利用土层或者岩层排放雨水的装置制造方法

文档序号:2259502阅读:229来源:国知局
利用土层或者岩层排放雨水的装置制造方法
【专利摘要】一种利用土层及岩层排放雨水的装置,所述水池下端设置有与地下连通的排水通道,将雨水存储在土层或者岩层中。其优点是将雨水就地储存到土层及岩层,减少雨水对地下管道的排泄量,减缓城市洪涝灾害及土地的水土流失,如果在城市排水系统中采用本装置,只有当地下土层充分吸收雨水后,才通过城市排污管向外排泄,大大减少了城市排污管的排污压力。
【专利说明】利用土层或者岩层排放雨水的装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及雨水的储存利用【技术领域】,特别涉及一种利用土层或者岩层排放雨水的装置。
【背景技术】
[0002]近年来城市雨水的排水系统通常各排水口的水集中到排污管进行收集后再引出到污水处理厂或者排到大自然的河流等处,这种集中排放的方式,如果遇雨水太大,超出排污管流量时,就会造成雨水无法排出,产生内涝等灾害。

【发明内容】

[0003]本发明的目的就是提供一种就地将雨水引入地下土层及岩层,增大雨水的存储量,极大减少雨水的排泄,减缓城市洪涝及减少土地的水土流失的利用土层或者岩层排放雨水的装置。
[0004]本发明的解决方案是这样的:充分的利用地下土层及岩层强大的吸水能力,将雨水充分地吸收存储,减少雨水排放。
[0005]具体的技术方案是:所述水池下端设置有与地下连通的排水通道,将雨水存储在地下土层或者岩层中。
[0006]更具体的技术方案还包括:所述排水通道为地下土层的渗井,通过渗井井壁调节渗水面,将雨水存储于土层中。
[0007]进一步的:所述排水通道为排水管,所述排水管伸入地下含水岩层,将雨水通过排水管将雨水排放至含水岩层。
[0008]进一步的:所述渗井填充有易渗材料。
[0009]本发明优点是将雨水就地渗入地下土层及岩层,减少雨水对地下管道的排泄量,减缓城市洪涝灾害及土地的水土流失,如果在城市排水系统中采用本装置,只有当地下土层及岩层充分吸收雨水后,才通过城市排污管向外排泄,大大减少了城市排污管的排污压力。
【专利附图】

【附图说明】
[0010]附图是本发明的实施例。
[0011]图1是本发明实施例一的结构示意图。
[0012]I排放管,2水池,3滤网,4挡砂墙,5 土层,6含水岩层,7深水管,8易渗水材料,9渗井,10溢流口。
[0013]
【具体实施方式】
[0014]实施例一: 如图1所示,是在水池2中同时设置渗井9及排水管的方案,即所述水池下端设置有位于地下土层的渗井9,渗井填充有易渗材料8,通过渗井9井壁调节渗水面,将雨水存储于土层中。同时,所述水池设置有排水管,所述排水管伸入地下含水岩层,将雨水通过排水管将雨水排放至含水岩层。
[0015]雨量小时:
雨水通过排放管I进入水池2。
[0016]进入水池2的雨水通过滤网3到达水池底部。
[0017]水池2底部雨水越过挡砂墙4进入水池2内的渗井9。
[0018]进入渗井9的雨水通过易渗材料8渗入土层5内。
[0019]雨量大时:
雨水通过排放管I进入水池2。
[0020]进入水池2的雨水通过滤网3到达水池2底部。
[0021]水池2底部雨水越过挡砂墙4,部分雨水进入水池2内的渗井9。
[0022]进入渗井9的雨水通过易渗材料8渗入土层5内,另一部分的雨水通过排水管进入含水岩层7。
[0023]雨量大最大时:
雨水通过排放管I进入水池2。
[0024]进入水池2的雨水通过滤网3到达水池2底部。
[0025]水池2底部雨水越过挡砂墙4,部分雨水进入水池2内的渗井9。
[0026]进入渗井9的雨水通过易渗材料8渗入土层5内,另一部分的雨水通过深水管7进入含水岩层7。
[0027]水池2内未能及时排放的雨水通过溢流口 10排放下水道。
[0028]实施例二:
实施例二为实施例一的第一种简化结构,即取消排水管,只保留渗水井,将雨水排到地下土层。
[0029]实施例三:
实施例三为实施例一的第二种简化结构,即取消渗井结构,只保留排水管,直接将雨水排到含水岩层。
【权利要求】
1.一种利用土层或者岩层排放雨水的装置,包括水池,其特征在于:所述水池下端设置有与地下连通的排水通道,将雨水存储在地下土层或者岩层中。
2.根据权利要求1所述的利用土层或者岩层排放雨水的装置,其特征在于:所述排水通道为地下土层的渗井,通过渗井井壁调节渗水面,将雨水存储于土层中。
3.根据权利要求1所述的利用土层或者岩层排放雨水的装置,其特征在于:所述排水通道为排水管,所述排水管伸入地下含水岩层,将雨水通过排水管将雨水排放至含水岩层。
4.根据权利要求2所述的利用土层或者岩层排放雨水的装置,其特征在于:所述渗井填充有易渗材料。
【文档编号】E03F1/00GK103726567SQ201310677593
【公开日】2014年4月16日 申请日期:2013年12月13日 优先权日:2013年12月13日
【发明者】李拓, 兰杰, 李道俊, 陈智强 申请人:柳州市柳港激光科技有限公司
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