一种凹面砖的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供一种凹面砖，包括装饰层、基层和背花，所述的装饰层覆盖在基层上，所述的背花设置在基层的另一面，所述的装饰层和基层具有向背花方向下凹的凹面，所述装饰层和基层的凹面底部与顶部之间形成光滑过渡的斜面，所述斜面与凹面底部形成的角度为110-120度。本实用新型通过对现有砖进行形状改进，实现了砖的凹面结构，使砖在使用时不会出现一个倒三角形的凹缝，清洁更加容易，另外避免了凸面结构，使砖在运输过程中不需要特别的包装也不会对装饰面造成磨花。
【专利说明】-种凹面砖
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及装饰砖领域。
【背景技术】
[0002] 随着社会的发展，人们生活水平的提高，人们对于家装的审美也在提高，虽然国内 小规格内墙砖种类也很多，但是却越来越不能满足人们日益增长的需要。目前市场上出现 的一种砖，由于形状类似中国结，受到市场极大的欢迎。但是，市场上这种砖的横截面为凸 面，在使用时，砖之间或砖与其他砖之间粘合后，砖与砖之间会出现一个倒三角形的凹缝， 使之不易清洁。此外，凸面的砖在运输时，表面的装饰层容易磨花，需要做特殊的包装防护。 实用新型内容
[0003] 针对现有技术的上述缺陷和问题，本实用新型目的是提供一种凹面砖，砖面具有 凹面，实现了砖面的容易清洁，同时使运输过程中不需要特别地包装保护。
[0004] 为了达到上述目的，本实用新型采用以下技术方案实现：
[0005] -种凹面砖，包括装饰层、基层和背花，所述的装饰层覆盖在基层上，所述的背 花设置在基层的另一面，所述的装饰层和基层具有向背花方向下凹的凹面，所述装饰层 和基层的凹面底部与顶部之间形成光滑过渡的斜面，所述斜面与凹面底部形成的角度为 110-120 度。
[0006] 进一步的技术方案，所述装饰层和基层的凹面底部与顶部的距离为3_4mm。
[0007] 进一步的技术方案，所述凹面砖的装饰层凹面顶部到背花底部为8_9mm，凹面底 部到背花底部为4-5mm。
[0008] 进一步的技术方案，所述凹面砖的凹面顶部与侧面边沿所处的平面形成倒圆角， 倒圆角半径为6-10mm。
[0009] 进一步的技术方案，所述凹面砖经过对称轴的横截面中，所述凹面顶部所处的平 面与侧面边沿所处的平面形成45-65度的角度。
[0010] 本实用新型通过对现有叶子砖进行形状改进，实现了叶子砖的凹面结构，使砖在 使用时不会出现一个倒三角形的凹缝，清洁更加容易，另外避免了凸面结构，使砖在运输过 程中不需要特别的包装也不会对装饰面造成磨损。另外，本实用新型所提供的凹面砖虽然 砖的厚度不一致，但是由于其凹面的深度以及底部角度的设计，使其在烧制时也不会出现 裂纹。
【专利附图】
【附图说明】
[0011] 为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要 使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一个实施 例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图 获得其他的附图。
[0012] 图1是本实用新型的主视图。
[0013] 图2是本实用新型的A-A剖面示意图。
[0014] 图3是目前市场上叶子砖的俯视图。
[0015] 其中：1、凹面，2、装饰层，3、基层，4、背花。
【具体实施方式】
[0016] 下面将结合本实用新型的附图，对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述， 显然，所描述的实施例仅是本实用新型一个实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型 中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施 例，都属于本实用新型保护的范围。
[0017] 根据图1和2所示，本实用新型是一种凹面砖，包括装饰层、基层和背花，所述的装 饰层覆盖在基层上，所述的背花设置在基层的另一面，所述凹面砖的正面呈中国结的形状， 所述的装饰层和基层具有向背花方向下凹的凹面，所述凹面也呈现中国结的形状。装饰层 和基层的凹面底部与顶部之间形成光滑过渡的斜面，所述斜面的角度为110-120度。凹面 砖的正面与侧面边沿形成倒圆角，其半径为6-10mm，角度为45-65度。装饰层和基层所形成 的凹面底部与顶部的距离为3-4mm。所述凹面砖的装饰层凹面顶部到背花底部为8-9mm，凹 面底部到背花底部为4-5mm。按照本实用新型设计的凹面砖，虽然砖的厚度不一致，在烧制 时也不会造成坯裂的现象。
[0018] 如图3为市场上已有的叶子砖的俯视图，整个叶子砖为凸面结构，本实用新型则 创造性地还提供一种凹面砖，不仅使砖面的清洁更加容易，使砖在运输过程中不需要特别 的包装也不会对装饰面造成磨花，而且满足了市场上对这种特殊形状瓷砖的美观上的需 求。
[0019] 以上所述，仅为本实用新型的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限 于此，任何熟悉本【技术领域】的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化 或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权 利要求的保护范围为准。
【权利要求】
1. 一种凹面砖，包括装饰层、基层和背花，其特征在于：所述的装饰层覆盖在基层上， 所述的背花设置在基层的另一面，所述的装饰层和基层具有向背花方向下凹的凹面，所述 装饰层和基层的凹面底部与顶部之间形成光滑过渡的斜面，所述斜面与凹面底部形成的角 度为110-120度。
2. 根据权利要求1所述的凹面砖，其特征在于：所述装饰层和基层的凹面底部与顶部 的距离为3-4mm。
3. 根据权利要求1或2所述的凹面砖，其特征在于：所述凹面砖的装饰层凹面顶部到 背花底部为8-9mm，凹面底部到背花底部为4-5mm。
4. 根据权利要求1或2所述的凹面砖，其特征在于：所述凹面砖的凹面顶部与侧面边 沿所处的平面形成倒圆角，倒圆角半径为6-10_。
5. 根据权利要求1或2所述的凹面砖，其特征在于：所述凹面砖经过对称轴的横截面 中，所述凹面顶部所处的平面与侧面边沿所处的平面形成45-65度的角度。
【文档编号】E04F13/077GK203891382SQ201320727631
【公开日】2014年10月22日 申请日期:2013年11月14日 优先权日:2013年11月14日
【发明者】邓世杰 申请人:天津贝利泰陶瓷有限公司