足浴盆的制作方法

1.本实用新型涉及个护健康设备技术领域，具体而言，涉及一种足浴盆。


背景技术：

2.足浴是一种常见的养生方式；相关技术提供的足浴盆通常都设置有用于进行足底按摩的按摩组件。各式各样的按摩组件可以带来各种不同的按摩体验，例如：按摩组件可以是硬性的或软性的，硬性按摩组件通常适合于脚皮质较厚的人群，若是这类人群使用软性按摩组件，会觉得按摩力度弱，降低了体验感；软性按摩组件通常适合于脚皮质脚薄的人群，若是这类人群使用硬性按摩组件，则容易因摩擦导致起水泡的问题，体验不佳。
3.但是，相关技术提供的足浴盆难以灵活地调节按摩时的体验感，难以满足不同的需求，用户体验不佳。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种足浴盆，其能够根据需要调节按摩时的体验感，以满足不同的需求，改善用户体验。
5.本实用新型的实施例是这样实现的：
6.本实用新型提供一种足浴盆，包括：
7.盆体；
8.按摩组件，按摩组件设置于盆体；
9.覆盖组件，覆盖组件可转动地设置于盆体，且覆盖组件具有遮挡按摩组件的遮挡位置和露出按摩组件的收纳位置。
10.在可选的实施方式中，盆体和覆盖组件两者中的一者设置有第一限位件，盆体和覆盖组件两者中的另一者能与第一限位件抵接，以防止覆盖组件向收纳位置转动时越过收纳位置。
11.在可选的实施方式中，盆体设置有第一限位件，覆盖组件设置有第二限位件，第二限位件能与第一限位件抵接，以防止覆盖组件向收纳位置转动时越过收纳位置。
12.在可选的实施方式中，足浴盆包括两个按摩组件和两个覆盖组件，两个覆盖组件与两个按摩组件一一对应地设置。
13.在可选的实施方式中，其中一个覆盖组件设置有锁定件，另一个覆盖组件设置有配合件，当两个覆盖组件均位于收纳位置时，锁定件与配合件配合，以使两个覆盖组件均被锁定于收纳位置。
14.在可选的实施方式中，盆体和覆盖组件两者中的一者设置有定位件，盆体和覆盖组件两者中的另一者能与定位件配合，以使覆盖组件被锁定于遮挡位置。
15.在可选的实施方式中，覆盖组件设置有定位件，盆体设置有定位槽，定位件能与定位槽插接配合，以使覆盖组件被锁定于遮挡位置。
16.在可选的实施方式中，覆盖组件包括覆盖件和框架，覆盖件设置于框架，框架与盆
体转动连接，覆盖件能遮挡或露出按摩组件。
17.在可选的实施方式中，盆体包括底座和盖体，盖体设置于底座，且盖体设置有避让孔；按摩组件设置于底座，且能从避让孔凸出；覆盖组件可转动地设置于盖体。
18.在可选的实施方式中，盆体和覆盖组件两者中的一者设置有转轴，盆体和覆盖组件两者中的另一者设置有插接孔，转轴与插接孔插接配合。
19.本实用新型实施例的足浴盆的有益效果包括：本实用新型实施例提供的足浴盆包括盆体、按摩组件和覆盖组件；按摩组件设置于盆体；覆盖组件可转动地设置于盆体，且覆盖组件具有遮挡按摩组件的遮挡位置和露出按摩组件的收纳位置。这样一来，在使用足浴盆时，可以将覆盖组件转动至遮挡位置，以使用户通过覆盖组件与按摩组件接触，或者将覆盖组件转动至收纳位置，以使用户直接与按摩组件接触，即可通过覆盖组件的位置调节获得不同的按摩体验感，以满足不同的需求，改善用户体验。
附图说明
20.为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
21.图1为本实用新型实施例中足浴盆的分解结构示意图；
22.图2为本实用新型实施例中足浴盆的结构示意图；
23.图3为本实用新型实施例中覆盖组件位于遮挡位置时，足浴盆的局部结构示意图；
24.图4为本实用新型实施例中覆盖组件位于收纳位置时，足浴盆的局部结构示意图；
25.图5为本实用新型实施例中足浴盆的局部结构示意图；
26.图6为本实用新型实施例中其中一个覆盖组件的结构示意图；
27.图7为本实用新型实施例中其中另一个覆盖组件的结构示意图。
28.图标：010-足浴盆；100-盆体；110-底座；111-盖体；112-避让孔；120-桶身；121-容纳腔；130-顶盖；200-按摩组件；300-覆盖组件；310-覆盖件；320-框架；321-框架本体；322-连接臂；401-第一限位件；402-第二限位件；403-锁定件；404-配合件；405-定位件；406-定位槽；407-转轴；408-插接孔。
具体实施方式
29.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
30.因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
31.应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一
个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
32.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
33.在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
34.请参照图1和图2，本实施例提供一种足浴盆010，其包括盆体100和按摩组件200，按摩组件200设置于盆体100，以便于用户在进行足浴时，还可以同时利用按摩组件200进行足底按摩。
35.盆体100包括底座110和桶身120，按摩组件200和桶身120均设置于底座110，且桶身120具有容纳腔121，按摩组件200伸入容纳腔121内，且容纳腔121用于盛装足浴用的水或药液等。
36.可选地，盆体100还包括顶盖130，顶盖130与桶身120连接，以遮挡部分的容纳腔121的开口，以便于提高足浴盆010的保温性。
37.按摩组件200可以根据需要选择，本实施例的按摩组件200包括可转动地设置于底座110的按摩滚轮；当然，在其他实施例中，按摩组件200包括固定设置于底座110的按摩凸齿，在此不作具体限定。
38.可选地，请继续参照图1，盆体100还包括盖体111，盖体111设置于底座110，且盖体111设置有避让孔112；按摩组件200能从避让孔112凸出；如此设置，可以通过盖体111将按摩组件200可靠地设置于底座110，并减少外界环境对按摩组件200造成的不必要的撞击，减少按摩组件200出现损伤的情况。
39.为了使用户在使用足浴盆010进行足底按摩时，能够根据需要选择不同的按摩体验感；请参照图3和图4，本实施例的足浴盆010还包括覆盖组件300，覆盖组件300可转动地设置于盆体100，且覆盖组件300具有遮挡按摩组件200的遮挡位置和露出按摩组件200的收纳位置。在使用足浴盆010时，可以将覆盖组件300转动至遮挡位置，以使用户通过覆盖组件300与按摩组件200接触，或者将覆盖组件300转动至收纳位置，以使用户直接与按摩组件200接触，即可通过覆盖组件300的位置调节获得不同的按摩体验感，以满足不同的需求，改善用户体验。
40.特别是，相关技术提供的按摩组件通常分为硬性的或软性的。硬性的按摩组件通常适合于脚皮质较厚的用户，若是这类用户使用软性按摩组件，会觉得按摩力度弱，降低了体验感；软性按摩组件通常适合于脚皮质脚薄的用户，若是这类用户使用硬性按摩组件，则容易因摩擦导致起水泡的问题，体验不佳。
41.为了改善上述问题，可以将覆盖组件300和按摩组件200用软硬度不同的材质制备，按摩组件200可以由硬质塑料制备，覆盖组件300可以由硅胶材料或橡胶材料制备。这样
一来，覆盖组件300相比于按摩组件200的触感柔软；当覆盖组件300转动至遮挡位置将按摩组件200遮挡起来时，用户通过触感柔软的覆盖组件300与按摩组件200接触，即用户未直接与按摩组件200接触，即可进行触感较软的按摩，改善因摩擦导致用户的皮肤气泡等问题；当覆盖组件300转动至收纳位置将按摩组件200露出时，用户能够直接与触感为硬性的按摩组件200接触，即可进行触感较硬的按摩，有利于改善肤质较厚的用户的使用体验。
42.当然，在一些实施方式中，按摩组件200也可以是由硅胶材料制备的，其可以相对于覆盖组件300硬度更大即可。
43.还在一些实施方式中，覆盖组件300的软硬度和按摩组件200的软硬度可以设置为相同或大致相同的；无论按摩组件200是按摩滚轮还是按摩凸齿，其都包括用于按摩穴位的凸起部分，当覆盖组件300转动至收纳位置，且用户直接与按摩组件200接触时，会直接与按摩组件200的凸起部分接触并按压，这样通常都具有较强的按摩体验感，容易导致用户感觉到按摩的力度太大，转动覆盖组件300使其转动至遮挡位置，用户则通过覆盖组件300与按摩组件200接触，而不是直接与按摩组件200的凸起部分接触并按压，按摩体验感能够被减弱，以达到减小按摩力度的作用；这样一来，也可以根据需要调节足浴盆010的按摩感，提升用户体验。
44.覆盖组件300的结构可以根据需要设置，请参照图3，本实施例的覆盖组件300包括覆盖件310和框架320，覆盖件310设置于框架320，框架320与盆体100转动连接，覆盖件310能遮挡或露出按摩组件200。通过框架320的设置，便于将覆盖件310可靠地设置于盆体100。
45.覆盖组件300可以由硅胶材料或橡胶材料制备，可以是指：仅覆盖件310由硅胶材料或橡胶材料制备，框架320由硬质塑料或铝合金等材料制备；还可以是指覆盖件310和框架320均是由硅胶或橡胶材料制备的，在此不作具体限定。
46.需要说明的是，覆盖件310由较软的材料制成，当覆盖件310遮挡在按摩组件200上时，用户通过覆盖件310与按摩组件200接触，即可获得较软的按摩触感。
47.进一步地，为了使覆盖组件300能够可靠地遮挡或露出按摩组件200，覆盖组件300可转动地设置于盖体111，即框架320与盖体111可转动地连接。
48.框架320的结构可以根据需要设置；请继续参照图3，本实施例的框架320包括框架本体321和连接臂322，覆盖件310设置于框架本体321，连接臂322的一端与框架本体321固定连接，另一端与盖体111可转动地连接；如此设置，确保了覆盖组件300的转动灵活性，进而确保用户转动覆盖组件300以调节按摩的软硬触感的可靠性。
49.框架本体321与连接臂322的连接方式包括但不限于一体成型、螺纹连接、卡接或用螺钉等紧固件连接，在此不作具体限定。
50.覆盖件310设置于框架本体321的方式可以根据需要选择；本实施例的覆盖件310与框架本体321卡接，具体地，框架本体321设置有围着框架本体321的周向分布的一圈卡接槽，覆盖件310与卡接槽卡接。当然，在其他实施例中，覆盖件310与框架本体321的连接方式还可以是粘接或通过螺钉等紧固件连接，在此不作具体限定。
51.需要说明的是，在一些实施方式中，框架320仅包括框架本体321，框架本体321直接与盖体111转动连接，以使设置于框架本体321的覆盖件310能够随框架本体321同步转动。
52.为了使覆盖组件300与盆体100可靠地转动连接，请参照图3和图5，盆体100设置有
转轴407，具体地，盖体111连接有转轴407；覆盖组件300设置有插接孔408，具体地，连接臂322远离框架本体321的一端设置有插接孔408，转轴407与插接孔408插接配合；如此设置，即可使得覆盖组件300能绕转轴407的轴线可靠、灵活地在遮挡位置和收纳位置之间转动。
53.进一步地，覆盖组件300通过两个转轴407可转动地设置于盖体111；具体地，沿转轴407的转动轴线方向，两个转轴407间隔分布；框架本体321连接有两个连接臂322，两个连接臂322均设置有插接孔408，两个转轴407于两个插接孔408一一对应地插接。如此设置，能够确保覆盖组件300可靠地设置于盖体111，且确保覆盖组件300顺畅、稳定地转动。
54.需要说明的是，扳动连接臂322可以使转轴407和插接孔408分离，以便于将覆盖组件300拆卸，进而可以根据需要更换、维护覆盖组件300。
55.应当理解，在其他实施例中，盆体100设置有插接孔408，即盖体111设置有插接孔408；覆盖组件300设置有转轴407，即连接臂322远离框架本体321的一端连接有转轴407，转轴407与插接孔408插接。
56.还有一些实施例中，盆体100和覆盖组件300均设置有插接孔408，即盖体111和连接臂322均设置有插接孔408，转轴407同时插接于盖体111和连接臂322两者设置的插接孔408内。
57.请参照图3-图5，本实施例中，盆体100设置有第一限位件401，具体地，盖体111设置有第一限位件401，覆盖组件300能与第一限位件401抵接，以防止覆盖组件300向收纳位置转动时越过收纳位置。如此设置，通过第一限位件401的设置限定了覆盖组件300转动的角度，避免覆盖组件300转动至收纳位置后还继续过度转动。
58.进一步地，覆盖组件300设置有第二限位件402，第二限位件402能与第一限位件401抵接，以防止覆盖组件300向收纳位置转动时越过收纳位置。通过第一限位件401和第二限位件402的配合，能够确保覆盖组件300可靠地转动至收纳位置而不会越过收纳位置。
59.再进一步地，请结合图4、图6和图7，第二限位件402连接于连接臂322，且第二限位件402靠近插接孔408设置；如此设置，在覆盖组件300转动至收纳位置时，能够确保第二限位件402与第一限位件401可靠地抵接，以可靠地确保覆盖组件300在转动时不会越过收纳位置。
60.需要说明的是，第二限位件402与连接臂322的连接方式包括但不限于一体成型、卡接或螺纹连接等，在此不作具体限定。
61.还需要说明的是，第一限位件401和第二限位件402可以是限位柱、限位凸块等，在此不作具体限定。
62.当然，在其他实施例中，可以在覆盖组件300设置第一限位件401，第一限位件401能与盆体100抵接，即第一限位件401能与盖体111抵接，以防止覆盖组件300向收纳位置转动时越过收纳位置。
63.在其他实施例中，连接臂322没有连接第二限位件402；当覆盖组件300转动至收纳位置时，连接臂322能与第一限位件401抵接，以使覆盖组件300向收纳位置转动时不会越过收纳位置。
64.请参照图3和图4，本实施例的足浴盆010包括两个按摩组件200和两个覆盖组件300，两个覆盖组件300与两个按摩组件200一一对应地设置；如此设置，便于用户同时使用两组按摩组件200进行双足的足底按摩。
65.需要说明的是，在使用足浴盆010时，用户还可以根据需要选择，将两个覆盖组件300均转动至遮挡位置，以使两个按摩组件200都被对应的覆盖组件300遮挡，进而使双足都进行触感脚软的按摩；或者将两个覆盖组件300均转动至收纳位置，以使两个按摩组件200都被露出，进而使双足都进行触感较硬的按摩；或者将其中一个覆盖组件300转动至遮挡位置，另一个覆盖组件300转动至收纳位置，使得一个按摩组件200被遮挡，另一个按摩组件200被露出，进而可以使双足分别体验两种不同软硬度的按摩。
66.请参照图4，本实施例中，使两个覆盖组件300与盖体111转动连接的转轴407均分布于两个按摩组件200之间，当两个覆盖组件300均转动至各自的收纳位置时，两个覆盖组件300远离各自转轴407的一侧能相互靠近或抵接，即可在不需要使用覆盖组件300时，使两个覆盖组件300大致收纳于容纳腔121的中部。
67.请参照图3、图4和图6，为了确保两个覆盖组件300均位于收纳位置时的稳定性，其中一个覆盖组件300设置有锁定件403，当两个覆盖组件300均位于收纳位置时，锁定件403与另一个覆盖组件300配合，以使两个覆盖组件300均被锁定于收纳位置。
68.进一步地，请参照图3、图4和图7，另一个覆盖组件300设置有配合件404，当两个覆盖组件300均位于收纳位置时，锁定件403与配合件404配合，以使两个覆盖组件300均被锁定于收纳位置。通过配合件404和锁定件403的配合，能够可靠地将两个覆盖组件300锁定于收纳位置，进而确保了用户直接与按摩组件200接触，以使用按摩组件200进行触感较硬的按摩的操作便捷性。
69.可选地，锁定件403和配合件404分别设置于对应的覆盖组件300远离转轴407的一侧，以便于两个覆盖组件300均转动至收纳位置时，两个覆盖组件300远离各自转轴407的一端能够被可靠地锁定在一起，进而确保两个覆盖组件300均可靠地被锁定于收纳位置。
70.配合件404和锁定件403均可以根据需要选择；本实施例的锁定件403为锁钩，配合件404为扣套，当两个覆盖组件300均转动至收纳位置时，锁钩与扣套钩接，以使两个覆盖组件300被锁定于收纳位置。
71.当然，在一些实施方式中，锁定件403还可以是公扣，配合件404还可以是母扣，当两个覆盖组件300均转动至收纳位置时，公扣与母扣扣合，以使两个覆盖组件300被锁定于收纳位置。
72.在另一些实施方式中，锁定件403为卡勾，未设置锁定件403的另一个覆盖组件300设置有卡槽，当两个覆盖组件300均转动至收纳位置时，卡勾与卡槽卡接，以使两个覆盖组件300被锁定于收纳位置。
73.需要说明的是，在又一些实施方式中，覆盖组件300未设置锁定件403和配合件404，当两个覆盖组件300均转动至收纳位置时，可以用夹子将两个覆盖组件300夹持起来，以使两个覆盖组件300被锁定于收纳位置。
74.可选地，锁定件403和配合件404可以设置于各自对应的覆盖组件300的覆盖件310或框架本体321上，在此不作具体限定。
75.应当理解，在其他实施例中，使其中一个覆盖组件300与盖体111转动连接的转轴407分布于其中一个按摩组件200远离另一个按摩组件200的一侧，使另一个覆盖组件300与盖体111转动连接的转轴407分布于其中另一个按摩组件200远离其中一个按摩组件200的一侧，当两个覆盖组件300向各自的收纳位置转动时，两个覆盖组件300分别向贴合于桶身
120的内壁的方向转动，即两个覆盖组件300远离各自转轴407的一端向相互远离的方向转动。
76.可选地，在上述其他实施例中，覆盖组件300设置有锁定件403，锁定件403用于与桶身120配合，以使覆盖组件300能够通过锁定件403和桶身120的配合被锁定于收纳位置；其中，锁定件403包括但不限于卡扣、公扣等部件，相应的桶身120可以设置于卡扣配合的卡槽、或者与公扣配合的母扣等部件。
77.为了确保覆盖组件300能够可靠地位于遮挡位置；请参照图3、图6和图7，本实施例的覆盖组件300设置有定位件405，盆体100能够与定位件405配合，以使覆盖组件300被锁定于遮挡位置。特别是，在用户隔着覆盖组件300利用按摩组件200进行足底按摩时，通过定位件405和盆体100的配合，确保覆盖组件300可靠地遮挡按摩组件200，改善用户进行足底按摩的过程中覆盖组件300容易错位的问题，进而提升用户体验。
78.进一步地，请参照图3和图5，盆体100设置有定位槽406，具体地，盖体111设置有定位槽406；定位件405包括但不限于定位块、定位柱等，定位件405连接于框架本体321，且能与定位槽406插接配合，以使覆盖组件300被锁定于遮挡位置。
79.再进一步地，盖体111设置有多个定位槽406，且每个按摩组件200的外周均分布有多个定位槽406；框架本体321连接有多个定位件405，当覆盖组件300转动至遮挡位置时，多个定位件405与多个定位槽406一一对应地插接，以使覆盖组件300被稳定地锁定于遮挡位置。
80.需要说明的是，定位件405与框架本体321的连接方式包括但不限于一体成型、卡接、粘接等，在此不作具体限定。
81.当然，在其他实施例中，盆体100设置有定位件405，即盖体111设置有定位件405，框架本体321设置有定位槽406，定位件405能与插接槽配合，以将覆盖组件300被锁定于遮挡位置。
82.在其他实施例中，定位件405为设置于框架本体321的卡齿，盖体111设置有凸齿，当覆盖组件300转动至遮挡位置时，卡齿与凸齿卡接，以使覆盖组件300被锁定于遮挡位置。
83.本实施例的足浴盆010在使用时，可以根据需要转动覆盖组件300；当覆盖组件300转动至遮挡位置时，覆盖组件300遮挡按摩组件200，以便于用户通过覆盖组件300与按摩组件200接触，进行触感较软的按摩；当覆盖组件300转动至收纳位置时，覆盖组件300将按摩组件200露出，以便于用户直接与按摩组件200接触，进行触感较硬的按摩。
84.综上所述，本实用新型的足浴盆010能够根据需要调节按摩时的体验感，以满足不同的需求，改善用户体验。
85.以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。