对多线切割机的转轴的线槽进行清洗的装置及多线切割机的制作方法

本发明涉及硅片生产领域，尤其涉及一种用于对多线切割机的转轴的线槽进行清洗的装置及多线切割机。

背景技术：

1、在硅片的生产过程中，通常使用多线切割机对采用直拉法拉制出的单晶晶棒进行切割来获得硅片。多线切割机通常包括有两个对置的转轴，单根切割线绕制在两个转轴的线槽中以获得多个彼此平行且处于同一平面中的多个切割线节段，通过转轴的转动促使所述多个切割线节段移动，从而能够完成对单晶晶棒的切割。

2、多线切割机在使用一段时间之后，缠绕在转轴上的切割线会产生磨损因而需要进行更换。但是，在更换之前，需要首先确保待缠绕切割线的转轴的线槽中是不存在比如硅屑或其他杂质之类的污染颗粒的，否则在完成新的切割线的缠绕之后，会导致切割线无法正确就位于线槽中，这样，在多线切割机的运行过程中，没有正确就位的切割线易于产生跳线，或者说从存在有污染颗粒的线槽“横跳”至相邻的线槽中，进而导致相邻的两个切割线切段之间的间距增大或减小，这样，切割出的硅片的厚度就无法满足要求。

3、在现有的将污染颗粒从转轴的线槽清除的方式中，污染颗粒的清除是由操作人员手持喷枪来完成的，喷枪仅能够喷射出清洗液的单个射束，并且该单个射束一次性仅能够对单个线槽进行清洗，而另一方面，沿着转轴的轴向是排列有一系列线槽的，污染颗粒可能仅存在于其中的一些线槽中，并不存在于另外的线槽中，或者甚至仅存在于单个线槽中，并不存在于其余的线槽中。在这种情况下，如果想要将存在于所有的线槽中的污染颗粒都清除的话，为了节约清洗液的用量以及节省总的清洗时间，首先需要确定出所有线槽中的哪个或哪些线槽存在有污染颗粒，然后针对性地进行清洗。但对于确定过程而言，需要操作人员通过肉眼对轴向排列的一系列线槽逐一地进行排查，不仅费时费力而且劳动强度较大。另外，在比如仅有单个线槽中存在有污染颗粒的情况下，现有的清洗方法会导致受到清洗的污染颗粒尽管离开了原来所存在于的线槽但又溅射或掉落至邻近的线槽中，从而导致无法完成有效、彻底的清洗。

技术实现思路

1、为解决上述技术问题，本发明实施例期望提供一种用于对多线切割机的转轴的线槽进行清洗的装置及多线切割机，不需要对所有线槽中的哪个或哪些线槽存在有污染颗粒进行确定，并且能够进行更有效、更彻底的清洗。

2、本发明的技术方案是这样实现的：

3、第一方面，本发明实施例提供了一种用于对多线切割机的转轴的线槽进行清洗的装置，所述装置具有喷嘴，所述喷嘴构造成使得从所述喷嘴喷射出的清洗液能够入射至所述转轴的每个线槽中。

4、第二方面，本发明实施例提供了一种多线切割机，所述多线切割机包括根据第一方面所述的装置。

5、本发明实施例提供了一种用于对多线切割机的转轴的线槽进行清洗的装置及多线切割机，由于清洗液能够入射至转轴的每个线槽中，因此不再需要对所有线槽中的哪个或哪些线槽中存在有污染颗粒进行确定，并且也不会出现污染颗粒尽管离开了原来所存在于的线槽但又溅射或掉落至邻近的线槽中的情况，因为即使掉落至邻近线槽中也仍然能够得到清除，由此能够完成对转轴的线槽的有效、彻底的清洗。

技术特征：

1.一种用于对多线切割机的转轴的线槽进行清洗的装置，其特征在于，所述装置具有喷嘴，所述喷嘴构造成使得从所述喷嘴喷射出的清洗液能够入射至所述转轴的每个线槽中。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述喷嘴还构造成使得所述清洗液以与每个线槽的底部相切的方式入射。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述喷嘴还构造成使得所述清洗液在所述转轴的下半部处入射。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述喷嘴还构造成使得所述清洗液在所述转轴的最低点处入射。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的装置，其特征在于，所述喷嘴包括与所述转轴的所有线槽一一对应的多个喷口以喷射出多个股状的射束。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的装置，其特征在于，所述喷嘴呈狭缝状以喷射出单个平面状的射束。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置包括用于驱动所述转轴绕自身的纵向轴线转动的驱动机构。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的装置，其特征在于，所述清洗液为所述多线切割机在切割晶棒时使用的切割砂浆中的液体组分。

9.一种多线切割机，其特征在于，所述多线切割机包括根据权利要求1至8中任一项所述的装置。

10.根据权利要求9所述的多线切割机，其特征在于，所述多线切割机包括对置的两个转轴，所述装置设置在所述多线切割机中设置成使得所述两个转轴位于所述装置的不同侧。

技术总结
本发明实施例公开了一种用于对多线切割机的转轴的线槽进行清洗的装置及多线切割机，所述装置具有喷嘴，所述喷嘴构造成使得从所述喷嘴喷射出的清洗液能够入射至所述转轴的每个线槽中。由于清洗液能够入射至转轴的每个线槽中，因此不再需要对所有线槽中的哪个或哪些线槽中存在有污染颗粒进行确定，并且也不会出现污染颗粒尽管离开了原来所存在于的线槽但又溅射或掉落至邻近的线槽中的情况，因为即使掉落至邻近线槽中也仍然能够得到清除，由此能够完成对转轴的线槽的有效、彻底的清洗。

技术研发人员：张舸
受保护的技术使用者：西安奕斯伟材料科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12