一种通用型城市人行道地砖的制作方法

文档序号:10136680阅读:407来源:国知局
一种通用型城市人行道地砖的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于市政建筑材料,具体涉及一种通用型城市人行道地砖。
【背景技术】
[0002]人行道一般由不同形状的地砖和不同功能的地砖铺砌而成,如一般地砖、盲道砖、盲道警示砖、植草砖等。这些地砖的缺点在于铺砌时,不同的地砖需要计算后搭配切割、铺设,影响效率,同时浪费材料。同时,地砖之间契合无辅助,容易造成砖块之间衔接高低不平、突出等情况从而造成行人摔倒等危险。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是提供一种通用型城市人行道地砖,此地砖采用通用型设计,通过不同的组合即可达到几种地砖的功效,从而提高铺设效率,减少地砖切割和材料浪费。
[0004]实现本实用新型目的采用的技术方案是:通用型城市人行道地砖,包括条状的六面本体,所述本体的六面分别为前后面、左右面和上下面,所述上下面和左右面构成本体的周边,其中上面为地砖之间可以相互吻合的凹凸状。
[0005]所述本体的周边中左右面的长度之和等于下面长度的1/2。
[0006]所述本体上沿周边设有一圈磁性橡胶材料层。
[0007]所述凹凸状的上面为波浪形。
[0008]本实用新型的有益效果:
[0009]本实用新型地砖由于设有一个波浪形的面,既可以用于各种图案的人行道、植草砖等铺设,也可用于人行道和盲道的组合铺设。在人行道、植草砖等铺设时,将地砖水平放置使其波浪形面朝向一侧,地砖与地砖之间利用相吻合的波浪形面进行拼接;而在铺设盲道时,只需将地砖的波浪形面朝上即可。在本体上沿周边设置一圈磁性橡胶材料层,可以增加地砖之间的吸引力,提高拼接效果,并能有效避免地砖间热胀冷缩带来的影响。本实用新型采用通用型设计,通过不同的组合即可达到几种地砖的功效,具有铺设效率高,平整,质量好,可减少地砖铺设时因不同地砖互相组合而带来的浪费情况等优点。
[0010]下面结合附图进一步说明本实用新型的技术方案。
【附图说明】
[0011]图1是本实用新型的结构示意图。
[0012]图2是本实用新型的立体图。
[0013]图3至图6分别是本实用新型铺设的不同应用。
[0014]图7、图8分别是本实用新型的不同形状。
【具体实施方式】
[0015]见图1、图2,本实用新型提供的通用型城市人行道地砖,包括条状的六面本体2,所述本体2的六面分别为前面4、后面8、左面5、右面7和上面6、下面1,所述上面6、下面1和左面5、右面7构成本体2的周边,其中上面6为地砖之间可以相互吻合的波浪形的凹凸状,所述本体2的周边中左面5、右面7的长度L2、L3之和等于下面长度L1的1/2,所述本体2上沿周边设有一圈磁性橡胶材料层3。
[0016]上面6的凹凸状也可以采用其它形状,如图7、图8所示。
[0017]本实用新型的应用:
[0018]1、普通人行道铺设,如图3所示,每两块地砖利用波浪形面拼接成一个模块,两个模块组成一个方形单元,将多个单元交错方向铺设成人行道。如图4所示,两行地砖之间利用波浪形面错位拼接成一个长方形单元,多个单元平行铺设成人行道。
[0019]2、植草砖铺设,如图5所示,每四块地砖围成一个单元,地砖的波浪形面朝外,单元之间利用地砖的波浪形面拼接成具有内孔图案的植草砖。
[0020]3、人行道和盲道组合铺设,如图6所示,将地砖的波浪形面朝上铺设在中间形成盲道B,在盲道B的两侧铺设普通人行道A。
【主权项】
1.一种通用型城市人行道地砖,包括条状的六面本体(2),所述本体(2)的六面分别为前后面(4、8)、左右面(5、7)和上下面(6、1),其特征是所述上下面(6、1)和左右面(5、7)构成本体(2 )的周边,其中上面(6 )为地砖之间可以相互吻合的凹凸状。2.根据权利要求1所述的通用型城市人行道地砖,其特征是所述本体(2)的周边中左右面(5、7)的长度之和等于下面(1)长度的1/2。3.根据权利要求1或2所述的通用型城市人行道地砖,其特征是所述本体(2)上沿周边设有一圈磁性橡胶材料层(3 )。4.根据权利要求3所述的通用型城市人行道地砖,其特征是所述凹凸状的上面(6)为波浪形。
【专利摘要】本实用新型公开了一种通用型城市人行道地砖,包括条状的六面本体(2),所述本体(2)的六面分别为前后面(4、8)、左右面(5、7)和上下面(6、1),所述上下面(6、1)和左右面(5、7)构成本体(2)的周边,其中上面(6)为地砖之间可以相互吻合的凹凸状。本实用新型采用通用型设计,通过不同的组合即可达到几种地砖的功效,具有铺设效率高,平整,质量好,可减少地砖铺设时因不同地砖互相组合而带来的浪费情况等优点。
【IPC分类】E01C15/00
【公开号】CN205046440
【申请号】CN201520813214
【发明人】樊力源
【申请人】樊力源
【公开日】2016年2月24日
【申请日】2015年10月21日
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