专利名称：研磨清洗槽的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及化学机械研磨技术领域，特别涉及一种研磨清洗槽。
背景技术：
化学机械研磨(chemical mechanical polishing)技术兼有机械式研磨和化学式研磨的两种作用，普遍应用于半导体晶圆的制造中。在化学机械研磨(chemicalmechanical polishing)工艺中，晶圆研磨后一般需要置于如下所述的研磨清洗槽内进行清洗，研磨清洗槽的结构请参考图1，如图1所示，研磨清洗槽100包括槽壁101、滑轮102和滚轮103，滑轮102设置于槽壁101的外部，滚轮103设置于槽壁101的内部。为固定滚轮103的位置，滚轮103的外部设置有滚轮外套111。同时，滚轮外套111和槽壁主体110组合形成槽壁101。为使槽壁101密封，槽壁主体110和滚轮外套111通过密封圈112连接。其中，滚轮103包括依次连接的晶圆支架104、连杆105和滚轮本体106，滚轮本体106由磁铁制成，其形状为圆柱体。滑轮102包括齿轮107、磁铁块108和金属体109，齿轮107和金属体109的底面连接，齿轮107的中心设置有一磁铁块108，磁铁块108的磁性与滚轮滚轮本体106的磁性相反。进行清洗时，研磨清洗槽100内装满研磨清洗液，晶圆固定在滚轮103上，电机驱动滑轮102转动，同时滑轮102通过磁耦合驱动滚轮103转动，从而带动晶圆在研磨清洗槽100中进行清洗。然而，研磨清洗槽100内的研磨清洗液是由氨水和双氧水两种液体按一定比例混合而成，具有很强的腐蚀性，槽壁102中的密封圈112长期与研磨清洗液接触，会被研磨清洗液腐蚀，腐蚀后的密封圈112会污染研磨清洗液。将晶圆置于受污染的研磨清洗液中清洗时，晶圆会被污染，严重时甚至导致产品报废。基此，如何防止研磨清洗槽中的密封圈被腐蚀污染研磨清洗液，甚至污染晶圆导致产品报废成为本领域技术人员`亟待解决的一个技术问题。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种研磨清洗槽以解决现有技术中清洗槽中的密封圈腐蚀后污染研磨清洗液，进而污染晶圆造成产品报废的问题。为解决上述问题，本实用新型提供一种研磨清洗槽，包括槽壁、滑轮和滚轮；其中，所述槽壁的一侧面上设置有第一圆柱体和第二圆柱体，所述第一圆柱体设置于槽壁的内侧，所述第二圆柱体设置于槽壁的外侧；所述滚轮套在第一圆柱体上；所述滑轮设置于第二圆柱体的外部；所述滑轮通过磁耦合驱动所述滚轮转动。优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述滚轮包括晶圆支架、连杆和滚轮本体；所述晶圆支架和滚轮本体通过连杆连接。优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述滚轮本体的形状为圆桶形，滚轮本体的底面与连杆连接；所述滚轮本体套在所述第一圆柱体上。优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述滚轮本体由磁铁制成。优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述滑轮包括齿轮组、磁铁块和金属套；所述金属套的形状是圆桶形，金属套的底面与所述齿轮组连接；所述磁铁块设置于金属套的内部。优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述磁铁块的磁性与所述滚轮本体的磁性相反。优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述金属套由导磁体制成。优选的，在所述的研磨清洗槽中，所述滑轮和滚轮均为对称性结构，中心轴在同一条直线上。优选的，在所述的研磨清洗槽中，还包括一金属块；所述金属块设置在所述滑轮和槽壁之间，套在所述第二圆柱体上；所述金属块由导磁体制成。优选的，在所述的研磨清洗槽中，还包括研磨清洗液出口和入口 ；
所述研磨清洗液出口和入口设置于所述槽壁上，研磨清洗液的入口比研磨清洗液的出口要高。综上所述，本实用新型提供的研磨清洗槽通过磁耦合驱动研磨清洗槽内的滚轮转动清洗晶圆，槽壁无需密封圈连接，研磨清洗槽的结构能够保证不污染清洗液，更不会污染晶圆造成广品报废。
图1是现有技术中研磨清洗槽的结构示意图；图2是本实用新型实施例的一种研磨清洗槽的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出一种研磨清洗槽作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。请参考图2，其为本实用新型实施例的一种研磨清洗槽的结构示意图。如图2所示，所述研磨清洗槽10包括:槽壁1、滑轮2、和滚轮3 ；其中，所述槽壁I的一侧面上设置有第一圆柱体11和第二圆柱体12,所述第一圆柱体11设置于槽壁I的内侧，所述第二圆柱体12设置于槽壁I的外侧；所述滚轮3套在第一圆柱体11上；所述滑轮2设置于第二圆柱体12的外部；所述滑轮2通过磁耦合驱动所述滚轮3转动。具体的，槽壁I的形状为长方体，槽壁I的顶面可以开合，用以取放晶圆。槽壁I的底面和4个侧面连为一体，槽壁I的一侧面上设置有第一圆柱体11和第二圆柱体12，第一圆柱体11设置于槽壁I的内侧，所述第二圆柱体12设置于槽壁I的外侧。优选的，第一圆柱体11和第二圆柱体12与槽壁I连为一体，第一圆柱体11和第二圆柱体12的中心轴在同一直线上。滚轮3设置在槽壁I的内部，滚轮3套在第一圆柱体11上，第一圆柱体11用以固定滚轮3的位置。滑轮2设置于第二圆柱体12的外部，滑轮2和滚轮3均为对称性结构，中心轴在同一条直线上。请继续参考图2，滚轮3由晶圆支架31、连杆32和滚轮本体33构成，晶圆支架31和滚轮本体33通过连杆32连接。晶圆支架31用以固定晶圆。滚轮本体33由磁铁制成，滚轮本体33的形状为圆桶形，滚轮本体33套在第一圆柱体11上，滚轮本体33的底面与连杆32连接。滑轮2包括齿轮组21、磁铁块22和金属套23，其中，金属套23由导磁体制成，金属套23的形状是圆桶形，金属套23的底面与齿轮21连接。磁铁块22设置于金属套23的内部，磁铁块22的磁性与滚轮本体33的磁性相反。齿轮组21通过传送带与电机连接，电机能够驱动滑轮2转动。由此可见，研磨清洗槽10中有两块磁铁，即滚轮本体33和磁铁块22。滚轮本体33和磁铁块22相互吸引，一旦电机驱动滑轮2转动，滚轮本体33和磁铁块22就会产生磁耦合。为保证晶圆的清洗效果，研磨清洗槽10中还设置有一金属块4以增强磁耦合的效果，金属块4设置在滑轮2和槽壁I之间，套在第二圆柱体12上。金属块4由导磁体制成。使用本实用新型研磨清洗槽10时，首先开启槽壁I的顶部，通过机械手臂将晶圆放入注满研磨清洗液的研磨清洗槽10中，并固定在晶圆支架31上，之后关闭槽壁I的顶部，使研磨清洗槽10处于完全封闭的状态。然后开启电机，电机驱动滑轮2转动，滑轮2通过磁耦合驱动滚轮3转动，固定在滚轮3上的晶圆随之转动进行清洗。研磨清洗槽10的槽壁I上还设置有研磨清洗液的出口和入口(图中未不出)，研磨清洗液的入口比研磨清洗液的出口要高，研磨清洗液通过研磨清洗液的出口和入口进行定时更换。综上可见，本实用新型研磨清洗槽中通过磁耦合驱动研磨清洗槽内的滚轮转动，晶圆能够实现转动清洗。而且，在所述的研磨清洗槽中槽壁的侧面都连成一体，无需密封圈连接，避免了因密封圈腐蚀导致研磨清洗液受到污染的问题。进一步的，研磨清洗槽中还设置有金属块能够增强磁耦合的效果，保证晶圆的清洗效果。
上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。
权利要求1.一种研磨清洗槽，其特征在于，包括:槽壁、滑轮和滚轮； 其中，所述槽壁的一侧面上设置有第一圆柱体和第二圆柱体，所述第一圆柱体设置于槽壁的内侧，所述第二圆柱体设置于槽壁的外侧； 所述滚轮套在第一圆柱体上； 所述滑轮设置于第二圆柱体的外部； 所述滑轮通过磁耦合驱动所述滚轮转动。
2.如权利要求1所述的研磨清洗槽，其特征在于，所述滚轮包括晶圆支架、连杆和滚轮本体； 所述晶圆支架和滚轮本体通过连杆连接。
3.如权利要求2所述的研磨清洗槽，其特征在于，所述滚轮本体的形状为圆桶形，滚轮本体的底面与连杆连接； 所述滚轮本体套在所述第一圆柱体上。
4.如权利要求2所述的研磨清洗槽，其特征在于，所述滚轮本体由磁铁制成。
5.如权利要求1 所述的研磨清洗槽，其特征在于，所述滑轮包括齿轮组、磁铁块和金属套； 所述金属套的形状是圆桶形，金属套的底面与所述齿轮组连接； 所述磁铁块设置于金属套的内部。
6.如权利要求5所述的研磨清洗槽，其特征在于，所述磁铁块的磁性与所述滚轮本体的磁性相反。
7.如权利要求5所述的研磨清洗槽，其特征在于，所述金属套由导磁体制成。
8.如权利要求1所述的研磨清洗槽，其特征在于，所述滑轮和滚轮均为对称性结构，中心轴在同一条直线上。
9.如权利要求1所述的研磨清洗槽，其特征在于，还包括一金属块； 所述金属块设置在所述滑轮和槽壁之间，套在所述第二圆柱体上； 所述金属块由导磁体制成。
10.如权利要求1所述的研磨清洗槽，其特征在于，还包括研磨清洗液出口和入口； 所述研磨清洗液出口和入口设置于所述槽壁上，研磨清洗液的入口比研磨清洗液的出Π要闻。
专利摘要本实用新型涉及一种研磨清洗槽，包括槽壁、滑轮和滚轮。其中，所述槽壁的一侧面上设置有第一圆柱体和第二圆柱体，所述第一圆柱体设置于槽壁的内侧，所述第二圆柱体设置于槽壁的外侧，所述滚轮套在第一圆柱体上，所述滑轮设置于第二圆柱体的外部，所述滑轮通过磁耦合驱动所述滚轮转动。本实用新型提供的研磨清洗槽通过磁耦合驱动研磨清洗槽内的滚轮转动清洗晶圆，槽壁无需密封圈连接，研磨清洗槽的结构能够保证不污染清洗液，更不会污染晶圆造成产品报废。
文档编号B08B3/10GK203124336SQ20132006181
公开日2013年8月14日 申请日期2013年2月1日 优先权日2013年2月1日
发明者冯惠敏 申请人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司