红外辐射反射层系统及其制造方法

专利名称：红外辐射反射层系统及其制造方法
红外辐射反射层系统及其制造方法 本发明涉及根据权利要求1的前序部分的红外辐射反射层系统及其根
据权利要求29的制造方法。
在房屋或车辆应用中，被涂覆基材起到重要作用。这里，被涂覆基材 具体是指大面积的玻璃板，必须将该玻璃板涂覆，然后安装作为房屋中的 建筑玻璃或车辆中的车用玻璃。
对这种玻璃的要求高。这种玻璃必须能透过足够的可见光，但往往不 允许UV光透过。该玻璃同时还用于热调节，这通过在玻璃上涂覆导电性 高的层来实现，所述层通常是具有极低辐射发射系数的金属，例如Cu、 Ag、 Au。这些包括作为红外辐射反射层的至少一个Cu、 Ag或Au层的层 系统还被称作低e (低发射率或低发射)层，因为这种层系统仅将较低量 的室内热辐射输出到户外。
由于这些低e层的光反射(通常过高)，向这些层提供充当抗反射层 的其它透明涂层。通过应用这些透明层，还可以设定玻璃板的期望色调。 涂覆在红外辐射反射层上的层还可用于使层系统具有高化学和机械耐性。
除了惯常的机械和化学负荷以外，如此制造的玻璃板(如果不被弯曲 和/或回火)还必须在不损坏的前提下耐受温度和弯曲过程。
在可见光区具有高透射性质并且在热辐射区具有高反射性质的不透明 材料板及其制造方法是已知的(DE 195 20 843 Al)。在该材料板上涂覆 包括数个层的涂层，其中Ag适合形成红外辐射反射层。这里，对具有涂 层的材料板不进行回火或弯曲。
具有至少一个金属涂层和其它电介质涂层的被涂覆基材也是已知的 (EP 1 089 947 Bl)。这里，仅对被涂覆涂层热处理一次。为了保护金属 层，在涂覆工艺中将金属层夹在基于部分氧化金属子层之间。这种被涂覆 基材的构造可使其被回火或弯曲。为此目的，在每次热处理之前，向电介 质涂层提供子层，该子层基于部分氧化的两种金属的组合。
在基材上涂覆多层系统，该系统也是可回火且可弯曲的，这种系统也
是已知的(US 6 576 349 B2、 US 6 686 050 B2)。该多层系统包括两个红 外辐射反射层，其中每个反射层夹在两个NiOOx层之间。
在涂覆之后进行回火和弯曲的热绝缘层系统也是已知的(DE 198 50 023 Al或EP 0 999 192 Bl)。该层系统包括布置在1102层上的惰性金属 层，这两个层夹在低氧化的NiCrOx之间。
基于DE 198 50 023 Al，本发明的目的是解决在基材上制造可回火和 可弯曲的涂层的问题，所述涂层包括至少一个红外辐射反射层，其中在回 火过程中，防止了金属层(例如Ag)被渗透到其中的氧或Na+离子进攻。
上述问题被权利要求1或29的特征部分所解决。
因此，本发明涉及用于玻璃板等的红外辐射反射层系统，即使在热处 理(例如对玻璃板进行弯曲或回火)之后仍能保持层系统的性质。使用银 层作为合适的红外辐射反射层。作为银层的下阻挡层(siibblocker)，使用 NiCr(X和ZnA10x的组合。此外，引入化学计量层作为预阻挡层 (preblocker)。对于TiOxNy第一电介质层，选择特殊的操作点。影响涂 层回火能力的重要因素是层厚度的匹配、作为双下阻挡层的NiCrOx和 ZnA10j勺氧化程度以及TiOxNy基层的操作点
本发明提供了一种涂层，该涂层在回火工艺之后也能保持颜色中性。
为了使氧在回火过程中(即在加热随后冷却过程中)无法从外部渗透 到红外辐射反射层内，在基材上直接布置两个电介质层。
第一电介质层不仅用作氧阻挡层，还确保回火后光学参数的稳定性。 优选使用Ti02或TiOxNy层，因为此时可确保被涂覆基材具有优异的机械 稳定性。
在第一电介质层上涂覆第二电介质层。第二电介质层(优选Si3N4) 作为预阻挡层。由于该预阻挡层具有精确定义的化学计量，因此具有十分 优异的不透氧性。
在该层上涂覆阻挡层，优选NiCrOx。另外，使用预阻挡层的优点是不 再需要精确设定NiCrOx层的氧含量。
通过预阻挡层(例如Si3N4)、阻挡层(例如NiCrOx)和粘合促进剂
(例如ZnA10x)的组合，可使系统获得回火前后的色中性、化学和机械 稳定性以及热负荷能力。
由于第一层，特别地当是TiOxNy时， 一方面，被涂覆基材的色中性被 保持，另一方面，作为预阻挡层的第二电介质层的涂覆防止氧或其它物质 (例如Na+离子)渗透到后续的层中。从而确保被涂覆基材的化学耐性以 及机械耐性得到保持。
如果将第一电介质层与预阻挡层顺序互换，则可以省略阻挡层。 由于层序列中不存在阻挡层，可以获得非常高的透射率。 本发明的实施例示于附图，下面将进行详细描述。
在附图中


图1示出了布置在基材上的具有红外辐射反射层的涂层系统；
图2示出了图1所示的涂层系统的一种变化；
图3示出了图l所示的涂层系统的另一种变化；
图4示出了布置在基材上的具有两个红外辐射反射层的涂层系统。
图1示出了布置在基材1上的涂层系统2。该涂层系统2包含数个层 3-9，并通过溅射工艺顺序溅射层3-9中的每个层来制造。
在基材l (优选玻璃)上，通过反应性溅射涂覆第一电介质层3。层3 包含电介质，例如ZnO、 Sn02、 ln203、 Bi203、 Ti02、 Zr02、 Ta205、 Si02、 A1203、 A1N、 S"N4或TiOxNy，但优选Ti02、 S,或TiOxNy。确已 发现，TiOxNy和Ti02化合物是特别有利的，因为被涂覆衬底1在回火后 提供特别优异的颜色稳定性，与用除TiOxNy或Ti02以外的化合物涂覆的 基材相比，期望的化学或机械耐性被保持甚至提高。
通过金属靶的过渡模式下的反应性溅射来获得TiOxNy。在此情况下， 溅射优选采用MF技术进行，通常采用稳定化调节装置，例如氧传感器或 PEM (等离子体发射测量装置)。
然而，如果用Ti02形成层3，则Ti02也可由陶瓷TiOx靶溅射。尽管 少量的氧气被加入氩气，但此处的溅射不包括反应性溅射。溅射通过MF
或DC技术来进行，DC技术是成本效率较高的一种技术。在此工艺中不 出现迟滞特性或过渡模式。
如果选择TiOxNy作为布置在基材1上的第一层3，则必须在该层3上 布置另一个电介质层4，以使氧或钠离子无法渗透到上方的层中。
除了 TiOxNy以外，上覆在层3上的层4可包含层3中所含的化合物中 的一种。然而，优选使用Si3N4或Ti02。因此，层4由于仅包含化学计量 化合物并在阻挡层前被布置而作为预阻挡层，从而防止氧渗透到上方各层 中或者至少明显降低氧扩散。这使得上方各层的化学计量并不关键。
层4防止氧或钠离子渗透到上层5-9中，由此被涂覆基材的化学和机 械耐性在回火后也被保持。
然而，如果层3由化学计量化合物组成，则其上涂覆的第二电介质层 4是多余的，因为层3已经具有了对氧或钠离子的阻挡性。但仍然可以任 选地在层3上涂覆层4。
层3和4的总厚度约为25 nm，层3的厚度约为15-19 nm，因而总是 大于层4的厚度。
在层4上涂覆层5。层5作为氧阻挡层，该层可由Ti、 TiOx、 Cr、 CrOx、 Nb、 NbOx、 NiCr或NiCrOx组成，但优选由NiCr或NiCrOx组成。 确切地，当该层是组分NiCrOx的非化学计量层时，由于氧会结合到NiCr 金属晶格缺陷中，因此该层对氧的阻挡性质肯定较好。该层5的层厚度约 为3-6 nm。
在层5上，通过反应性溅射涂覆另一个层6。该层6包含TaOx、 ZnOx、 ZnTaOx或ZnA10x，其中优选ZnA10x。
涂覆ZnA10x的一种方法包括采用MF技术溅射金属靶。该金属靶包 含Al以及Zn。
ZnA10x优选通过溅射陶瓷靶获得。因为此ZnAKX层为亚化学计量 层，所以溅射可在Ar气氛下发生，其中少量的02被加入Ar。然而，也可 以在纯氩气氛下进行溅射。
如果要使ZnAlOx层具有低吸收率(例如吸收率为1-2%)，则优选添 加少量02。
与层5的化合物相比，TaOx、 ZnOx、 ZnTaOx或ZnA10x不仅具有阻氧 性，还对其上涂覆的红外辐射反射层具有良好的粘合性。这些红外辐射反 射层优选包含元素周期表第一副族的金属或者这些金属中的至少一种的合 金。如果红外辐射发射层被涂覆在NiCrOx层上，则此NiCrOx层的氧含量 无需精确设定。如果氧含量过低，则NiCrOx层金属性太强并且对涂覆的 金属层7的粘合强度太低。另一方面，如果氧含量过高，则NiCrOx层的阻 氧性不佳。
如果氧含量过高，则低氧化层NiCr(X在回火过程中不能吸收足够的 氧。因此，氧会渗透到红外辐射反射层中，以使此金属层的化学耐性变 差。通过涂覆第二阻挡层(层6)可以避免这些问题。对于层6，优选使 用ZnAlOx，通过反应性溅射涂覆。与常用(例如DE 195 20 843 Al)且同 样具有良好的粘合强度的ZnOx相比，ZnA10x的优点是在回火过程中也能 保持对红外辐射反射层的粘合强度。
因为厚度很小的层6即足以获得红外辐射反射层的良好生长，所以约 lnm的层厚度即足够。
在层6上涂覆红外辐射反射层7。此红外辐射反射层包含元素周期表 第一副族的金属或这些金属中的至少一种的合金。然而，红外辐射反射层 优选包含Ag， Ag通过在氧气下溅射涂覆。结合到Ag层中的氧使其具有 良好的化学耐性。这些Ag层的厚度约为11-13 nm。
在Ag层7上再次涂覆阻挡层8。层8优选包含NiCrOx，而Ti、 TiOx、 Cr、 CrOx、Nb、 NbOx或NiCr也可形成层8。
层8的厚度约为3-6 nm。电介质层9作为最后一层，层9可包含第二 电介质层4也包含的一种元素。如图1所示，层9优选由Si3N4组成。层9 的厚度约为30-45 nm。
与其它层系统相比，图l所示的层系统具有以下优点
包含TiOxNy的层3确保被涂覆基材可在回火过程中弯曲而不劣化其机 械和化学耐性。Ti02中的氮减少了应力，对于较厚的层，这有利于尽可能 减少涂层中的裂纹和微孔。
用作预阻挡层的层4减少了钠离子和氧到上方各层5-9中的渗透。
在包含NiCrOx的层5上涂覆粘合层6，粘合层6同时也作为阻挡层。 因此无需精确设定NiCrOx层的氧含量。该层6优选包含ZnA10x。
层6具有良好的对红外辐射反射层7的粘合强度。
由于SisN4与Ag彼此粘合较差，因此必须在其间涂覆至少一个其它材 料层作为粘合促进剂。ZnA10x可以很薄以致于不能形成封闭的层，因此必 须额外地在SisN4与Ag之间设置另一种材料。该材料是Ti02或Ti(XNy或 NiCrOx。采用"玻璃/Si3N/Ti02/Ag ... TiOxNy"结构，可以省略Ag下的 NiCrOx，因此在两个低e银涂层的整套涂覆设备中，可以省略具有相关的 气体分离装置的两个涂覆台，从而节省空间和成本。也可以在层系统的每 个位置上使用Ti(XNy来代替Ti02。
与其上布置Ag层的其它层相比，由于层6具有良好的粘合强度，因 此图1中的布置在ZnA10x上的Ag层7可以具有很小的层厚度。
尽管层厚度相当小，但Ag层因保持了表面电阻率而具有很好的红外 反射性。这不仅仅是因为Ag层可以在ZnA10x层上最好地生长。
图2示出了图1所示被涂覆基材1的一种变化。与图1的涂层系统2 相比，在涂层系统10上涂覆另一个层11。该层11包含ZnO、 Sn02、 ln203、 Bi203、 Ti02、 Zr02、 Ta205、 Si02、 A1203、 A1N或Si3N4或由其组 成，但其中优选Si3N4或Ti02。作为覆层，Ti02改善了层系统IO的化学耐 性。
由于层9包含SisN4，通过反应性溅射用Ti02涂覆层11。然而，也可 以通过溅射陶瓷靶来涂覆层11。由于层9上已涂覆了另一个层11，因此 层9的厚度可以减小。层9和11的总厚度可优选为约37-44 nm。这带来 的优点是，通过涂覆不同组成的两个电介质层9和11，化合物的性质得到 相互补充。
下面将描述涂覆各个层的工艺。
层系统10的层3-9和11或图1中的层系统2的层3-9优选通过反应性 溅射和/或溅射陶瓷靶来涂覆。虽然也可通过在氩气中溅射相应的金属靶来 涂覆层5、 6、 7、 8，但在含有少量氧气的氩气中涂覆是有利的，例如对于 Ti、 M 、 Cr、 Ag、 NiCr，原因是层5、 6、 8 (如果由低氧化化合物组成)
具有更好的阻氧性；而结合氧的Ag层与纯Ag层相比化学耐性得到改善。
尽管银层有时通过添加氧气来溅射，但该过程不能被认为是反应性溅 射。当通过添加氧气溅射时，等离子体放电不取决于氧气。靶表面基本上 是金属性的，其放电行为类似于金属溅射工艺。溅射的层可被认为是掺氧 层，即基本上由银组成并包含百分比很小的氧化银。工艺气体包含的氧显 著小于10%，氧分数为1-5%。为了实现反应性溅射银，要求工艺气体中 的氧分数至少为50%。实际上，反应性沉积的氧化银层应当是暗黑色。
所有层的溅射工艺在约2X l(T3 -5X 10-3 mbar的压力下进行。向惰性气 体(优选Ar)中添加反应性气体，优选02或N2。 Ar : 02比优选为3:1， 如果制造该层还需要N2，例如对于TiOxNy层，则02:N2比为5:1。
已发现，上述压力以及气体相对比对于制造这些层的溅射工艺来说是 最佳的，但是也可以采用其它压力和其它组成的气体混合物进行溅射工 艺。
除了上述两个参数以外，发生溅射的功率也具有重要作用。
图3示出了图1所示的涂层系统2的另一种变化。在图3所示的涂层
系统29中，直接布置在基材1上的是层4而非层3。因此，层3和4的位
置互换。
虽然图3中的层3包含TiOxNy,但层3也可包含Ti02。由于现在层3 不再布置在基材1上，化学和机械耐性降低。然而，这种布置方式可以省 略层5 (NiCrOx阻挡层)，因为ZnA10x层对TiOxNy层的粘合性要好于对
Si3N4层的粘合性。
与图l或2所示的涂层系统2相比，在该涂层系统29中，通过省略第 一阻挡层，可以有利地提高透射率。
因此，如果需要提高透射率并对机械和化学耐性要求不高时，该涂层 系统是有利。
尽管图3中未示出，但与图2类似，可在层9上涂覆另一层11，层 ll优选包含Ti02。
图4示出了布置在基材12上的具有两个红外辐射发射层18、 25的涂 层系统13。如图4所示，层14-21与图2所示的涂层系统IO在组成和顺序上没有 区别。在层21上涂覆另外七个层，即层22-28。层25是额外涂覆的红外 辐射反射层。
溅射在层21上的层22-28具有与层15-21相同的组成和顺序。因此， 在基材12被涂覆第一电介质层14之后，连续两次以Si3N4、 NiCrOx、 ZnA10x、 Ag、 NiCrOx、 Si3N4、 Ti02的顺序涂覆各层。由此使只有一个红 外辐射反射层的涂层系统变成具有两个红外辐射反射层的涂层系统13。
显然，除TiOxNy层以外，涂层系统13原则上包括两个层叠的涂层系 统10。其优点是，在溅射工艺中可以使用相同的靶材。如果基材12上已 涂覆层14-21，则涂覆工艺可简单地重复，而无需更换全新的不同靶材。
图4示出了具有两个红外辐射反射层18、 25的优选涂层系统13，其 组成也可以变化。
尽管层14优选由TiOxNy组成，但层14也可包含ZnO、 Sn02、 ln203、 Bi203、 Ti02、 Zr02、 Ta205、 Si02、 A1203、 AlN或SisN4。
相反地，层15、 20、 21、 22、 27、 28可包含下列化合物的至少一 种Si3N4、 AIN、 A1203、 Si02、 Ta205、 Zr02、 Ti02、 Bi203、 ln203、 Sn02 和/或ZnO。这些层通过反应性溅射或通过溅射相应的陶瓷靶来涂覆。
层16、 19、 23、 26可包含Ti、 TiOx、 Cr、 CrOx、 Nb、 NbOx、 NiCr或 NiCrOx。粘合层17、 24包含TaO、 ZnOx、 ZnTaOx或ZnA10x。
虽然红外辐射反射层18、 25优选包含Ag，但它们也可包含Cu、 Au 或这些金属的合金。
涂层系统13的层厚度与图1-3中所示的仅具有一个红外辐射反射层的 涂层系统的层厚度差别极小。
只有层20-22的厚度存在差别。虽然层20-22的厚度各有不同，但这 些层20-22的厚度之和约为70-90 nm。
层20-22的材料可互换，因此层21可包含Si3N4，层20、 22可包含 Ti02。
也可以只在NiCrOx层19与23之间布置两个层甚至仅布置一个层。例 如，如果在两个NiCrOx层19与23之间布置两个层，在其中一个层例如可
由Ti02组成而另一个层由SisN4组成。层的顺序并不关键。
在该涂层系统13中，层15也可与层14互换。由于此时层15布置在 基材12上，因此化学和机械耐性事实上降低，但可以省略层16和23，从 而提高涂层系统13的透射率。
具有多于两个的红外辐射反射层的涂层系统也是可以想到的。应当考 虑到，与具有两个红外辐射反射层的涂层系统相比，只有一个红外辐射反 射层的涂层系统的可见光透射率大约高5-10%。因此，透射率随着红外辐 射反射层数的增多而降低。然而，具有两个红外辐射反射层的涂层系统的 优点是IR反射率几乎提高了 100%。因此，具有两个红外辐射反射层的涂 层系统在最小的透射率损失下提供了很好的热调节性。
这些系统的选择性明显较高，选择性S以下式计算
S ＝ Tvis/TlR
其中，Tvi＝可见光区的透射率，TIR=红外区的透射率。
权利要求
1. 红外辐射反射层系统，特别是用于将被弯曲和/或回火的玻璃板的红外辐射反射层系统，所述层系统具有至少一个红外辐射反射层，包括a)布置在基材(1，12)上的第一电介质层(3，14)，然后是b)第一阻挡层(5，16)，c)粘合中间层(6，17，24)，d)红外辐射反射层(7，18，25)，e)第二阻挡层(8，19，26)，以及f)第二电介质层(9，20，27)，其特征在于在第一电介质层(3，14)与第一阻挡层(5，16)之间布置预阻挡层(4，15)。
2. 如权利要求1的层系统，其特征在于第一电介质层(3， 14)由 ZnO、 Sn02、 ln203、 Bi203、 Ti02、 Zr02、 Ta205、 A1203、 AIN、 Si3N4和/ 或TiOxNy组成或包含这些物质。
3. 如权利要求2的层系统，其特征在于第一电介质层(3， 14)是 TiOxNy。
4. 如权利要求2的层系统，其特征在于第一电介质层(3， 14)是 Ti02。
5. 如权利要求1的层系统，其特征在于第一和第二阻挡层(5， 8， 16， 19， 23， 26)由TiOx、 Ti、 Ni、 Cr、 NiCr、 Nb、 NbOx、 CrOx和/或 NiCrOx组成或包含这些物质。
6. 如权利要求1的层系统，其特征在于粘合中间层(6， 17， 24) 由ZnOp TaOx、 ZnTaOx和/或ZnAlOx组成或包含这些物质。
7. 如权利要求1的层系统，其特征在于红外辐射反射层(7， 18， 25)由元素周期表第一副族的金属组成和/或由这些金属中的至少一种的合 金组成或包含这些物质。
8. 如权利要求6的层系统，其特征在于红外辐射反射层(7， 18， 25)由Ag组成或包含Ag。
9. 如权利要求7或8的层系统，其特征在于红外辐射反射层(7， 18， 25)包含氧。
10. 如权利要求1的层系统，其特征在于第二电介质层(9， 20， 27)由Si3N4、 Ti02、 A1N、 A1203、 Si02、 Ta2Os、 Zr02、 Bi203、 ln203、 Sn02和/或ZnO组成或包含这些物质。
11. 如权利要求1的层系统，其特征在于预阻挡层(4， 15)被化学 计量地构造。
12. 如权利要求11的层系统，其特征在于预阻挡层(4， 15)由 Ti02和/或Si3N4组成或包含这些物质。
13. 如权利要求1的层系统，其特征在于在第二电介质层(9， 20，27) 上布置另一层(11， 21， 28)。
14. 如权利要求13的层系统，其特征在于所述另一层(11， 21，28) 由Ti02组成或包含Ti02。
15. 红外辐射反射层系统，特别是用于将被弯曲和/或回火的玻璃板的 红外辐射反射层系统，所述层系统具有至少一个红外辐射反射层，包括a) 布置在基材(1， 12)上的第一预阻挡层(4， 15)，然后是b) 第一电介质层(3， 14)，c) 粘合中间层(6， 17， 24)，d) 红外辐射反射层(7， 18， 25)，e) 阻挡层(8， 19， 26)，以及f) 第二电介质层(9， 20， 27)。
16. 如权利要求15的层系统，其特征在于在第二电介质层(9， 20， 27)上布置另一层(11， 21， 28)。
17. 如权利要求16的层系统，其特征在于所述另一层(11， 21， 28)由Ti02组成或包含Ti02。
18. 如权利要求15的层系统，其特征在于第一电介质层(3， 14) 由ZnO、 Sn02、 ln203、 Bi203、 Ti02、 Zr02、 Ta205、 A1203、 AIN、 Si3N4 和/或TiOxNy组成或包含这些物质。
19. 如权利要求18的层系统，其特征在于第一电介质层(3， 14) 是TiOxNy或包含TiOxNy。
20. 如权利要求18的层系统，其特征在于第一电介质层(3， 14) 是Ti02或包含Ti02。
21. 如权利要求15的层系统，其特征在于阻挡层(8， 19， 26)由 TiOx、 Ti、 Ni、 Cr、 NiCr、 Nb、 NbOx、 Cr(^和/或NiCr(X组成或包含这些 物质。
22. 如权利要求15的层系统，其特征在于粘合中间层(6， 17， 24)由ZnOx、 TaOx、 ZnTaOx和/或ZnA10x组成或包含这些物质。
23. 如权利要求15的层系统，其特征在于红外辐射反射层(7， 18， 25)由元素周期表第一副族的金属组成和/或由其合金组成或至少包含 这些金属中的一种。
24. 如权利要求23的层系统，其特征在于红外辐射反射层(7， 18， 25)由Ag组成或包含Ag。
25. 如权利要求24的层系统，其特征在于红外辐射反射层(7， 18， 25)包含氧。
26. 如权利要求15的层系统，其特征在于第二电介质层(9， 20， 27)由Si3N4、 Ti02、 A1N、 A1203、 Si02、 Ta205、 Zr02、 Bi203、 ln203、 Sn02和/或ZnO组成或包含这些物质。
27. 如权利要求15的层系统，其特征在于预阻挡层(4， 15)被化 学计量地构造。
28. 如权利要求27的层系统，其特征在于预阻挡层(4， 15)由 1102和/或Si3N4组成或包含这些物质。
29. 制造用于经弯曲和/或回火的玻璃板的红外辐射反射层系统的方 法，包括以下步骤a) 提供基材(1， 12)，b) 在基材(1， 12)上涂覆第一电介质层(3， 14)，c) 在第一电介质层(3， 14)上涂覆预阻挡层(4， 15)，d) 在预阻挡层(4， 15)上涂覆第一阻挡层(5， 16， 23)，e) 在第一阻挡层(5， 16， 23)上涂覆粘合中间层(6， 17， 24)， f) 在粘合中间层(6， 17， 24)上涂覆红外辐射反射层(7， 18，25) ，g) 在红外辐射反射层(7， 18， 25)上涂覆第二阻挡层(5， 19，26) ，h) 在第二阻挡层(5， 19， 26)上涂覆第二电介质层(9， 20，27) 。
30. 如权利要求29的方法，其特征在于第一电介质层(3， 14) Ti02 和/或TiOxNy是通过溅射陶瓷耙涂覆的。
31. 如权利要求29的方法，其特征在于第一电介质层(3， 14) Ti02 禾口/或TiOxNy是通过反应性溅射涂覆的。
32. 如权利要求29的方法，其特征在于第一和第二阻挡层(5， 8， 16， 19， 25， 26) Ti、 Ti02、 Ni、 Cr、 NiCr、 Nb、 CrOx、 NbOx和/或 NiCrOx是通过反应性溅射涂覆的。
33. 如权利要求29的方法，其特征在于第一和第二阻挡层(5， 8， 16， 19， 25， 26) Ti、 TiOx、 Ni、 Cr、 NiCr、 Nb、 CrOx、 NbOx和/或 NiCKX是在氩气中通过溅射陶瓷耙或金属耙涂覆的。
34. 如权利要求29的方法，其特征在于粘合中间层(6， 17， 24) ZnA10x是通过反应性溅射金属靶涂覆的。
35. 如权利要求29的方法，其特征在于粘合中间层(6， 17， 24) ZnA10x是通过溅射陶瓷靶涂覆的。
36. 如权利要求29的方法，其特征在于红外辐射反射层是在添加最 少量的氧气的同时通过溅射涂覆的。
37. 如权利要求29的方法，其特征在于第二电介质层(9， 21) Ti02、 Si3N4、 A1N、 A1203、 Si02、 Ta205、 Zr02、 Bi203、 ln203、 Sn02和/ 或ZnO是通过反应性溅射涂覆的。
38. 如权利要求29的方法，其特征在于第二电介质层(9， 21) Ti02、 Si3N4、 AIN、 A1203、 Si02、 Ta205、 Zr02、 Bi203、 ln203、 Sn02禾口/ 或ZnO是通过溅射陶瓷耙涂覆的。
39. 如权利要求29的方法，其特征在于通过反应性溅射在第二电介 质层(9， 20， 27)上涂覆另一个电介质层(21， 22)。
40. 如权利要求29的方法，其特征在于通过溅射陶瓷靶在第二电介 质层(9， 20， 27)上涂覆另一个电介质层(21， 22)。
41. 如权利要求29的方法，其特征在于重复步骤d)至h)。
全文摘要
本发明涉及一种用于玻璃板及其类似物的红外辐射反射层系统，所述层系统的性质即使在热处理(例如，对玻璃板进行弯曲或硬化)之后也能保持。使用银作为红外辐射反射层。使用NiCrO_x和ZnAlO_x的组合作为银层的下层阻挡层。另外，还使用化学计量层作为预阻挡层。对于第一电介质层TiO_xN_y选择特定的操作条件。对于涂层的可回火性，重要的是调节各层的厚度和作为下层阻挡层的NiCrO_x和ZnAlO_x的氧化程度以及TiO_xN_y基层的操作条件。
文档编号C03C17/36GK101384516SQ200780006001
公开日2009年3月11日 申请日期2007年2月15日 优先权日2006年3月3日
发明者斯万·斯拉莫, 格德·克雷德依特, 迈克尔·格斯勒, 雨朵·施雷伯 申请人:应用材料合资有限公司