专利名称：釉面砖的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种釉面砖，特别是经过抛光处理的釉面砖。
背景技术：
普通建筑陶瓷砖由于没有经过抛光处理，光泽差、色彩单调，档次低。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种表面光滑细腻、色彩丰富的釉面砖。
为达到上述目的，本实用新型采用如下的技术方案本实用新型所述的釉面砖，在基板上覆盖有经过抛光处理的釉面层。
经过抛光处理的釉面层覆盖在基板的上表面和四周。
采用上述技术方案后，釉面光滑细腻、视觉、质感强烈，不存在任何吸污缺点，并且色彩、图案都能具备。
附图是本实用新型的一个实施例的结构示意图。
具体实施方式
如附图所示，本实用新型所述的釉面砖是在普通基板1上覆盖有经过3000目磨块抛光处理的釉面层2。
经过抛光处理的釉面层2覆盖在基板1的上表面和四周。
当然，为了降低生产成本，也可以仅对基板1的上表面进行抛光处理。
权利要求1.釉面砖，其特征在于在基板(1)上覆盖有经过抛光处理的釉面层(2)。
2.根据权利要求1所是述的釉面砖，其特征在于经过抛光处理的釉面层(2)覆盖在基板(1)的上表面和四周。
专利摘要本实用新型涉及一种釉面砖，特别是经过抛光处理的釉面砖。在基板上覆盖有经过抛光处理的釉面层。经过抛光处理的釉面层覆盖在基板的上表面和四周。经过抛光处理的釉面光滑细腻、视觉、质感强烈，不存在任何吸污缺点，并且色彩、图案都能具备。
文档编号E04F13/14GK2732891SQ20042011220
公开日2005年10月12日 申请日期2004年10月28日 优先权日2004年10月28日
发明者蒲鼎新 申请人:蒲鼎新