本实用新型涉及特殊纱窗生产领域，特别是一种用于高阻隔窗纱的生产设备。
背景技术：
纱窗的主要作用是在保证通风的情况下实现室内与室外的隔离，但现有窗纱只是空间上的隔离，但是由于纱窗孔，在透气的同时，也不能隔光、隔热等。
纳米凃银涂料可以增加窗丝韧性，由于原料比较昂贵，通过浸泡、刷涂等方式进行涂覆，会造成原料的极大浪费，甚至浪费的原料比真正起到防盗作用的原料都多，这主要是因为只有外侧的涂料有防盗的意义，内侧喷涂没有意义，而浸泡会使整体窗纱都沾上原料，而且会使纱孔堵塞，影响纱窗使用，而刷涂工艺也会使大量的原料浪费在机械刷上。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决上述问题，设计了一种高阻隔窗纱及用于生产该高阻隔窗纱的生产设备。具体设计方案为：
一种用于高阻隔窗纱的生产设备，包括窗纱骨架、上模、下模，所述窗纱骨架为PPE窗纱骨架，所述窗纱骨架的上侧设有高阻隔涂层，所述高阻隔涂层为纳米涂料。
所述窗纱骨架为片状结构，所述窗纱骨架的水平截面呈矩形网状结构，所述高阻隔涂层位于所述窗纱骨架的顶端，所述高阻隔涂层通过喷涂工艺固定于窗纱骨架的表面。
上模、下模，所述上模与下模闭合形成铸塑腔，所述上模上设有窗丝注入口、溢流口，所述下模上设有融注口、涂层注入口、卸料口。
所述铸塑腔通过所述溢流口、窗丝注入口、融注口、涂层注入口、卸料口与外接连通，所述铸塑腔的内壁设有消失模。
所述铸塑腔的数量为多个，多个所述铸塑腔互相平行，多个所述铸塑腔沿前后方向呈直线阵列分布，多个所述铸塑腔之间互相隔离。
所述窗丝注入口注入窗丝，所述融注口注入中和液，所述中和液与所述消失模互相反应，所述涂层注入口注入纳米涂料。
所述卸料口的末端安装有电磁阀，所述溢流口沿水平方向放置，所述溢流口的末端设有溢压阀。
所述消失模呈筒状结构，所述消失模的筒壁的底端封堵所述融注口、涂层注入口、卸料口，所述窗丝注入口、溢流口与所述消失模的筒内连通。
通过本实用新型的上述技术方案得到的高阻隔窗纱及用于生产该高阻隔窗纱的生产设备，其有益效果是：
通过银色涂料的光学效应，格挡光源，不但可以起到隐形效果，而且可以通过减少照入屋内的光线起到隔热的效果，反光隔热率达到 95％以上。
采用高阻隔涂层，高分子结构使表面致密，不沾油、不沾灰。
同时通过多级注塑，实现单侧涂料加工，节省原料，提高生产效率。
附图说明
图1是本实用新型所述高阻隔窗纱的轴向截面结构示意图；
图2是本实用新型所述用于高阻隔窗纱的生产设备的结构示意图；图中，1、窗纱骨架；2、高阻隔涂层；3、上模；4、下模；5、铸塑腔； 6、窗丝注入口；7、溢流口；8、融注口；9、涂层注入口；10、卸料口；11、消失模。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型进行具体描述。
一种用于高阻隔窗纱的生产设备，包括窗纱骨架1、上模3、下模4，所述窗纱骨架1为PPE窗纱骨架，所述窗纱骨架1的上侧设有高阻隔涂层2，所述高阻隔涂层2为纳米涂料。
所述窗纱骨架1为片状结构，所述窗纱骨架1的水平截面呈矩形网状结构，所述高阻隔涂层2位于所述窗纱骨架1的顶端，所述高阻隔涂层2通过喷涂工艺固定于窗纱骨架1的表面。
所述上模3与下模4闭合形成铸塑腔5，所述上模3上设有窗丝注入口6、溢流口7，所述下模4上设有融注口8、涂层注入口9、卸料口10。
所述铸塑腔5通过所述溢流口7、窗丝注入口6、融注口8、涂层注入口9、卸料口10与外接连通，所述铸塑腔5的内壁设有消失模11。
所述铸塑腔5的数量为多个，多个所述铸塑腔5互相平行，多个所述铸塑腔5沿前后方向呈直线阵列分布，多个所述铸塑腔5之间互相隔离。
所述窗丝注入口6注入窗丝，所述融注口8注入中和液，所述中和液与所述消失模11互相反应，所述涂层注入口9注入纳米涂料。
所述卸料口10的末端安装有电磁阀，所述溢流口7沿水平方向放置，所述溢流口7的末端设有溢压阀。
所述消失模11呈筒状结构，所述消失模11的筒壁的底端封堵所述融注口8、涂层注入口9、卸料口10，所述窗丝注入口6、溢流口7 与所述消失模11的筒内连通。
生产时，在合模前将消失模11放入下模4中，然后合上上模3，通过所述窗丝注入口6注入PPE材料，在所述消失模11中形成窗丝，然后通过所述融注口8注入中和液，将消失模11从下向上溶解，由于所述消失模11呈环状结构，加之内部有已经铸塑成型的窗丝，所以不会下落，当注入的中和液达到所述溢流口7高度时，不会在与上方的消失模11发生反应，此时停止注入，并将内部溶解液从所述卸料口10 排出，然后通过涂层注入口9注入高分子凃银涂料，完成后将内部的所述高分子凃银涂料从卸料口10排出，开模脱模即可完成单侧涂层窗丝的生产。
上述过程中，
所述中和液与高分子凃银涂料分别排到不同的料仓中，以便分离重复使用；
所述中和液通过还原和固液分离工艺，可以将消失模原料与中和液分离，再将消失模原料重新注塑，重复使用；
所述高阻隔层2涂覆的弧度，通过所述溢流口7的位置控制。
上述技术方案仅体现了本实用新型技术方案的优选技术方案，本技术领域的技术人员对其中某些部分所可能做出的一些变动均体现了本实用新型的原理，属于本实用新型的保护范围之内。