1.本发明涉及硅片生产设备技术领域，具体为一种带有导正机构的硅片生产用传输装置。
背景技术：
2.硅片，是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件。
3.硅片的加工包括单晶硅棒先开方，再切片，现有的硅片传输装置在将硅片导入至传输装置前大多没有对硅片进行导正处理，导致硅片在传输过程中容易发生歪斜，影响硅片的切片加工效果，因此，一种带有导正机构的硅片生产用传输装置很有实际价值。
技术实现要素：
4.本发明的目的在于提供一种带有导正机构的硅片生产用传输装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种带有导正机构的硅片生产用传输装置，包括工作台，所述工作台底部设置有万向轮，所述工作台顶部四角处均设置有立柱，四组所述立柱顶部均连接有顶板，所述顶板分别设置有除尘装置和导正装置，所述工作台内腔横向设置有两组电机座，两组所述电机座内腔均设置有电机，两组所述电机前端面均连接有电机轴，两组所述电机轴前端均贯穿工作台前端面，两组所述电机轴外周均套接设置有转轮，两组所述转轮外周均套接设置有皮带。
6.优选的，所述除尘装置包括电动伸缩杆，所述电动伸缩杆通过螺栓一与顶板底部活动连接，所述电动伸缩杆底部设置有除尘筒，所述除尘筒内腔设置有吸气扇，所述除尘筒右侧连接有导气管，所述顶板顶部设置有水箱，所述水箱右侧设置有固定环，所述导气管远离除尘筒一端穿过固定环并延伸至水箱内腔底部。
7.优选的，所述导正装置包括外筒，所述外筒内腔活动插接设置有内筒，所述外筒外周设置有外连接环，所述内筒的顶端以及底端均延伸出外筒内腔，且所述内筒底部设置有底部压板，所述内筒外周套接设置有复位弹簧，且所述复位弹簧两端分别与外连接环以及底部压板焊接，所述内筒顶部设置有按压板。
8.优选的，所述顶板顶部右侧横向设置有与外筒匹配的导正槽，所述外筒活动插接至匹配的导正槽内腔。
9.优选的，所述外筒前后端面均设置有侧滑块，所述导正槽内腔的前后端面均横向设置有与侧滑块匹配的滑槽，且两组所述侧滑块分别活动设置在匹配的滑槽内腔之中。
10.优选的，所述底部压板底部胶黏设置有防滑垫层。
11.与现有技术相比，本发明的有益效果是：一种带有导正机构的硅片生产用传输装置，该传输装置通过电动伸缩杆带动吸气扇向下运动实现对硅片表面进行除尘处理，灰尘再通过导气管导入至水箱内腔进行洗气除尘；
12.在需要将硅片导入至皮带上时，通过按压内筒，使得内筒带动底部压板向下推进，再由底部压板对硅片进行夹紧处理，再通过内筒带动外筒在导正槽内腔向左移动，当内筒移动至皮带处时，松开手，由于复位弹簧的作用，内筒快速带动底部压板向上运动，使得底部压板与硅片脱离，通过导正槽对运动轨迹进行限位导向，从而实现导正效果；
13.在导正槽内腔的前后端面均设置与侧滑块匹配的滑槽，以方便使得外筒通过侧滑块方便在导正槽内腔横向活动，另一方面，通过滑槽对侧滑块运动进行限位处理，从而保障外筒在导正槽内腔横向运动至不发生偏斜，从而使得导正效果不受影响。
附图说明
14.图1为本发明结构示意图；
15.图2为本发明结构俯视图。
16.图中：1、工作台；2、万向轮；3、电机座；4、电机；5、电机轴；6、转轮；7、皮带；8、立柱；9、顶板；10、除尘装置；11、电动伸缩杆；12、除尘筒；13、吸气扇；14、水箱；15、固定环；16、导气管；17、导正装置；18、外筒；19、侧滑块；20、内筒；21、外连接环；22、复位弹簧；23、底部压板；24、防滑垫层；25、导正槽。
具体实施方式
17.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
18.请参阅图1，本发明提供一种技术方案：一种带有导正机构的硅片生产用传输装置，包括工作台1，工作台1底部设置有万向轮2，工作台1顶部四角处均设置有立柱8，四组立柱8顶部均连接有顶板9，顶板9分别设置有除尘装置10和导正装置17，工作台1内腔横向设置有两组电机座3，两组电机座3内腔均设置有电机4，两组电机4前端面均连接有电机轴5，两组电机轴5的转向相同，两组电机轴5前端均贯穿工作台1前端面，两组电机轴5外周均套接设置有转轮6，两组转轮6外周均套接设置有皮带7。
19.请参阅图1，除尘装置10包括电动伸缩杆11，电动伸缩杆11通过螺栓一与顶板9底部活动连接，电动伸缩杆11底部设置有除尘筒12，除尘筒12内腔设置有吸气扇13，除尘筒12右侧连接有导气管16，顶板9顶部设置有水箱14，水箱14右侧设置有固定环15，导气管16远离除尘筒12一端穿过固定环15并延伸至水箱14内腔底部，该传输装置通过电动伸缩杆11带动吸气扇13向下运动实现对硅片表面进行除尘处理，灰尘再通过导气管16导入至水箱14内腔进行洗气除尘。
20.请参阅图1，导正装置17包括外筒18，外筒18内腔活动插接设置有内筒20，外筒18外周设置有外连接环21，内筒20的顶端以及底端均延伸出外筒18内腔，且内筒20底部设置有底部压板23，内筒20外周套接设置有复位弹簧22，且复位弹簧22两端分别与外连接环21以及底部压板23焊接，内筒20顶部设置有按压板。
21.请参阅图1，图2，顶板9顶部右侧横向设置有与外筒18匹配的导正槽25，外筒18活动插接至匹配的导正槽25内腔，在需要将硅片导入至皮带7上时，通过按压内筒20，使得内
筒20带动底部压板23向下推进，再由底部压板23对硅片进行夹紧处理，再通过内筒20带动外筒18在导正槽25内腔向左移动，当内筒20移动至皮带7处时，松开手，由于复位弹簧22的作用，内筒20快速带动底部压板23向上运动，使得底部压板23与硅片脱离，通过导正槽25对28运动轨迹进行限位导向，从而实现导正效果。
22.请参阅图1，图2，外筒18前后端面均设置有侧滑块19，导正槽25内腔的前后端面均横向设置有与侧滑块19匹配的滑槽，且两组侧滑块19分别活动设置在匹配的滑槽内腔之中，在导正槽25内腔的前后端面均设置与侧滑块19匹配的滑槽，以方便使得外筒18通过侧滑块19方便在导正槽25内腔横向活动，另一方面，通过滑槽对侧滑块19运动进行限位处理，从而保障外筒18在导正槽25内腔横向运动至不发生偏斜，从而使得导正效果不受影响。
23.请参阅图1，底部压板23底部胶黏设置有防滑垫层24。
24.工作原理：
25.该传输装置通过电动伸缩杆11带动吸气扇13向下运动实现对硅片表面进行除尘处理，灰尘再通过导气管16导入至水箱14内腔进行洗气除尘；
26.在需要将硅片导入至皮带7上时，通过按压内筒20，使得内筒20带动底部压板23向下推进，再由底部压板23对硅片进行夹紧处理，再通过内筒20带动外筒18在导正槽25内腔向左移动，当内筒20移动至皮带7处时，松开手，由于复位弹簧22的作用，内筒20快速带动底部压板23向上运动，使得底部压板23与硅片脱离，通过导正槽25对28运动轨迹进行限位导向，从而实现导正效果。
27.尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。