清洁设备的自清洁方法、设备及存储介质与流程

文档序号:37064794发布日期:2024-02-20 21:16阅读:16来源:国知局
清洁设备的自清洁方法、设备及存储介质与流程

本技术属于计算机,具体涉及清洁设备的自清洁方法、设备及存储介质。


背景技术:

1、清洁设备是指对待清洁表面进行清洁的电子设备。清洁设备上通常设置有清洁件,在使用清洁设备对待清洁表面进行清洁时,清洁件运行并与待清洁表面接触,以对待清洁表面进行清洁。此时,清洁设备对待清洁表面清洁结束后,清洁件脏污程度较高,因此,需要对清洁件进行清洁。

2、目前,对清洁设备上清洁件的清洁方式包括:在清洁设备和基站对接后,通过基站自动对该清洁件进行自清洁。在一种典型的自清洁方式中,清洁设备在获取到对清洁件的自清洁指令后,清洁件旋转、同时清洁设备上的水泵启动,以向清洁件喷水。

3、然而,在自清洁的初始阶段,清洁件可能会存在较多的液体或泡沫,导致该液体或泡沫溢出基站,导致自清洁效果较差的问题。


技术实现思路

1、本技术所要解决的技术问题包括现有的清洁设备在自清洁的初始阶段,喷水机构向清洁件喷水时,有液体或泡沫产生甚至溢出基站导致清洁效果较差的问题。

2、为解决上述技术问题,一方面,本技术提供清洁设备的自清洁方法,所述清洁设备包括清洁件、用于向所述清洁件的清洁附件喷水的喷水机构以及负压发生器,所述方法包括:

3、在所述清洁设备与基站对接的情况下,响应于对所述清洁设备的自清洁指令,控制所述清洁设备执行第一自清洁动作,所述第一自清洁动作包括所述清洁件运行、所述负压发生器工作、以及所述喷水机构关闭;

4、在所述第一自清洁动作完成后,控制所述清洁设备执行第二自清洁动作,所述第二自清洁动作包括所述清洁件运行、所述负压发生器工作或关闭、以及所述喷水机构工作。

5、可选地,所述控制所述清洁设备执行第一自清洁动作,包括:

6、控制所述清洁设备执行第一自清洁动作的执行时长达到预设时长;或

7、控制所述清洁设备执行第一自清洁动作,直至所述清洁件的含水量小于第一含水量阈值。

8、可选地,所述控制所述清洁设备执行第一自清洁动作,包括:

9、按照第一预设功率控制所述负压发生器工作;以及

10、按照第二预设功率控制所述清洁件工作。

11、可选地,所述控制所述清洁设备执行第一自清洁动作,包括:

12、获取基于所述清洁件的含水量确定的所述负压发生器的第一工作功率;其中,所述第一工作功率与所述清洁件的含水量呈正相关关系;按照所述第一工作功率控制所述负压发生器工作;以及

13、获取基于所述清洁件的含水量确定的所述清洁件的第二工作功率;其中,所述第二工作功率与所述清洁件的含水量呈正相关关系;按照所述第二工作功率控制所述清洁件工作。

14、可选地,所述控制所述清洁设备执行第一自清洁动作,包括:

15、在所述清洁件的含水量大于第二含水量阈值的情况下,控制所述清洁设备执行第一自清洁动作;

16、在所述清洁件的含水量小于或等于第二含水量阈值的情况下,取消所述清洁设备执行第一自清洁动作。

17、可选地,所述清洁设备和/或所述基站还包括干燥组件,所述第一自清洁动作还包括:所述干燥组件工作;

18、其中,所述干燥组件包括加热组件和/或吹风组件。可选地,所述方法还包括:

19、在所述清洁件的含水量大于第三含水量阈值的情况下,控制所述干燥组件工作。

20、可选地,所述方法还包括:

21、获取所述清洁件上的传感组件采集的所述含水量;

22、或者,

23、获取所述清洁设备在对待清洁表面进行清洁时的工作参数;基于所述工作参数确定所述含水量。

24、可选地,所述控制所述清洁设备执行第二自清洁动作,包括:

25、控制所述清洁件进行至少一次正转和至少一次反转。

26、可选地,所述控制所述清洁件进行至少一次正转和至少一次反转,包括:

27、控制所述清洁件正转、并控制所述喷水机构工作、并控制所述清洁设备的负压发生器关闭,以清洁所述清洁件;

28、在正转达到第一预设时长的情况下,控制所述清洁件交替进行正转和反转、并控制所述喷水机构关闭、并控制所述清洁设备的负压发生器工作,以清洁所述清洁设备的管道;

29、在所述管道的清洁时长达到第二预设时长的情况下,控制所述清洁件正转、并控制喷水机构开启、负压发生器关闭;之后控制所述清洁件交替进行正转和反转、控制所述喷水机构关闭、并控制所述清洁设备的负压发生器工作,以深度清洁所述清洁设备。

30、另一方面,本技术提供清洁设备,所述清洁设备包括清洁件、用于喷水的喷水机构和负压发生器;

31、与所述清洁件、所述喷水机构、所述负压发生器分别相连的处理器和与所述处理器相连的存储器,所述存储器中存储有程序,所述处理器执行所述程序时用于实现上述方面提供的清洁设备的自清洁方法。

32、又一方面,本技术还提供计算机可读存储介质,其特征在于,所述存储介质中存储有程序,所述程序被处理器执行时用于实现上述方面提供的清洁设备的自清洁方法。

33、本技术提供的清洁设备的自清洁方法,通过在清洁设备与基站对接的情况下,响应于对清洁设备的自清洁指令,控制清洁设备执行第一自清洁动作,第一自清洁动作包括清洁件运行、负压发生器工作、以及喷水机构关闭;在第一自清洁动作完成后,控制清洁设备执行第二自清洁动作,第二自清洁动作包括清洁件运行、负压发生器工作或关闭、以及喷水机构工作;可以解决在初始阶段启动喷水机构向清洁附件喷水时,由于清洁附件在执行清洁工作完成后含水量较大,导致在初始阶段清洁附件产生的液体或泡沫过多溢出基站的问题;同时解决由于清洁槽内残留有水分使得清洁附件吸水导致含水量增大,导致在初始阶段向清洁附件喷水时,清洁附件产生的液体或泡沫过多溢出基站的问题;由于负压发生器的启动可以抽吸污水,因此,可以在初始阶段先降低清洁附件和基站的清洁槽内的污水的含量,这样,在后续向清洁附件喷水时,特别是用户在清洁槽内添加了清洁液的情况下,清洁附件和清洁槽内的液体的含量不会过多,可以降低液体或泡沫溢出基站造成地面二次脏污的概率,提高清洁设备的自清洁效果;同时,也可以保证清洁件的含水量不会过低,从而保证后续向清洁附件喷水时无需消耗较多的喷水量,减少能源的消耗。

34、另外,通过在含水量小于第一含水量阈值的情况下停止执行第一自清洁动作,可以使得清洁设备适应性地基于清洁件的含水量确定第一自清洁动作的停止时机,提高清洁设备的智能化程度。

35、另外,通过按照相适配的第一预设功率和第二预设功率分别控制负压发生器和清洁件工作,一方面可以保证清洁件的含水量不会太高,从而避免后续向清洁附件喷水时,液体或泡沫溢出基站造成地面二次脏污的问题;另一方面可以保证清洁件的含水量不会太低,从而避免之后需要向清洁件大量喷水导致资源消耗较多的问题。

36、另外,通过基于清洁件的含水量调节负压发生器的第一工作功率以及清洁件的第二工作功率,可以提高清洁设备的智能化程度。

37、另外,通过在含水量小于或等于第二含水量阈值的情况下,不执行第一自清洁动作,直接执行第二自清洁动作,可以使得清洁设备基于清洁附件的含水量适应性地决定是否跳过第一自清洁动作,一方面可以提高自清洁效率,另一方面可以节省清洁设备消耗的资源。

38、另外,通过设置第一自清洁动作包括干燥组件工作,使得干燥组件可以辅助降低清洁件的含水量,进一步提高降低清洁件的含水量的速率。

39、另外,通过在清洁件的含水量大于第三含水量阈值的情况下,控制所述干燥组件工作,可以使得清洁设备基于清洁件的含水量自适应地决定是否启动干燥组件,以辅助降低清洁件的含水量,提高清洁设备的智能化程度。

40、另外,通过基于清洁设备执行清洁工作时的工作参数计算含水量,使得清洁件上无需安装传感组件,可以简化设备结构。

41、另外,通过在执行第二自清洁动作的过程中结合清洁件的正转和反转,在正转时可以清理清洁件上的垃圾,而反转滚刷之后,滚刷的绒毛变得相对蓬松,会使得绒毛之间的间隙中的杂质掉下来,提高清洁件的清洁效果,同时反转还可以实现对清洁设备上管道的清洁,进一步提高清洁设备的控制效果。

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