一种阴沟结构的制作方法

文档序号:12255440阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开了一种阴沟结构,包括埋设在地面下的阴沟主体和设于阴沟主体顶部的阴沟盖板,阴沟主体侧壁的顶部高于两侧的地面,所述阴沟盖板上设有连通所述阴沟主体两侧地面的雨水渡槽,且该雨水渡槽的内底表面与所述阴沟主体两侧的地面位于同一水平面上,所述阴沟主体的侧壁顶部上设有与雨水渡槽对应的凹槽。本发明的结构简单、设计合理,可在阴沟的每隔一定的距离设置一个雨水渡槽,一般两相邻雨水渡槽的间隔为20米为宜,这样可以使得场地内的雨水畅通无阻,阴沟的大范围使用也不会导致场地积水,同时也免去了对阴沟的线路规划重新设计的麻烦。

技术研发人员:税显治
受保护的技术使用者:税显治
文档号码:201611018790
技术研发日:2016.11.18
技术公布日:2017.02.22

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