一种半灌砼的砌石护面结构的制作方法

本发明属于防洪(潮)减灾领域，主要应用于水利、市政、港口与海岸工程中堤坝坡面、平面的防护，也可应用于公路、铁路等工程的边坡防护。

背景技术：

与“石料”有关的护面结构是常见的、成本较低的坡面与平面的防护结构，一般按有无胶结材料分为两大类，无胶结材料的又分为干砌块石(卵石、条石)、理砌块石、竖砌块石、抛理块石，有胶结材料的分为砼灌砌块石、砂浆砌块石(卵石、条石)、干砌块石砂浆勾缝等。

有胶结材料的砼灌砌块石、浆砌块石(卵石、条石)结构中，石料四周均灌满胶结材料(砼或砂浆)，胶结材料在砌体中的体积占比一般为40％～60％，结构整体性较好，但胶结材料用量大、成本高、透水率很低、适应变形能力差、消浪性能差；干砌块石砂浆勾缝是在干砌块石的基础上进行表面砂浆勾缝，结构整体性比干砌块石好，但勾缝砂浆适应变形能力差、耐久性不高、透水率低、消浪性能差、抗风浪冲击能力不高。

无胶结材料的石料结构，适应变形能力好、透水率高、消浪性能较好、成本低，但整体性差，抗风浪冲击能力不高。

综上所述，现有的与“石料”有关的护面结构存在不少缺点。

技术实现要素：

为了克服已有砌石护面结构的无法兼顾成本和性能的不足，本发明提供一种兼顾成本和性能的半灌砼的砌石护面结构。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种半灌砼的砌石护面结构，由水平向或斜向布置的石料放置而成，石料与相邻石料之间的部分接缝缝隙内灌注胶结材料，灌注高度小于护面结构的石料设计厚度，形成半灌砼。

进一步，所述接缝的三分之一～四分之三厚度范围内灌注胶结材料。

优选的，所述接缝底部灌注胶结材料。

或者是：所述接缝中部灌注胶结材料。

再或者是：所述接缝顶部灌注胶结材料。

所述接缝中部下侧和/或下侧灌注胶结材料。

再进一步，所述护面结构包括灌注单元，所述灌注单元内的石料与相邻石料之间形成半灌砼。所述接缝灌注胶结材料的平面范围，可以规则布置，也可以不规则布置。

相邻灌注单元之间的接缝贯通，形成护面内外可供水、空气进出的排水带。

所述石料为块石、毛石、卵石或条石。当然，也可以是其他石料。

本发明在石料“理抛或理砌或干砌”后，在石料四周部分缝隙(例如一半左右)、部分高度范围(例如一半左右)灌注砼或砂浆等胶结材料；采用不规则灌注时，灌注位置一般为三角缝、较大的直缝，灌注胶结材料后，通常可以使数块石料而不是一大片的石料粘接成一个整体；采用规则灌注时，灌注位置为中间一整片石料之间的缝隙，四周石料的部分缝隙不灌注，形成一个相对施工操作方便的灌注单元，灌注单元之间的接缝不灌注，灌注单元的最中间的石料四周的缝隙视情不灌注或埋设排水孔。

采用“半灌砼”的砌石护面结构，既综合了有胶结材料石料结构与无胶结材料石料结构的优点，又避免了两者的缺点；可以单独作为护面结构，也可先作为施工期临时护面结构、二期加石料或砼以补正沉降差异后再作为永久护面结构。

本发明的有益效果主要表现在：与常规的“砼灌砌块石”相比，本发明只灌注部分砼或砂浆等胶结材料，大幅度提高砌体的透水率、适应变形能力和消浪性能，大幅减少胶结材料用量，从而降低造价；与常规无胶结材料砌体相比，大大提高砌体的整体性、抗风浪冲击能力。

附图说明

图1是一种半灌砼的结构示意图。

图2是另一种半灌砼的结构示意图。

图3是再一种半灌砼的结构示意图。

图4是再另一种半灌砼的结构示意图。

图5是一种砼半灌块(毛)石平面示意图。

图6是另一种砼半灌块(毛)石平面示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步描述。

参照图1～图6，一种半灌砼的砌石护面结构，由水平向或斜向布置的石料1放置而成，石料1与相邻石料之间的部分接缝缝隙内灌注胶结材料2，灌注高度小于护面结构的块石设计厚度，形成半灌砼。

进一步，所述接缝的三分之一～四分之三厚度范围内灌注胶结材料。

优选的，所述接缝底部灌注胶结材料。

或者是：所述接缝中部灌注胶结材料。

再或者是：所述接缝顶部灌注胶结材料。

所述接缝中部下侧和/或下侧灌注胶结材料。

再进一步，所述护面结构包括灌注单元3，所述灌注单元内3的石料与相邻石料之间形成半灌砼。所述接缝灌注胶结材料的平面范围，可以规则布置，也可以不规则布置，不规则布置参考图5，规则布置参照图6。规则灌注时，虚线框以内的接缝需要灌注；根据不同的情况，灌注单元3也可以选择中间石料留缝不灌或者设置排水孔，以实现整个砌石护面结构的排水功能。

相邻灌注单元3之间的接缝贯通，形成护面内外可供水、空气进出的排水带4。

所述石料为块石、毛石、卵石或条石。当然，也可以是其他石料。

本实施例的胶结材料通常为混凝土，也可以采用水泥砂浆、环氧砂浆、环氧砼或水下不扩散砼等。

上述说明并非对本发明的限制，本发明也并不限于上述举例，本技术领域的普通技术人员，在本发明的范围内，做出的变化、改添加或替换，都应属于本发明的保护范围。