独幅LOGO色织小提花面料的制作方法

本发明涉及一种提花面料呢，具体涉及一种独幅LOGO色织小提花面料，属于纺织用品技术领域。

背景技术：

大提花装造一般是一吊二、一吊四，因此花型花位受到装造的限制，不能实现独幅花面料，即使具有独幅的装造或采用抽针技术实现独幅花，其大提花设备投资高、织造效率低、用工多、工序复杂,多数厂家都难以大规模生产，且很少有客户能够接受高价格的面料，客户追求的是高性价比。大提花的花型除了受花位限制，其图案灵活，可千变万化，因此，品牌公司将logo字母织在大提花花型的底部，起到保护产品的作用。对于小提花而言，其花位不受限制，但是花型的变化受到提综规律及综页数的限制，如何保护小提花品种不被效仿，保护自己的产品。在现有技术中很难将大提花和小提花优势融为一体，本领域的技术人员也不断的尝试，该问题一直没有得到妥善解决。

技术实现要素：

本发明正是针对现有技术中存在的技术问题，提供一种独幅LOGO色织小提花面料，该技术方案采用剑杆多臂织机织制logo字母，突破仅有大提花生产logo的瓶颈，整幅只有一个花位循环，突破大提花受花位循环大小的限制。此外，纬纱采用有色铜纤维，花型色泽饱满，立体感强，面料大气精致，可提升面料的附加值。本发明兼具大提花与小提花的优势，突破瓶颈，获得具有保护产权作用的高性价比的面料。

为了实现上述目的，本发明的技术方案如下，独幅LOGO色织小提花面料，其特征在于，加工工艺具体如下：规格：经密571根/10cm，纬密244根/10cm，幅宽106英寸，经纱采用棉紧密纺40S，纬纱采用铜纤维32S；

（1）花型设计：为了将LOGO字母在多臂设备上以整幅的花型织造，LOGO的设计是关键，无论横排还是竖排要确保设计的LOGO字母要小于等于多臂织机的综框数。花型图案的开发，是一个复杂的综合因素实现的过程，包括花型图案的设计、区域的划分及大小、组织的选择，综合考虑多方因素进行全方位设计过程是该面料设计的重点及难点，试制过程中要解决产品花型图案的设计技巧，加上原料灵活变化，从而达到新颖独特的外观。

（2）花型的制作，根据设计方案在CAD软件中设计出花型，花型是独幅的，其花位循环等于门幅大小，宽度达250cm；给花型图1铺上相应的组织2/1和1/2斜纹，生成纹版，根据图案及纹版做上机纹版图，其局部纹版图如下：

（3）浆纱，浆纱以淀粉浆料为主，采用“高浓、低粘”的调浆工艺，采用定积法调浆，TM8010 100kg，磷酸酯淀粉25kg，ADC 25kg，蜡片3kg，抗静电剂2kg，防腐剂0.35kg，柔软剂2kg，定积780L，浆纱工艺中采用中压，浸透与被覆并重、小伸长的上浆路线；（4）穿综：史陶比尔自动穿综机；

（5）织造：利用Sliver剑杆织机20页综的19页综，开口量76mm、半清晰开口，后梁20mm、开口时间310度、引纬时间90度；

（6）后整理步骤：坯布翻缝——烧毛——精练退浆——氧漂——烘干——拉幅定型——轧光———预缩——成品。

相对于现有技术，本发明的优点如下：1）本发明整个技术方案设计巧妙，采用剑杆多臂织机织制logo字母，突破仅有大提花生产logo的瓶颈，整幅只有一个花位，突破大提花受花位大小的限制；2）此外，该技术方案中纬纱采用有色铜纤维，花型色泽饱满，立体感强，面料大气精致，可提升面料的附加值；3）该技术方案兼具大提花与小提花的优势，突破瓶颈，获得具有高性价比的面料；4）该技术方案成本较低，方便进行市场推广。

附图说明

图1、图2为本发明纹版制作结构示意图。

具体实施方式

为了加深对本发明的理解和认识，下面结合具体实施方式对本发明作进一步描述和介绍。

实施例1：

参见图1、图2，一种独幅LOGO色织小提花面料，规格：经密571根/10cm，纬密244根/10cm，幅宽106英寸。经纱采用紧密纺40S，纬纱采用铜纤维32S；

（1）花型设计，为了将LOGO字母在多臂设备上织造，在CAD软件中设计花型做成如图1所示，花型是独幅的，花位循环等于门幅大小；

（2）纹版的制作，在CAD中给花型图1铺组织2/1和1/2斜纹，生成纹版，根据图案及纹版做上机纹版图，其局部纹版图如下：

（3）浆纱，浆纱以淀粉浆料为主，采用“高浓、低粘”的调浆工艺，采用定积法调浆，TM8010 100kg，磷酸酯淀粉25kg，ADC 25kg，蜡片3kg，抗静电剂2kg，防腐剂0.35kg，柔软剂2kg，定积780L，浆纱工艺中采用中压，浸透与被覆并重、小伸长的上浆路线；

（4）穿综：史陶比尔自动穿综机；

（5）织造：利用Sliver剑杆织机20页综的19页综，开口量76mm、半清晰开口，后梁20mm、开口时间310度、引纬时间90度；

（6）后整理步骤：坯布翻缝——烧毛——精练退浆——氧漂——烘干——拉幅定型——轧光———预缩——成品。

需要说明的是上述实施例，并非用来限定本发明的保护范围，在上述技术方案的基础上所作出的等同变换或替代均落入本发明权利要求所保护的范围。