盥洗池水漏体用低阻力型翻盖塞的制作方法

文档序号:10436354阅读:356来源:国知局
盥洗池水漏体用低阻力型翻盖塞的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本实用新型涉及一种盥洗池水漏体用低阻力型翻盖塞。
【背景技术】
[0002]盥洗池用翻盖塞是用于与盥洗池的水漏体(下水接头)相配合使用的一种部件,翻盖塞为圆形,嵌置在水漏体中并可以在外力作用下做全方位自由翻转运动,从而作为水漏体的手动阀门起到封闭(盥洗池储水)与打开(盥洗池泄水)的作用。翻盖塞由圆形盖塞本体与密封圈组成,密封圈箍套在盖塞本体中部预设的环槽中,密封圈露出盖塞本体环槽的部分用于与水漏体的内壁接触,以起到支承盖塞本体及密封间隙的作用。目前用于盖塞本体的密封圈都为普通的O型圈,其截面为圆形,因此密封圈箍套在盖塞本体上后其露出盖塞本体环槽用于与水漏体内壁接触的部分的外表面为圆弧面(如附图1所示),如此则造成密封圈与水漏体内壁的接触面积较大,而要保证翻盖塞对于水漏体的活动适应性及密封性,就不得不靠提高加工精度以保证两者能够“严丝合缝”,加之目前翻盖塞及水漏体都趋向于采用塑料材质的情况(相比金属翻盖塞,塑料翻盖塞可能存在在浮力作用下浮脱水漏体的情况,因此更要提高翻盖塞与水漏体的配合精度),则更添加工难度。加工精度要求过高则必然带来生产成本增加、效率降低的问题,同时,密封圈与水漏体内壁的接触面积较大也会使得翻盖塞的翻转阻力过大,影响活动灵活性。因此,此问题亟待解决。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型要解决的技术问题是:现有的盥洗池水漏体用翻盖塞与水漏体之间的摩擦阻力较大,且两者为求完美配合而导致产品的加工精度要求过高,影响产品的生产效率,为了解决该问题,而提供一种盥洗池水漏体用低阻力型翻盖塞,以取代现有的翻盖塞。
[0004]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种盥洗池水漏体用低阻力型翻盖塞,由圆形盖塞本体与密封圈组成,密封圈箍套在盖塞本体中部预设的环槽中,密封圈露出盖塞本体环槽的部分用于与水漏体的内壁接触,密封圈的露出盖塞本体环槽的部分的外表面为棱角面。密封圈的这种设计形式可大大减小密封圈与水漏体内壁的接触面积,从而减小密封圈与水漏体内壁的摩擦阻力,同时尤其对于塑料材质的翻盖塞产品,更能够降低产品(翻盖塞及水漏体)的加工精度要求,降低加工难度从而提高生产效率。
[0005]本实用新型的有益效果是:该盥洗池水漏体用低阻力型翻盖塞与现有的翻盖塞相比,因改进了密封圈的外形结构从而减小了密封圈与水漏体内壁的摩擦阻力,同时尤其对于塑料材质的翻盖塞产品,更能够降低产品(翻盖塞及水漏体)的加工精度要求,降低加工难度从而提高生产效率。
【附图说明】
[0006]下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
[0007]图1是现有翻盖塞的结构示意图。
[0008]图2是本实用新型的结构不意图。
[0009]图3是本实用新型的翻盖塞与水漏体配合后的结构示意图。
[0010]图中:1.盖塞本体2.密封圈3.水漏体
【具体实施方式】
[0011]—种盥洗池水漏体用低阻力型翻盖塞,如图2、图3所示,其由圆形盖塞本体I与密封圈2组成,密封圈2箍套在盖塞本体I中部预设的环槽中,密封圈2露出盖塞本体I环槽的部分用于与水漏体3的内壁接触,密封圈2的露出盖塞本体I环槽的部分的外表面为棱角面。
[0012]密封圈2的这种设计形式可大大减小密封圈2与水漏体3内壁的接触面积,从而减小密封圈2与水漏体3内壁的摩擦阻力,同时尤其对于塑料材质的翻盖塞产品,更能够降低产品(翻盖塞及水漏体)的加工精度要求,降低加工难度从而提高生产效率。
[0013]上述实施例仅用于解释说明本实用新型,而非对本实用新型权利保护的限定,凡是在本实用新型本质方案的基础上进行的任何非实质性的改动,均应落入本实用新型的保护范围内。
【主权项】
1.一种盥洗池水漏体用低阻力型翻盖塞,由圆形盖塞本体(I)与密封圈(2)组成,密封圈(2)箍套在盖塞本体(I)中部预设的环槽中,密封圈(2)露出盖塞本体(I)环槽的部分用于与水漏体(3)的内壁接触,其特征在于:密封圈(2)的露出盖塞本体(I)环槽的部分的外表面为棱角面。
【专利摘要】本实用新型涉及一种盥洗池水漏体用低阻力型翻盖塞,由圆形盖塞本体与密封圈组成,密封圈箍套在盖塞本体中部预设的环槽中,密封圈露出盖塞本体环槽的部分用于与水漏体的内壁接触,密封圈的露出盖塞本体环槽的部分的外表面为棱角面。该盥洗池水漏体用低阻力型翻盖塞与现有的翻盖塞相比,因改进了密封圈的外形结构从而减小了密封圈与水漏体内壁的摩擦阻力,同时尤其对于塑料材质的翻盖塞产品,更能够降低产品(翻盖塞及水漏体)的加工精度要求,降低加工难度从而提高生产效率。
【IPC分类】E03C1/23
【公开号】CN205348304
【申请号】CN201620121847
【发明人】段清洌
【申请人】段清洌
【公开日】2016年6月29日
【申请日】2016年2月2日
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