专利名称：一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃。
背景技术：
现有的玻璃，在镀相关功能膜后、钢化处理前，通常会粘贴一 PE保护膜或直接撒隔离粉。在钢化处理时，再去掉PE保护膜或隔离粉，工艺复杂，故有必要对现有产品作出改进，以提供一种可简化钢化处理工艺的高透单银低辐射玻璃。
发明内容
本发明的目的在于提供一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，其可简化钢化工艺，利于钢化处理而又不影响光学性能。一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，包括玻璃基材，其特征在于还包括由下而上依次设于玻璃基材上表面的一 TiO2介质层、一 NbOx折射层、一 CrNx阻挡层、一 AZO平整层、一降福射镀Ag层、一 CrNxOy膜层、一 SnO2保护层、以及一 C膜层。作为上述方案的一种改进，所述TiO2介质层的厚度为l(T30nm。作为上述方案的进一步改进，所述NbOx折射层的厚度为5 10nm。作为上述方案的进一步改进，所述CrNJ且挡层的厚度为0. 5 3nm。防止Ag被氧化。作为上述方案的进一步改进，所述AZO平整层的厚度为5 20nm。平滑所述CrNx阻挡层，为Ag层作铺垫，降低辐射率。作为上述方案的进一步改进，所述降辐射镀Ag层的厚度为疒10nm，可大大降低红外辐射。作为上述方案的进一步改进，所述CrNxOy膜层的厚度为0. 5飞nm。可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。作为上述方案的进一步改进，所述SnO2保护层的厚度为2(T50nm。耐腐蚀性好。作为上述方案的进一步改进，所述C膜层的厚度为l(T20nm。本发明具有如下优点本发明于最外层设有C膜层，在钢化处理前，该C膜层可以防止镀膜玻璃被划伤，而在钢化过程中又会被完全燃烧，从而不影响镀膜玻璃的光学性能，钢化后其透光率达83%，辐射率小于0. 08。与传统相比，无需粘贴PE保护膜或撒隔离粉，在钢化处理时，可省去撕掉PE保护膜或去掉隔离粉的工艺，可简化钢化工艺，利于钢化处理而又不影响光学性能。
图I为本发明结构剖视图。
具体实施例方式如图所示，一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，包括玻璃基材I、以及由下而上依次设于玻璃基材I上表面的一 TiO2介质层2、一 NbOx折射层3、一 CrNx阻挡层4、一AZO平整层5、一降福射镀Ag层6、一 CrNxOy膜层7、一 SnO2保护层8和一 C膜层9。所述TiO2介质层2的厚度为l(T30nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射陶瓷钛靶，用氧气作反应气体，将靶材上的材料打到玻璃基材表面，最终形成TiO2介质层。所述NbOx折射层3的厚度为5 10nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射陶瓷铌靶，最终在TiO2介质层表面形成NbOx折射层。所述CrNx阻挡层4的厚度为0. 5 3nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射铬靶，用氮气作反应气体，最终在NbOx折射层表面形成CrNx阻挡层，防止Ag被氧化。所述AZO平整层5的厚度为5 20nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用中频交流电源溅射陶瓷Zn (AZO)祀，最终在CrNx阻挡层表面形成AZO平整层，为Ag层作铺垫，降低辐射率。所述降辐射镀Ag层6的厚度为7 10nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射银靶，最终在AZO平整层表面形成降辐射镀Ag层。所述CrNxOy膜层7的厚度为0. 5飞nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射铬靶，用氮气做反应气体，渗少量氧气，最终在降辐射镀Ag层表面形成CrNxOy膜层，可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。所述SnO2保护层8的厚度为2(T50nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射锡靶，用氧气作反应气体，最终在CrNxOy膜层表面形成SnO2保护层，耐腐蚀性好。所述C膜层9的厚度为l(T20nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电流溅射石墨靶，最终在SnO2保护层表面形成C膜层。在钢化处理前，该C膜层可以防止镀膜玻璃被划伤，而在钢化过程中又会被完全燃烧，从而不影响镀膜玻璃的光学性能。以上所述仅为本发明的较佳实施例，并非用来限定本发明实施的范围，凡依本发明专利范围所做的同等变化与修饰，皆落入本发明专利涵盖的范围。
权利要求
1.一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，包括玻璃基材，其特征在于还包括由下而上依次设于玻璃基材上表面的一 TiO2介质层、一 NbOx折射层、一 CrNx阻挡层、一 AZO平整层、一降福射镀Ag层、一 CrNxOy膜层、一 SnO2保护层、以及一 C膜层。
2.根据权利要求I所述的一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，其特征在于所述TiO2介质层的厚度为10 30nm。
3.根据权利要求I所述的一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，其特征在于所述NbOx折射层的厚度为5 10nm。
4.根据权利要求I所述的一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，其特征在于所述CrNx阻挡层的厚度为O. 5 3nm。
5.根据权利要求I所述的一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，其特征在于所述AZO平整层的厚度为5 20nm。
6.根据权利要求I所述的一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，其特征在于所述降辐射镀Ag层的厚度为7 10nm。
7.根据权利要求I所述的一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，其特征在于所述CrNxOy膜层的厚度为O. 5 5nm。
8.根据权利要求I所述的一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，其特征在于所述SnO2保护层的厚度为2(T50nm。
9.根据权利要求I所述的一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，其特征在于所述C膜层的厚度为l(T20nm。
全文摘要
一种利于钢化处理的高透单银低辐射玻璃，包括玻璃基材，其特征在于还包括由下而上依次设于玻璃基材上表面的一TiO2介质层、一NbOx折射层、一CrNx阻挡层、一AZO平整层、一降辐射镀Ag层、一CrNxOy膜层、一SnO2保护层、以及一C膜层。本发明可简化钢化工艺，利于钢化处理而又不影响光学性能。
文档编号C03C17/36GK102951855SQ201210487399
公开日2013年3月6日 申请日期2012年11月26日 优先权日2012年11月26日
发明者杨柳, 刘昕 申请人:中山市创科科研技术服务有限公司