新生儿沐浴架

文档序号:36870836发布日期:2024-02-02 20:51阅读:13来源:国知局
新生儿沐浴架

本技术涉及新生儿护理,尤其涉及新生儿沐浴架。


背景技术:

1、针对新生儿的护理,其中就包括针对新生儿身体的沐浴清洗,新生儿由于体态娇小,无法和护理人员进行交流,因此在沐浴清洗的过程中,传统成人沐浴清洗的用品及清洗方式不适合新生儿。

2、针对上述现象,我们提出了用于新生儿沐浴清洗的新生儿沐浴架。


技术实现思路

1、本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的新生儿沐浴架。

2、为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

3、新生儿沐浴架,包括两块承载板和设在承载板之间的躺卧板,所述躺卧板的端面呈c字型,所述躺卧板的侧边分别与相邻的承载板的边沿固定连接,所述承载板、躺卧板的上表面共同粘覆有覆盖板。

4、所述躺卧板后端设有端面呈c字型的头部承载软板,所述头部承载软板与对应的覆盖板之间相连接,所述头部承载软板内部嵌入有若干间隔排列的弹性支撑架。

5、所述躺卧板后端下表面的中部固定安装有内螺纹筒,所述躺卧板通过内螺纹筒安装有调节杆,所述调节杆的前端开设有螺纹并贯穿内螺纹筒,所述调节杆后端的外部套设有截面呈梯形的调节盘,且所述调节杆后端的端面固定安装有调节把手。

6、优选的,所述承载板前端与所连接的躺卧板的部分共同向下弯曲呈弧形状。

7、优选的,所述承载板呈水平部分的两端的下表面固定安装有插接头,所述插接头下端插接有插接柱,所述插接柱的下端呈开口状态并螺纹连接有螺纹柱,所述螺纹柱位于插接柱下端外部的端头上固定连接有吸盘。

8、优选的,所述覆盖板前端上表面的中部设有呈凸出状态的止退挡板,所述止退挡板与覆盖板为一体式结构。

9、优选的,所述头部承载软板、覆盖板、止退挡板均为硅胶软板。

10、优选的,所述头部承载软板、躺卧板、覆盖板上均开设有间隔分布的镂空孔,所述躺卧板、覆盖板上的镂空孔呈对齐状态。

11、本实用新型提出的新生儿沐浴架,有益效果在于:本技术方案在应用的过程中,整个沐浴架为放置在沐浴盆内使用,基于沐浴盆内水位的高低,可预先调节螺纹柱相对插接柱的伸出长度来控制沐浴架相对沐浴盆盆底的高度,从而实现沐浴架相对沐浴盆内水位高度的可调设置,使用调节过程方便,且在吸盘与沐浴盆盆底稳定吸合的状态下,能够实现整个沐浴架的稳定放置,避免出现清洗过程沐浴架倾倒及所引发的新生儿呛水现象的发生;

12、在进一步的沐浴清洗的过程中,头部承载软板的弯曲弧度可通过转动调节盘进行控制,因此在实现控制头部承载软板的弯曲弧度以及躺卧板前端自身呈弯曲状的情况下,有利于新生儿躺卧过程中的放松舒适,从而有利于提高在洗浴过程中新生儿的配合度,降低新生儿洗浴过程中烦躁、不配合的现象,进而降低沐浴清洗过程中的操作难度,有利于使用。



技术特征:

1.新生儿沐浴架,包括两块承载板(1)和设在承载板(1)之间的躺卧板(2),其特征在于,所述躺卧板(2)的端面呈c字型,所述躺卧板(2)的侧边分别与相邻的承载板(1)的边沿固定连接,所述承载板(1)、躺卧板(2)的上表面共同粘覆有覆盖板(7);

2.根据权利要求1所述的新生儿沐浴架,其特征在于,所述承载板(1)前端与所连接的躺卧板(2)的部分共同向下弯曲呈弧形状。

3.根据权利要求2所述的新生儿沐浴架,其特征在于,所述承载板(1)呈水平部分的两端的下表面固定安装有插接头(3),所述插接头(3)下端插接有插接柱(4),所述插接柱(4)的下端呈开口状态并螺纹连接有螺纹柱(5),所述螺纹柱(5)位于插接柱(4)下端外部的端头上固定连接有吸盘(6)。

4.根据权利要求1所述的新生儿沐浴架,其特征在于,所述覆盖板(7)前端上表面的中部设有呈凸出状态的止退挡板(8),所述止退挡板(8)与覆盖板(7)为一体式结构。

5.根据权利要求1所述的新生儿沐浴架,其特征在于,所述头部承载软板(9)、覆盖板(7)、止退挡板(8)均为硅胶软板。

6.根据权利要求1所述的新生儿沐浴架,其特征在于,所述头部承载软板(9)、躺卧板(2)、覆盖板(7)上均开设有间隔分布的镂空孔(11),所述躺卧板(2)、覆盖板(7)上的镂空孔(11)呈对齐状态。


技术总结
本技术公开了新生儿沐浴架,包括两块承载板和设在承载板之间的躺卧板,承载板、躺卧板的上表面共同粘覆有覆盖板,躺卧板后端设有端面呈C字型的头部承载软板,头部承载软板与对应的覆盖板之间相连接,头部承载软板内部嵌入有若干间隔排列的弹性支撑架,躺卧板后端下表面的中部固定安装有内螺纹筒,躺卧板通过内螺纹筒安装有调节杆,调节杆后端的外部套设有截面呈梯形的调节盘。本技术在使用过程中可实现高度的调节以及稳定放置,避免出现倾倒及所引发的新生儿呛水现象的发生,且沐浴清洗过程中有利于新生儿躺卧过程中的舒适、放松,避免出现新生儿洗浴过程中烦躁、不配合的现象,有利于使用。

技术研发人员:齐珍珍,李华,姚嫣秋,范仁嘉
受保护的技术使用者:武汉科技大学
技术研发日:20230704
技术公布日:2024/2/1
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