足浴盆的制作方法

文档序号:1422608阅读:248来源:国知局
专利名称:足浴盆的制作方法
技术领域
本实用新型涉及足浴容器技术领域,特别涉及一种足浴盆。
背景技术
随着人们生活水平的提高,越来越多的人注重于身体健康,特别是足浴,能促进足部和全身的血液循环加速,消除体内的疲劳,确保血液循环顺畅,因此具有理疗和保健功能的足浴盆具有广阔的应用前景。目前常见的足浴盆大 多采用敞口设计,通过向足浴盆内添加适量的水并加热到一定温度进行泡脚,泡脚水最好能淹过踝关节至小腿处,因此为了使水能淹过腿的更高部位就必须在盆内加更多的水量使水位上升,这样即消耗了更多的水,同时加热水也消耗了更多的能源。同时水面也是直接与空气接触导致热量散失很快,需不断加热维持水温。因此,针对现有技术中的不足,亟需提供一种结构简单、节水节能的足浴盆。
发明内容本实用新型的目的在于避免现有技术中的不足之处而提供一种结构简单、节水节能的足浴盆。本实用新型的目的通过以下技术措施实现提供一种足浴盆,包括有盆体和加热元件,所述盆体内设置有排挤水装置,所述排挤水装置底部靠近所述盆体的底部,所述排挤水装置的一侧与所述盆体的一侧分别设置有通孔,所述通孔内设置有铰接轴,所述排挤水装置的一侧与所述盆体的一侧通过铰接轴活动连接,所述排挤水装置的另一侧呈波浪形状,所述排挤水装置与所述盆体之间的区域为足浴区。其中,所述排挤水装置的另一侧设置有支撑轴,所述支撑轴的底端低于所述排挤水装置的底部,当所述排挤水装置置于所述盆体内时,所述支撑轴的底端与所述盆体的底部接触。其中,所述支撑轴的顶端设置有拉手。其中,所述盆体的顶部设置有盆盖。本实用新型的有益效果本实用新型的足浴盆,包括有盆体和加热元件,所述盆体内设置有排挤水装置,所述排挤水装置底部靠近所述盆体的底部,所述排挤水装置的一侧与所述盆体的一侧分别设置有通孔,所述通孔内设置有铰接轴,所述排挤水装置的一侧与所述盆体的一侧通过铰接轴活动连接,所述排挤水装置的另一侧呈波浪形状,所述排挤水装置与所述盆体之间的区域为足浴区。采用这种结构,所述排挤水装置可相对盆体上下移动,当泡脚时,足浴盆内水位过低时,可将排挤水装置压入盆体内,使水位上升从而淹过小腿甚至更高部位,这种方式可以用较少的水即可达到较高的水位,使水的利用率成倍提升,而且减少了水的加热时间, 达到节水节能的功效。
利用附图对本实用新型做进一步说明,但附图中的内容不构成对本实用新型的任何限制。图1为本实用新 型的足浴盆的结构示意图。图2为本实用新型的足浴盆的另一角度的结构示意图。图3为本实用新型的足浴盆的排挤水装置的结构示意图。图1至图3中包括有盆体1、通孔3、铰接轴4、拉手5;排挤水装置2、支撑轴21。
具体实施方式
结合以下实施例对本实用新型作进一步说明本实用新型的足浴盆的一个实施例如图1至图3所示,包括有盆体1和加热元件, 盆体1内设置有排挤水装置2,排挤水装置2底部靠近盆体1的底部,排挤水装置2的一侧与盆体1的一侧分别设置有通孔3,所述通孔3内设置有铰接轴4,排挤水装置2的一侧与盆体1的一侧通过铰接轴4活动连接。本实施例中,排挤水装置2通过铰接轴4可相对盆体1上下移动。当泡脚时,盆体 1内的水量较少、水位较低不足以淹过小腿时,可将排挤水装置2压入盆体1内,使水位上升从而淹过小腿甚至更高部位,这种方式无需通过向盆体内再添加水量,可以用较少的水即可达到较高的水位,使水的利用率成倍提升,而且减少了水的加热时间,达到节水节能的功效。本实施例中,排挤水装置2与盆体1之间的区域为足浴区,排挤水装置2的另一侧呈波浪形状,便于泡脚时,腿部能自由活动而不会与排挤水装置2发生碰撞。本实施例中,排挤水装置2的另一侧设置有支撑轴21,所述支撑轴21的底端低于排挤水装置2的底部,当排挤水装置2置于盆体1内时,支撑轴21的底端与盆体1的底部接触从而起到支撑的作用,支撑轴21的顶端设置有拉手5,便于向上移动排挤水装置2。排挤水装置2还可以作为储物箱使用,可将足浴等用品放置于排挤水装置2内。同时,由于排挤水装置2具有一定的体积,放置于盆体内时,遮挡住部分水面,还可以起到保温的作用。本实施例中,作为优选的实施方案,盆体1的顶部设置有盆盖,将水加热后,盖上盆盖可以起到保温的效果,同样具有节能的优点。最后应当说明的是,以上实施例仅用于说明本实用新型的技术方案而非对本实用新型保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。
权利要求1.一种足浴盆,包括有盆体和加热元件,其特征在于所述盆体内设置有排挤水装置, 所述排挤水装置底部靠近所述盆体的底部,所述排挤水装置的一侧与所述盆体的一侧分别设置有通孔,所述通孔内设置有铰接轴,所述排挤水装置的一侧与所述盆体的一侧通过铰接轴活动连接,所述排挤水装置的另一侧呈波浪形状,所述排挤水装置与所述盆体之间的区域为足浴区。
2.根据权利要求1所述的足浴盆,其特征在于所述排挤水装置的另一侧设置有支撑轴,所述支撑轴的底端低于所述排挤水装置的底部,当所述排挤水装置置于所述盆体内时, 所述支撑轴的底端与所述盆体的底部接触。
3.根据权利要求2所述的足浴盆,其特征在于所述支撑轴的顶端设置有拉手。
4.根据权利要求1所述的足浴盆,其特征在于所述盆体的顶部设置有盆盖。
专利摘要本实用新型公开了一种足浴盆,包括有盆体和加热元件,所述盆体内设置有排挤水装置,所述排挤水装置底部靠近所述盆体的底部,所述排挤水装置与所述盆体的一侧分别设置有通孔,所述通孔内设置有铰接轴,所述排挤水装置与所述盆体的一侧通过铰接轴活动连接,所述排挤水装置的另一侧呈波浪形状,所述排挤水装置与所述盆体之间的区域为足浴区。本实用新型具有结构简单、节水节能的优点。
文档编号A47K3/022GK202044170SQ20112005264
公开日2011年11月23日 申请日期2011年3月2日 优先权日2011年3月2日
发明者阳晓峰 申请人:东莞联硕电子有限公司
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