一种男性内裤托囊袋的压膜设备的制作方法

本实用新型涉及一种压膜设备，特别是一种内裤托囊袋的压膜设备。

背景技术：

现有技术中男性内裤的托囊袋有两种生产方法，一种为通过多块布料拼接缝合制成，导致缝合线外露，容易与皮肤进行摩擦，穿着不舒适，另一种为通过人工操作对每块布料进行热压，不仅托囊袋的形成空间较小，对人体器官仍然存在较大的压迫感，而且劳动强度大，产品合格率低，生产效率低，工伤事故率高，导致生产成本居高不下。

技术实现要素：

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种成型空间大、生产效率高的男性内裤托囊袋压膜设备。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种男性内裤托囊袋的压膜设备，包括固定基台和下压基台，所述固定基台的上端设置有若干压膜腔，所述下压基台的下端设置有若干外凸的压块，所述压块与所述压膜腔的形状一致，所述下压基台连接有带动其上下运动的动力机构。

所述下压基台连接有加热机构。

所述加热机构包括设置在所述下压基台上的加热片。

该男性内裤托囊袋的压膜设备还包括下压板，所述下压板设置有允许所述压块穿过的第一通孔，所述下压板设置有若干穿设在所述下压基台上的导向柱，所述导向柱内套设有复位弹簧，所述复位弹簧的一端与所述下压基台抵触。

所述下压基台设置有导向块，所述导向柱的上端穿过所述导向块后螺纹连接有螺母，所述导向块的下端与所述复位弹簧的上端抵触。

所述下压基台设置有位于所述导向块下端的导向缺口，所述导向柱的中部位于所述导向缺口内。

所述固定基台的上端面设置有垫片，所述垫片设置有允许所述压块穿过的第二通孔。

所述垫片的上表面设置有位于所述第二通孔外侧的布料放置线。

所述布料放置线为封闭的弧线，所述布料放置线内形成布料放置区。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的固定基台和下压基台一体灌注成型，固定基台的上端设置有若干压膜腔，下压基台的下端设置有若干与压膜腔形状一致的压块，压膜腔越大形成的托囊袋就越大，下压基台通过加热机构加热后，动力机构带动压块压入压膜腔内，能对多块布料同时进行热压，使布料塑性形变形成托囊袋，采用自动化设备，生产效率高，有效降低生产成本。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的主视图；

图2是本实用新型的侧视图；

图3是下压基台的仰视图；

图4是垫片的第一种实施方式；

图5是垫片的第二种实施方式。

具体实施方式

参照图1至图5，一种男性内裤托囊袋的压膜设备，包括固定基台1和下压基台2，固定基台1和下压基台2一体灌注成型，所述固定基台1的上端设置有若干压膜腔3，所述压膜腔3与内裤托囊袋的形状及大小一致，所述下压基台2的下端设置有若干外凸的压块4，所述压块4与所述压膜腔3的形状一致，压膜腔3越大形成的托囊袋就越大，所述下压基台2连接有带动其上下运动的动力机构5，所述下压基台2连接有加热机构，工作时，下压基台2通过加热机构加热后，动力机构4带动压块4压入压膜腔3内，能对多块布料同时进行热压，使布料塑性形变形成托囊袋，采用自动化设备，生产效率高，有效降低生产成本。

加热机构用于对压块4进行加热，对于本领域技术人员可根据实际安全操作要求选择现有技术中的加热技术，在本实施例中，所述加热机构包括设置在所述下压基台2上的加热片6，通过热传递对压块4进行加热。

为了提高产品的合格率，该男性内裤托囊袋的压膜设备还包括下压板7，所述下压板7设置有允许所述压块4穿过的第一通孔8，所述下压板7设置有若干穿设在所述下压基台2上的导向柱9，所述导向柱9内套设有复位弹簧，所述复位弹簧的一端与所述下压基台2抵触。下压时，下压板7先接触到布料，下压基台2继续下压与下压板7接触，复位弹簧被压缩，热压完成后，动力机构5带动下压基台2上升，复位弹簧带动下压板7复位回到初始位置。为了减少设备的占用空间，所述下压基台2设置有导向块10和位于所述导向块10下端的导向缺口12，所述导向柱9的上端穿过所述导向块10后螺纹连接有螺母11，所述导向块10的下端与所述复位弹簧的上端抵触，所述导向柱9的中部位于所述导向缺口12内。在本实施例中，下压基台2的四角各设置有一个导向块10和导向缺口12，下压板7的四角各设置有一个导向柱9，起到四角平衡的作用，工作更加平稳，有效保证产品合格率。

所述固定基台1的上端面设置有垫片13，垫片13为耐高温材质，所述垫片13设置有允许所述压块4穿过的第二通孔14。所述垫片13的上表面设置有位于所述第二通孔14外侧的布料放置线15。参照图4，垫片13第一种实施方式的布料放置线15为布料轮廓线的一部分，便于放置布料时进行定位；参照图5，垫片13第二种实施方式的布料放置线15为封闭的弧线，所述布料放置线15内形成布料放置区，便于放置布料时进行定位，有效提高产品的合格率。

以上的实施方式不能限定本发明创造的保护范围，专业技术领域的人员在不脱离本发明创造整体构思的情况下，所做的均等修饰与变化，均仍属于本发明创造涵盖的范围之内。