玻璃表面刻蚀装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种玻璃表面刻蚀装置，包括玻璃输送装置、蚀刻气体发生装置以及至少一组由非接触式蚀刻箱体单元和背部盖板组成的刻蚀主体，所述的玻璃输送装置位于非接触式蚀刻箱体单元和背部盖板之间；非接触式蚀刻箱体单元内设置有蚀刻气体输入管道，蚀刻气体发生装置的蚀刻气体输出口与蚀刻气体输入管道相连通，在蚀刻气体输入管道上接有向玻璃片喷射刻蚀气体且能够覆盖整个玻璃片表面的喷嘴。由于非接触式蚀刻箱体单元内设置有与蚀刻气体发生装置相连的蚀刻气体输入管道，蚀刻气体输入管道上连接有能够喷出蚀刻气体的喷嘴，且喷嘴能够覆盖玻璃片，因此，所以本实用新型能够在普通玻璃片生产线上使用，且能够对大面积普通玻璃片进行蚀刻。
【专利说明】玻璃表面刻蚀装置
【技术领域】
[0001]本实用新型属于平板玻璃制造领域，具体涉及一种玻璃表面刻蚀装置。
【背景技术】
[0002]通过熔融工艺制造的玻璃片具有非常光滑的表面，在生产过程中不会对在玻璃片上将要设置的显示元件(例如薄膜晶体管和滤光片等)主表面造成伤害。工作人员发现，在实际中越光滑的表面越容易在加工过程中产生静电，而对玻璃表面进行刻蚀以降低其光滑度可以降低静电发生的可能性，因此，可以在不影响玻璃光学特性的前提下对玻璃进行蚀亥|J。现有技术中虽然也有用于玻璃表面刻蚀的装置，但是由于该装置只能在真空环境下应用，操作环境要求严格，且仅适用几十平方厘米的光伏玻璃片的蚀刻，不能适用于大面积的普通玻璃板的蚀刻。
实用新型内容
[0003]本实用新型的目的在于提供了 一种玻璃表面蚀刻装置，该装置在普通玻璃片生产线上使用，且能够对大面积普通玻璃片进行蚀刻。
[0004]为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是:包括玻璃输送装置、蚀刻气体发生装置以及至少一组由非接触式蚀刻箱体单元和背部盖板组成的刻蚀主体，所述的玻璃输送装置位于非接触式蚀刻箱体单元和背部盖板之间；非接触式蚀刻箱体单元内设置有蚀刻气体输入管道，蚀刻气体发生装置的蚀刻气体输出口与蚀刻气体输入管道相连通，在蚀刻气体输入管道上接有喷射刻蚀气体的喷嘴。
[0005]所述的蚀刻气体输入管道在非接触式蚀刻箱体单元上布置的方向与玻璃片传送的方向垂直。
[0006]所述的蚀刻气体输入管道的两侧分别设有一个安装有线型抽风口的出风管道，出风管道设置在非接触式蚀刻箱体单元内。
[0007]所述的蚀刻气体输入管道和出风管道平行设置在非接触式蚀刻箱体单元内，且出风管道的一端与外界相通。
[0008]所述的喷嘴为一个或多个，当喷嘴为一个时，喷嘴为线型喷嘴。
[0009]所述的玻璃输送装置由设置在刻蚀主体两端的若干组驱动滚轮以及用于对玻璃片起支撑过渡作用的若干组无动力驱动小轮组成，且每组刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元布置在玻璃输送装置下方时，若干组无动力驱动小轮设置在非接触式蚀刻箱体单元上；每组刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元布置在玻璃输送装置上方时，若干组无动力驱动小轮设置在背部盖板上。
[0010]所述的刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元布置在玻璃输送装置下方或玻璃输送装置上方。
[0011]所述的背部盖板内部安装有加热系统。
[0012]所述的蚀刻气体发生装置为一组或多组等离子发生器，且等离子发生器的刻蚀气体输出口与刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元中的蚀刻气体输入管道相连通。
[0013]与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于:
[0014]本实用新型在非接触式蚀刻箱体单元内设置与蚀刻气体输出口相连通的蚀刻气体输入管道，该蚀刻气体输入管道上开设有接有喷射刻蚀气体以刻蚀玻璃片的喷嘴；因此，当一定比例的四氟化碳气体和水蒸气通过蚀刻气体发生装置后产生的蚀刻气体进入非接触式蚀刻箱体单元内的蚀刻气体输入管道，并通过接在蚀刻气体输入管道的喷嘴喷出，而位于非接触式蚀刻箱体单元和背部盖板之间的玻璃输送装置上安放有正在传送的玻璃片，蚀刻气体喷到正在传送的玻璃片，从而实现玻璃片一个表面的蚀刻；同时由于喷嘴能够覆盖玻璃片，所以本实用新型能够在普通玻璃片生产线上使用，且能够对大面积普通玻璃片进行蚀刻。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]图1是四氟化碳和水气经过等离子化后生成用于酸气刻蚀的HF和CO2气体混合物的示意图。
[0016]图2是常压下玻璃表面蚀刻装置对运动玻璃片上表面的刻蚀示意图的主视图；
[0017]图3是常压下玻璃表面蚀刻装置对运动玻璃片上表面的刻蚀示意图的俯视图；
[0018]图4是常压下玻璃表面刻蚀装置对运动玻璃片下表面的刻蚀示意图的主视图；
[0019]其中，1、非接触式蚀刻箱体单元，2、驱动滚轮，3、线型喷嘴，4、线型抽风口，5、无动力驱动小轮，6、蚀刻气体输入管道,7、背部盖板,8、出风管道,9、玻璃片。
【具体实施方式】
[0020]下面结合附图对本实用新型做进一步详细说明。
[0021]参见图1-4，本实用新型包括玻璃输送装置、一组或多组等离子发生器以及至少一组由非接触式蚀刻箱体单元I和背部盖板7组成的刻蚀主体；玻璃输送装置位于非接触式蚀刻箱体单元I和背部盖板7之间；非接触式蚀刻箱体单元I内设置有蚀刻气体输入管道6和两个安装有线型抽风口 4的出风管道8，出风管8位于蚀刻气体输入管道6的两侧，且出风管道8的一端与外界相通，蚀刻气体输入管道6和出风管道8平行设置，蚀刻气体输入管道6在非接触式蚀刻箱体单元I上布置的方向与玻璃片9传送的方向垂直。由于出风管8位于蚀刻气体输入管道6的两侧，在喷嘴喷射蚀刻气体的同时，两侧线型抽风口 4开始抽风，抽进的空气通过出风管道8的一端排出，这样就保证了蚀刻的均匀性；
[0022]等离子发生器的蚀刻气体输出口与蚀刻气体输入管道6相连通，在蚀刻气体输入管道6上接有向玻璃片9喷射刻蚀气体且能够覆盖整个玻璃片表面的喷嘴，所述的喷嘴为一个或多个，当喷嘴为I个时，喷嘴采用线型喷嘴，且线型喷嘴3的长度至少能够覆盖玻璃片。所述的喷嘴为多个时，蚀刻气体也可以通过其他形状的喷嘴喷射在玻璃上，只要这些喷嘴喷射的范围能够覆盖玻璃片9即可。
[0023]每组非接触式蚀刻箱体单元I布置在玻璃输送装置下方或玻璃输送装置上方。其中，玻璃输送装置由设置在刻蚀主体两端的若干组驱动滚轮2以及用于对玻璃片9起支撑过渡作用的若干组无动力驱动小轮5组成，若干组无动力驱动小滚轮5在玻璃片9经过时可以对玻璃片9进行支撑过渡。[0024]参见图2，每组刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元I布置在玻璃输送装置下方时，若干组无动力无驱动小轮5设置在非接触式蚀刻箱体单元I上，这样从喷嘴喷出的蚀刻气体就能对玻璃片9的上表面进行蚀刻；参见图4，每组刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元I布置在玻璃输送装置上方时，若干组无动力驱动小轮5设置在背部盖板7上，这样从喷嘴喷出的蚀刻气体就能对玻璃片9的下表面进行蚀刻。另外，当本实用新型中采用了多组刻蚀主体，且其中既有非接触式蚀刻箱体单元I布置在玻璃输送装置上方的，也有非接触式蚀刻箱体单元I布置在玻璃输送装置下方的，这样从喷嘴喷出的蚀刻气体就能对玻璃片9的上、下两个表面进行蚀刻。
[0025]进一步，背部盖板7内部安装有加热系统，防止蚀刻气体在非接触式蚀刻箱体单元I内结露，影响刻蚀的均匀性。
[0026]下面具体介绍一下每组刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元I布置在玻璃输送装置下方时本实用新型的使用方法为:
[0027]参见图1，将一定比例的CF4气体和水蒸气H2O通过等离子发生装置进行等离子化后生成HF和C02气体混合物(蚀刻气体),蚀刻气体从等离子发生器的刻蚀气体输出口进入非接触式蚀刻箱体单元I内蚀刻气体输入管道，进而通过蚀刻气体输入管道连接的线型喷嘴3喷射在玻璃片9表面上，还可以通过调整CF4和CF4的输入量来调整酸气刻蚀气体的浓度，从而控制对玻璃片的刻蚀程度。
[0028]参见图2-3，当干燥的玻璃片9以水平方向被运输通过非接触式蚀刻箱体单元和玻璃输送装置之间，水平方向上的玻璃片9在驱动滚轮2的驱动下沿水平方向向刻蚀主体方向移动，被输送到非接触式蚀刻箱体单元I上的蚀刻气体通过线型喷嘴3喷射而出，当玻璃片9通过非接触式蚀刻箱体单元I时，线型喷嘴3向玻璃片9的上表面以36?2880SCCM的流量喷射刻蚀气，同时线型喷嘴3两侧的线型抽风口 4在喷嘴喷射蚀刻气体开始抽风，保证蚀刻的均匀性，使经过蚀刻的玻璃片表面的平均粗糙度在0.4?1.3纳米。
[0029]以上仅用于更好的理解本实用新型，可对上述实施例作变化和改进，而实质上不脱离本实用新型，所有这些变化和改进都包含在本实用新型的范围。
【权利要求】
1.玻璃表面刻蚀装置，其特征在于:包括玻璃输送装置、蚀刻气体发生装置以及至少一组由非接触式蚀刻箱体单元(I)和背部盖板(7)组成的刻蚀主体，所述的玻璃输送装置位于非接触式蚀刻箱体单元(I)和背部盖板(7)之间；非接触式蚀刻箱体单元(I)内设置有蚀刻气体输入管道(6)，蚀刻气体发生装置的蚀刻气体输出口与蚀刻气体输入管道(6)相连通，在蚀刻气体输入管道(6)上接有喷射刻蚀气体的喷嘴。
2.根据权利要求1所述的玻璃表面刻蚀装置，其特征在于:所述的蚀刻气体输入管道(6)在非接触式蚀刻箱体单元(I)上布置的方向与玻璃片(9)传送的方向垂直。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃表面刻蚀装置，其特征在于:所述的蚀刻气体输入管道(6)的两侧分别设有一个安装有线型抽风口(4)的出风管道(8)，出风管道(8)设置在非接触式蚀刻箱体单元(I)内，且出风管道(8)的一端与外界相通。
4.根据权利要求3所述的玻璃表面刻蚀装置，其特征在于:所述的蚀刻气体输入管道(6 )和出风管道(8 )平行设置在非接触式蚀刻箱体单元(I)内。
5.根据权利要求1所述的玻璃表面刻蚀装置，其特征在于:所述的喷嘴为一个或多个，当喷嘴为一个时，喷嘴为线型喷嘴(3)。
6.根据权利要求5所述的玻璃表面刻蚀装置，其特征在于:所述的玻璃输送装置由设置在刻蚀主体两端的若干组驱动滚轮(2)以及用于对玻璃片(9)起支撑过渡作用的若干组无动力驱动小轮(5)组成，且每组刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元(I)布置在玻璃输送装置下方时，若干组无动力驱动小轮(5)设置在非接触式蚀刻箱体单元(I)上；每组刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元(I)布置在玻璃输送装置上方时，若干组无动力驱动小轮(5)设置在背部盖板(7)上。
7.根据权利要求1所述的玻璃表面刻蚀装置，其特征在于:所述的刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元(I)布置在玻璃输送装置下方或玻璃输送装置上方。
8.根据权利要求1所述的玻璃表面刻蚀装置，其特征在于:所述的背部盖板(7)内部安装有加热系统。
9.根据权利要求1所述的玻璃表面刻蚀装置，其特征在于:所述的蚀刻气体发生装置为一组或多组等离子发生器，且等离子发生器的刻蚀气体输出口与刻蚀主体中的非接触式蚀刻箱体单元(I)中的蚀刻气体输入管道(6)相连通。
【文档编号】C03C15/00GK203382660SQ201320378087
【公开日】2014年1月8日 申请日期:2013年6月27日 优先权日:2013年6月27日
【发明者】张辉, 成敢为 申请人:彩虹显示器件股份有限公司