保健用洗脚盆的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种洗脚盆，尤其是一种保健洗脚盆。
【背景技术】
[0002]人体所有器官都有神经延接至足部，泡脚、按摩脚底可以促进人体血液循环，疏通人体能源循环管道的障碍，增进内分泌平衡，缓和趋于紧张的系统，提高睡眠质量，对维护人体健康具有重要作用。由于具有按摩作用的足浴盆生产成本高，价格昂贵，日常生活中，人们通常使用的还是普通洗脚盆，难以达到保健的作用。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是为克服上述现有技术的不足，提供一种保健用洗脚盆。
[0004]本发明的技术方案为:一种保健用洗脚盆，包括盆体、保温层、滚珠架、滚珠，所述保温层内底部设有滚珠架，滚珠架上均布有可以转动的滚珠，用于洗脚时搓动双脚，通过滚珠摩擦脚底，起到按摩活血的作用；所述盆体内设有保温层，盆体上面盖有盆盖，通过保温层和盆盖，起到减缓热量散发，延长搓脚、泡脚时间的作用。
[0005]所述保温层与盆体之间形成真空室，保温层底与盆体之间设有五根支撑柱，用于固定保温层，防止搓脚时保温层受力损坏。
[0006]所述盆盖与盆体之间滑动连接，用于使用者依据自己的需要调节盆口的大小；所述盆盖一侧设有方便使用和减少热量的散失的双弧形。
[0007]本发明的有益效果在于:本发明即可以按摩使用者脚底，起到加快脚底血液循环的作用，又可以起到减缓热量散发，延长搓脚、泡脚时间的作用。使用方便，制造成本低。
【附图说明】
[0008]图1为本发明结构示意图；
图2为盆盖TK意图。
【具体实施方式】
[0009]下面结合附图和实施例对本发明进行进一步阐述，应该说明的是，下述说明是为了解释本发明，并不对其内容进行限定。
[0010]如图1所示，本发明的保健用洗脚盆，包括盆体1，保温层2，盆盖3，滚珠4，滚珠架5，支撑6。
[0011]保温层2内底部设有滚珠架5，滚珠架5上均布有可以转动的滚珠4，用于洗脚时搓动双脚，通过滚珠摩擦脚底，起到按摩活血的作用；盆体I内设有保温层2，盆体I上面盖有盆盖3，通过保温层2和盆盖3。
[0012]保温层2与盆体I之间形成真空室，保温层2底与盆体I之间设有五根支撑柱6，用于固定保温层2，防止搓脚时保温层2受力损坏。盆盖3与盆体I之间滑动连接，用于使用者依据自己的需要调节盆口的大小；盆盖3 —侧设有方便使用和减少热量的散失的双弧形。
[0013]本发明的保健用洗脚盆除具有一般洗脚盆的功能外还具有另外两种功能。功能一是通过盆底滚珠4摩擦脚底，起到按摩活血的作用。功能二是通过保温层2和盆盖3，起到减缓热量散发，延长搓脚、泡脚时间的作用。保健用洗脚盆的滚珠4规则分散于保温层内底部的滚珠架5上，滚珠4可以在固定处转动，洗脚时搓动双脚，在脚底的滚珠发生转动。所述保健用洗脚盆的保温层2与盆体I之间形成真空室，保温层2底与盆体I之间有五根支撑柱6，用于固定保温层2，防止搓脚时保温层受力损坏。所述保健用洗脚盆的盆盖3与盆体I可以相对滑动，使用者可以依据自己的需要调节盆口的大小，盆盖3—侧为双弧形(如图2)，使用即方便又减少了热量的散失。盆体I与保温层2底部设计为圆角四边形，使用者脚的搓动方向为四边形长边方向，如此设计又节约了材料和用水。
【主权项】
1.一种保健用洗脚盆，包括盆体(I)、保温层(2)、盆盖(3)、滚珠(4)、滚珠架(5)、支撑(6)，其特征在于:保温层(2)内底部设有滚珠架(5)，滚珠架(5)上均布有可以转动的滚珠(4)，用于洗脚时搓动双脚，通过滚珠摩擦脚底，起到按摩活血的作用；所述盆体(I)内设有保温层(2)，盆体(I)上面盖有盆盖(3)，通过保温层(2)和盆盖(3)，起到减缓热量散发，延长搓脚、泡脚时间的作用。
2.根据权利要求1所述的保健用洗脚盆，其特征在于:所述保温层(2)与盆体(I)之间形成真空室，保温层(2)底与盆体(I)之间设有五根支撑柱￠)，用于固定保温层(2)，防止搓脚时保温层(2)受力损坏。
3.根据权利要求1所述的保健用洗脚盆，其特征在于:所述盆盖(3)与盆体(I)之间滑动连接，用于使用者依据自己的需要调节盆口的大小；所述盆盖(3) —侧设有方便使用和减少热量的散失的双弧形。
【专利摘要】本发明涉及一种保健用洗脚盆，包括盆体、支撑、保温层、滚珠架、滚珠，所述保温层内底部设有滚珠架，滚珠架上均布有可以转动的滚珠，用于洗脚时搓动双脚，通过滚珠摩擦脚底，起到按摩活血的作用；所述盆体内设有保温层，盆体上面盖有盆盖，通过保温层和盆盖，起到减缓热量散发，延长搓脚、泡脚时间的作用。本发明即可以按摩使用者脚底，起到加快脚底血液循环的作用，又可以起到减缓热量散发，延长搓脚、泡脚时间的作用。使用方便，制造成本低。
【IPC分类】A61H15-00, A47K3-022, A61H39-04
【公开号】CN104783702
【申请号】CN201510156346
【发明人】王帅, 钱惠国
【申请人】上海应用技术学院
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2015年4月3日