53.如权利要求52所述的辐射源模块，其特征在于，所述开放端被密封以便防止流体进入到所述模块中。
54.一种流体处理系统，所述流体处理系统包含用于容纳流体流的流体处理区域以及如权利要求44-53中任一项所述的至少一个辐射源模块，其特征在于，所述至少一个辐射源模块被配置为使得所述至少一个辐射源组件被配置在所述流体处理区域中。
55.如权利要求M所述的流体处理系统，其特征在于，所述流体处理区域被包含在用于容纳所述流体流的开放通道中。
56.如权利要求M所述的流体处理系统，其特征在于，所述流体处理区域被包含在用于容纳所述流体流的封闭通道中。
57.如权利要求M-56中任一项所述的流体处理系统，其特征在于，所述至少一个辐射源组件是细长的，并且具有配置为横穿通过所述流体处理区域的所述流体流动的方向的纵轴ο
58.如权利要求M-56中任一项所述的流体处理系统，其特征在于，所述至少一个辐射源组件是细长的，并且具有配置为与通过所述流体处理区域的所述流体流动的方向基本上平行的纵轴。
59.如权利要求M-56中任一项所述的流体处理系统，其特征在于，所述至少一个辐射源组件是细长的，并且具有配置为与通过所述流体处理区域的所述流体流动的方向正交的纵轴。
60.如权利要求M-56中任一项所述的流体处理系统，其特征在于，所述至少一个辐射源组件是细长的，并且基本上垂直地被配置在所述流体处理区域中。
61.一种用于从如权利要求讨-60中任一项所述的流体处理系统中的表面去除细长的碎屑的方法，其特征在于，所述方法包含步骤(i)将所述擦拭构件从所述第一位置朝向所述第二位置转移；以及( )使得所述至少一个切削构件切削所述细长的碎屑。
62.如权利要求61所述的方法，其特征在于，步骤(i)和(ii)被同时进行。
63.如权利要求61所述的方法，其特征在于，步骤(i)和(ii )被顺序地进行。
64.如权利要求61-63中任一项所述的方法，其特征在于，包含进一步的步骤(iii)将所述擦拭构件从所述第二位置转移到所述第一位置。
65.如权利要求61-64所述的方法，其特征在于，所述表面是所述流体处理系统中的辐射源组件的外表面。
66.如权利要求61-64所述的方法，其特征在于，所述表面是所述流体处理系统中的辐射传感器的外表面。
67.如权利要求61-64所述的方法，其特征在于，所述表面是所述流体处理系统中的驱动构件的外表面。
全文摘要
描述有一种用于流体处理系统中的表面(例如，辐射源组件)的清洗设备。该清洗设备的较佳实施例包括用于与表面的至少一部分接触的擦拭构件；连接到用于切削与该表面接触的细长的碎屑的擦拭构件的至少一个切削构件；以及用于在第一位置和第二位置之间移动托架的运动构件。当前清洗设备的这个较佳实施例特别地有利于从配置在流体处理系统中的一个以上的辐射源组件去除细长的碎屑。在当前清洗设备的这个较佳实施例中利用的方法要包含沿着辐射源组件的外部被移动的至少一个切削构件。该切削构件被连接到在第一位置和第二位置之间转移的擦拭构件。当擦拭构件从第一位置被移动到第二位置时，它将倾向于朝向辐射源组件的远端部推动细长的碎屑。在这个转移步骤期间，有可能一些碎屑可以通过切削构件被切削。当擦拭构件接近辐射源组件的远端部时，它将倾向于向下夹住细长的碎屑，以及当移动的力被连续地施加时，该切削构件将切削细长的碎屑。一旦细长的碎屑被切削，将更容易地从辐射源组件离开，而且通过经过辐射源组件的流体流来促进这个动作。
文档编号B08B1/00GK102596436SQ201080051184
公开日2012年7月18日 申请日期2010年11月10日 优先权日2009年11月12日
发明者乔治·特劳本贝格, 克里斯蒂亚·莫格兰, 艾伦·阿彻 申请人:特洁安科技有限公司