专利名称：一种棋盘的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种棋盘，尤其是涉及一种棋格可变换的多用棋盘，可用于进 行象棋、围棋和五子棋的竞技比试。
背景技术：
象棋、围棋和五子棋作为人们相互竞技的棋类已经有着悠久的历史，是很受欢 迎的竞技棋类，适合各个年龄层次的人使用。这三种棋类通常都有各自的棋盘，也就是 说想进行这三种棋类，就分别携带与之相匹配的三种棋盘，这就给棋类爱好者的下棋带 来一定的不便，而且造成资源难以充分利用的缺陷。
实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有技术中存在的上述不足，而提供一种结构设计 合理，制造容易，使用方便，资源能够得到充分利用的棋盘。本实用新型解决上述问题所采用的技术方案是该棋盘的特点在于包括底 板、上边框、下边框、左边框、右边框、透明板和滑动轴，所述底板和透明板上分别设 置有底板棋格和透明板棋格，该底板棋格和透明板棋格相匹配，所述上边框和左边框分 别固定在底板的上端和左侧，所述下边框和右边框分别固定在透明板的下端和右侧，所 述底板上设置有滑槽，所述透明板通过滑动轴安装在底板上，所述滑动轴与滑槽相配合。本实用新型所述底板和透明板均为正方形结构。本实用新型所述底板、上边框、下边框、左边框和右边框均为塑料材质。本实用新型与现有技术相比，具有以下优点和效果当需要下象棋时，通过滑 动轴使得底板在透明板上移动，将透明板上的透明板棋格与底板上的底板棋格相重叠即 可；当需要下围棋和五子棋时，通过滑动轴使得底板在透明板上移动，将透明板上的透 明板棋格与底板上的底板棋格相错位即可。本实用新型能够大大方便人们下象棋、围棋 和五子棋，同时提高了棋盘的利用率。本实用新型的结构简单，设计合理，便于携带，使用方便，市场前景广阔。
图1是本实用新型实施例棋盘中透明板上的透明板棋格与底板上的底板棋格相 错位时的结构示意图，此时可以用于下围棋和五子棋。图2是本实用新型实施例棋盘中透明板上的透明板棋格与底板上的底板棋格相 重叠时的结构示意图，此时可以用于下象棋。
具体实施方式
以下结合附图并通过实施例对本实用新型作进一步的详细说明，以下实施例是对本实用新型的解释而本实用新型并不局限于以下实施例。实施例参见图1和图2，本实施例中的棋盘包括底板、上边框2、下边框3、左边框4、 右边框5、透明板6和滑动轴7，其中底板、上边框2、下边框3、左边框4和右边框5均 为塑料材质，底板和透明板6均为正方形结构。本实施例中的在底板和透明板6上分别设置有底板棋格和透明板棋格，该底板 棋格和透明板棋格相匹配，本实用新型中的底板棋格和透明板棋格对本领域技术人员来 说为公知常识。本实施例中的上边框2和左边框4分别固定在底板的上端和左侧，下边框3和右 边框5分别固定在透明板6的下端和右侧，本实用新型中底板的上端和左侧以及透明板6 的下端和右侧对本领域技术人员来说为公知常识。本实施例中的底板上设置有滑槽1，滑槽1的形状和大小与滑动轴7相匹配，透 明板6通过滑动轴7安装在底板上，滑动轴7与滑槽1相配合，使得透明板6能够在底板 上进行移动。本说明书中所描述的以上内容仅仅是对本实用新型结构所作的举例说明。本实 用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或 采用类似的方式替代，只要不偏离本实用新型的结构或者超越本权利要求书所定义的范 围，均应属于本实用新型的保护范围。
权利要求1.一种棋盘，其特征在于包括底板、上边框、下边框、左边框、右边框、透明板 和滑动轴，所述底板和透明板上分别设置有底板棋格和透明板棋格，该底板棋格和透明 板棋格相匹配，所述上边框和左边框分别固定在底板的上端和左侧，所述下边框和右边 框分别固定在透明板的下端和右侧，所述底板上设置有滑槽，所述透明板通过滑动轴安 装在底板上，所述滑动轴与滑槽相配合。
2.根据权利要求1所述的棋盘，其特征在于所述底板和透明板均为正方形结构。
3.根据权利要求1所述的棋盘，其特征在于所述底板、上边框、下边框、左边框 和右边框均为塑料材质。
专利摘要本实用新型涉及一种棋盘，尤其是涉及一种棋格可变换的多用棋盘，可用于进行象棋、围棋和五子棋的竞技比试。象棋、围棋和五子棋通常都有各自的棋盘，给棋类爱好者的下棋带来一定的不便。本实用新型的特征在于包括底板、上边框、下边框、左边框、右边框、透明板和滑动轴，所述底板和透明板上分别设置有底板棋格和透明板棋格，该底板棋格和透明板棋格相匹配，所述上边框和左边框分别固定在底板的上端和左侧，所述下边框和右边框分别固定在透明板的下端和右侧，所述底板上设置有滑槽，所述透明板通过滑动轴安装在底板上，所述滑动轴与滑槽相配合。本实用新型的结构设计合理，制造容易，使用方便，资源能够得到充分利用。
文档编号A63F3/02GK201791352SQ20102050790
公开日2011年4月13日 申请日期2010年8月29日 优先权日2010年8月29日
发明者杨捡 申请人:中国美术学院