一种树脂中空波浪瓦的制作方法

本实用新型涉及建筑材料技术领域，具体涉及一种树脂中空波浪瓦。

背景技术：

一种建筑材料，用于建筑物屋顶、墙体之装饰、隔热、防水、隔音的材料，传统的有铁皮、石棉、陶土制成，容易脆化损坏，使用年限比较短，一般都是实心的，隔热、隔音效果也比较差。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种结构简单，设计合理、使用方便的一种树脂中空波浪瓦，具有超强耐候性，长期暴露在紫外线、湿气、热、寒和冲击下，仍然能保持颜色和物理性能的稳定性；优异的耐腐蚀性，可长期抵御酸、碱、盐等多种化学物质的腐蚀，非常适用于盐雾腐蚀性强的沿海地区以及空气严重污染的地区，同时具有良好的荷载能力，且使用年限长。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：它包含瓦本体，所述的瓦本体由瓦面、瓦底、连接柱构成；所述的瓦面的底部设有数个连接柱，连接柱的底部与瓦底连接，且瓦面、连接柱、瓦底为一体式结构；相邻的两个连接柱与瓦面和瓦底之间形成空腔，空腔为前后两端贯穿式结构；所述的瓦面的上表面上设有涂层；所述的瓦面的左端顶部上设有一号定位槽和数个凸线，一号定位槽设于凸线的右侧，所述的瓦底的右端底部设有二号定位槽和数个凹槽，凹槽设于二号定位槽的右侧；相邻的两个瓦本体之间通过凸线与凹槽的配合连接，瓦本体左端边缘卡设于与其相邻的瓦本体右端的二号定位槽中，瓦本体右端边缘卡设于与其相邻的瓦本体左端的一号定位槽中。

采用上述结构后，本实用新型有益效果为：本实用新型所述的一种树脂中空波浪瓦，具有超强耐用性和耐候性，长期暴露在紫外线、湿气、热、寒和冲击下，仍然能保持颜色和物理性能的稳定性；优异的耐腐蚀性，可长期抵御酸、碱、盐等多种化学物质的腐蚀，非常适用于盐雾腐蚀性强的沿海地区以及空气严重污染的地区，同时具有良好的荷载能力，本实用新型具有结构简单，设置合理，制作成本低，使用年限长等优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型瓦本体的连接效果图。

图3是图2中A部的放大图。

附图标记说明：

瓦面1、连接柱2、瓦底3、空腔4、涂层5、瓦本体6、一号定位槽7、凸线8、二号定位槽9、凹槽10。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

参看如图1-图3所示，本实用新型采用的技术方案是：它包含瓦本体6，所述的瓦本体6由瓦面1、瓦底3、连接柱2构成；所述的瓦面1的底部固定有五十个连接柱2，连接柱2的底部与瓦底3固定连接，且瓦面1、连接柱2、瓦底3采用高温挤出一体成型，形成波浪形，便于排水；相邻的两个连接柱2与瓦面1和瓦底3之间形成空腔4，空腔4为前后两端贯穿式结构；所述的瓦面1的上表面上设有涂层5；所述的瓦面1的左端顶部上设有一号定位槽7和两个凸线8，一号定位槽7设于凸线8的右侧，所述的瓦底3的右端底部设有二号定位槽9和两个凹槽10，凹槽10设于二号定位槽9的右侧；相邻的两个瓦本体6之间通过凸线8与凹槽10的配合连接，瓦本体6左端边缘卡设于与其相邻的瓦本体6右端的二号定位槽9中，瓦本体6右端边缘卡设于与其相邻的瓦本体6左端的一号定位槽7中。

本具体实施的工作原理：采用树脂材料，具有超强耐用性和耐候性，长期暴露在紫外线、湿气、热、寒和冲击下，仍然能保持颜色和物理性能的稳定性；瓦面1、连接柱2、瓦底3三者之间通过高温挤出一体成型，形成波浪形，便于排水；相邻的两个连接柱2与瓦面1和瓦底3之间形成空腔4，空腔4为前后两端贯穿设置，便于空气流通，起到隔热、隔音效果；涂层5使瓦面1表面致密光滑，不易吸附灰尘，具有“荷叶效应”，雨水冲刷洁净如新，不会出现积垢后被雨水冲刷的斑斑驳驳的现象；涂层5颜色可根据建筑物的需要变换不同颜色；凸线8与凹槽10的配合，使得数个瓦本体6无缝连接，且密封性好；树脂材料其优异的耐腐蚀性，可长期抵御酸、碱、盐等多种化学物质的腐蚀，非常适用于盐雾腐蚀性强的沿海地区以及空气严重污染的地区。

采用上述结构后，本具体实施方式有益效果为：本具体实施方式所述的一种树脂中空波浪瓦，具有超强耐用性和耐候性，长期暴露在紫外线、湿气、热、寒和冲击下，仍然能保持颜色和物理性能的稳定性；优异的耐腐蚀性，可长期抵御酸、碱、盐等多种化学物质的腐蚀，非常适用于盐雾腐蚀性强的沿海地区以及空气严重污染的地区，同时具有良好的荷载能力，且使用年限长，本实用新型具有结构简单，设置合理，制作成本低等优点。

以上所述，仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案所做的其它修改或者等同替换，只要不脱离本实用新型技术方案的精神和范围，均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。